- •Глава 4. Контакт металл-полупроводник
- •Термоэлектронная эмиссия, термодинамическая работа выхода
- •4.2. Система металл-вакуум-полупроводник, контактная разность потенциалов
- •4.3. Запорный (барьер Шоттки) и антизапорный контакты мп
- •4.4. Предельные случаи контакта мп
- •4.5. Распределение объемного заряда, концентрации подвижных носителей,
- •4.6. Барьер Шоттки в неравновесных условиях
- •4.6.1. Прямое смещение
- •4.6.2. Обратное смещение
- •4.7. Вольтамперная характеристика барьера Шоттки
- •4.7.1. Диффузионная теория выпрямления
- •Диодная теория выпрямления
- •4.7.3. Сравнение диффузной и диодной моделей
- •4.7.4. Температурная зависимость параметров вах запорного контакта
- •4.8. Реальный контакт металл – полупроводник
- •4.9. Емкость запорного контакта металл – полупроводник
- •4.10. Эквивалентная схема барьера Шоттки на переменном сигнале
- •4.11. Омический контакт
- •Реализация омических контактов
- •4.12. Применение барьера Шоттки в электронике
- •Контрольные вопросы
Глава 4. Контакт металл-полупроводник
Термоэлектронная эмиссия, термодинамическая работа выхода
Энергия электрона
в твердом теле меньше, чем энергия
свободного электрона в вакууме.
Минимальная энергия, которую необходимо
передать электрону, чтобы он мог выйти
в вакуум, называется внешней работой
выхода
.
Величина
определяется природой твердого тела и
лежит в интервале от 1 до 6 эВ.
Явление испускания электронов из твердого тела в вакуум за счет тепловой энергии получило название термоэлектронной эмиссии.
В одномерном случае плотность термоэлектронного потока может быть выражена в виде:
,
(4.1)
где
,
так как
.
Ф – термодинамическая работа выхода – характеристическая энергия, описывающая термоэлектронный ток.
Вторая часть равенства (4.1) представляет собой формулу Ричардсона – Дэшмана для плотности термоэлектронного тока, эмпирически полученного для различных твердых тел. Постоянная Ричардсона А следует из интегрирования (4.1)
,
где
(свободный электрон);
– постоянная
Больцмана;
– постоянная
Планка.
Для металлов,
имеющих незаполненную зону проводимости
с концентрацией электронов n
1023
см–3 , внешняя работа выхода
совпадает с термодинамической (
)
(рисунок 4.1, а).
а) б)
Рисунок 4.1 - Схема термоэмиссии из металла (а) и полупроводника (б)
В отличие от металла термоэлектронная эмиссия из полупроводника осуществляется двумя электронными потоками:
1) из зоны проводимости; 2) из валентной зоны.
Концентрация
подвижных носителей в зоне проводимости
n = 1014-1018
см–3, в валентной p
=
=
см–3.
В валентной зоне концентрация электронов
порядка
,
но подвижными являются лишь часть,
равная концентрации дырок – незанятых
электронных энергетических состояний
в валентной зоне, по которым могут
перемещаться электроны и набрать энергию
от решетки больше
и эмиттировать в вакуум.
Формальное интегрирование (4.1) для металлов и полупроводников в пространстве скоростей дает формулу Ричардсона – Дэшмана – надбарьерную эмиссию при тепловом воздействии с характеристической энергией барьера – термодинамической работой выхода.
Ф=
–
F;
=
–(–F)
=
.
В металлах отсчет
энергии от F = 0 ,
в полупроводниках
=
0.
Результирующий
термоэлектронный поток в полупроводнике
определяется электронами с энергией
–F, которых в
реальности не существует, так как уровень
Ферми для невырожденного полупроводника
находится в запрещенной зоне. Кажущийся
парадокс снимается, если уровень Ферми
представляет собой среднюю энергию
подвижных частиц (электронов). Итак, в
термоэмиссии принимают участие электроны
различных энергий
,
а результирующий поток описывается
электронами средней энергии (F).
Поэтому в статистической термодинамике
энергетический уровень Ферми называют
электрохимическим потенциалом.
Энергетическое определение уровня Ферми облегчает понятие энергетических зонных диаграмм полупроводника (рисунок 4.2),
.
(4.2)
Для полупроводника
n-типа,
,
.
Для собственного
полупроводника,
i
,
.
Для полупроводника
p-типа,
,
.
Рисунок 4.2 - Зонные диаграммы n, i, p-полупроводников
Понятие
термодинамической работы выхода
соответствует термоэмиссии из твердого
тела с постоянной температурой. При
эмиссии валентного электрона (рождается
дырка) электрон зоны проводимости
«падает» на свободное энергетическое
состояние (акт рекомбинации) и нагревает
решетку дополнительной энергией
.
При эмиссии электрона из зоны проводимости
при статистическом равновесии электрон
валентной зоны переходит в зону
проводимости (акт термогенерации) и
забирает у решетки энергию
(охлаждает). В результате этих процессов
температура поддерживается постоянной.
В отличие от металлов термодинамическая работа выхода в полупроводниках сильно зависит от температуры, типа и концентрации легирующей примеси.
.
Для n-типа:
,
для р-типа:
.
В результате этого термоэлектронные потоки у сильнолегированных n+- и p+- полупроводника будут отличаться очень сильно. Так, для кремния, при Т = 300 К:
;
;
.
Такие значительные отличия термоэлектронных потоков в полупроводниках разного типа проводимости должны привести к возникновению встроенных электрических полей при их контакте.
Экспериментально термодинамическую работу выхода можно определить из температурной зависимости плотности термоэлектронного потока (рисунок 4.3).
;
;
.
Рисунок
4.3 - Температурная зависимость тока
термоэлектронной эмиссии
