- •Расчет параметров процесса ионно-плазменной обработки материалов
- •Расчет основных параметров низкотемпературной плазмы
- •2. Теоретическая часть
- •3. Исходные данные для расчета
- •4. Порядок выполнения
- •5. Контрольные вопросы
- •Расчет коэффициента распыления изотропной мишени ионами инертных газов
- •Теоретическая часть
- •3. Выполнение работы
- •4.Контрольные вопросы
- •Данные для расчета коэффициента распыления
- •Зависимость коэффициента распыления от порядкового номера элемента мишени при распылении
- •1.1. Понятие плазмы и ее температура
3. Выполнение работы
3.1. Для заданного иона инертного газа (Ne, Ar, Кr, Хе) и материала мишени (см. приложение) найти значение пороговой энергии .
3.2. Произвести расчет коэффициента распыления согласно пункту 2.3.
3.3. Построить график зависимости коэффициента распыления от энергии бомбардирующего иона K(E).
3.4.
Определить время, в течение которого
будет удален слой материала толщиной
1
мкм. Плотность тока
j
принять равной
,
где N
-
номер варианта. Расчет производить.для
максимального значения коэффициента
распыления. Учесть, что величина
определяется следующим выражением:
.
ПРИМЕЧАНИЕ. Nе: = 10, = 20,1; Ar: = 18, = 39,9; Kr: = 36, = 83,8; Xe: = 54, = 131,3.
4.Контрольные вопросы
1. Современные представления о процессе распыления.
2. Пороговая энергия распыления.
3. Характерные этапы процесса ионного распыления.
4. Связь между скоростью и коэффициентом распыления.
5. Зависимость коэффициента распыления от энергии и вида.иона, угла падения, атомного номера и температуры материала мишени.
6. Методика расчета коэффициента распыления.
7. Какими параметрами определяется эффективность процесса распыления.
8. Модели механизма ионного распыления материалов.
БИБЛИОГРАФИЧЕСКИЙ СПИСОК
1. Ивановский Г.Ф., Петров В.И. Ионно-плазменная обработка материалов. М.: Радио и связь. 1986. 232 с.
2. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. 328 с.
3. Юдин В.В. Коэффициент распыления изотропных мишеней// Электронная техника. Сер. 2. 1984. Вып. 6(172). С. 3 - 16.
4. Попов В.Ф., Горин Ю.Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. М.: Высшая школа. 1988. 255 с.
5. Фундаментальные и прикладные аспекты распыления твердых тел. М.: Мир, 1989. 349 с.
ПРИЛОЖЕНИЕ
Таблица П.1
Данные для расчета коэффициента распыления
Коэффициент распыления различных материалов ионами одного и того же элемента также немонотонно зависит от порядкового номера элемента мишени Периодичность функции Kp (z2) связана с периодичностью изменения энергии связи атомов.
Зависимость коэффициента распыления от порядкового номера элемента мишени при распылении
ионами аргона с Еi = 400 эВ
В курсовой работе должны быть рассмотрены следующие обязательные материалы:
Титульный лист
Исходные данные для расчетов
СОДЕРЖАНИЕ
ВВЕДЕНИЕ
1. ТЕОРИЯ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ГАЗОВОГО РАЗРЯДА
1.1. Понятие плазмы и ее температура
1.2. Дебаевский радиус экранирования и идеальность плазмы
1.3. Плазменная частота
1.4. Проводимость плазмы
1.5. Диффузионные процессы в плазме
2. ТЕОРИЯ КАТОДНОГО РАСПЫЛЕНИЯ
2.1. Физические модели катодного распыления
2.2. Коэффициент распыления и факторы, влияющие на его величину
2.3. Технологические особенности процесса катодного распыления
2.4. Расчет коэффициента распыления
Государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования Московской области "Международный университет природы, общества и человека "Дубна"" Институт системного анализа и управления
Кафедра персональной электроники
ПОЯСНИТЕЛЬНАЯ ЗАПИСКА
к курсовой работе по дисциплине
«Физико-химические основы электронных средств»
на тему:__________________________________________________
_________________________________________________________
Студент (ка)_______________________________________________
(группа, фамилия, подпись, дата)
Специальность 211000.62 «Конструирование и технология ЭС»
Курсовая работа защищена_____________ Оценка_____________
ДУБНА 2014
