28. Создание омических контактов
Выполняют одновременно роль контактов к активным областям и роль выводов от контактов. Могут выполняться в виде: шариков, выступов, балок.
Балочные выводы в отличии от шариков и выступов выходят за пределы площади кристаллов. Способ получения осаждением металла из электролитов, термовакуумное напыление.
29. Использование силицидов металлов
Алюминий имеет плохую адгезию к кремнию и оксиду кремния относительно поликремния, алюминий также раскисляет слой sio2, имеет низкую температуру плавления что мешает для проведения высокотемпературных операций. Поликрений решает эти проблемы, но имеет высокое сопротивление, понизить сопротивление поликремния можно зачет добавления металла из за чего снижается сопротивление примерно 30-40 Ом, понизить еще сопротивление можно за счет внесения нескольких металлов(полисилициды).
30. Многослойная разводка
Для создания металлизации в дешевых приборах чаще всего используют алюминий (AI), но для более мощных приборов используется многослойная металлизация. Ее принцип заключается в том что после вытравки канавок под омические контакты наносится тонкий слой тугоплавкого металла после чего на него наносится слой алюминия толщиной 1 мкм. Объясняется это тем что если после вытравки канавок под омические контакты сразу нанести алюминий то начнется раскисление SiO2 при температурах от 40 ºС и выше. В тугоплавкие металлы входят вольфрам, титан которые не раскисляют SiO2, поэтому увеличивается долгостойкость приборов. Для большей защиты металлизации от внешних сред может наносится на поверхность алюминия золото.
31.Осаждение пленок диоксида кремния.
Имеет ряд преимуществ относительно термического оксидирования , меньшими температурами подложек в процессе роста и возможность получать пленки не только на кремнии.
отличаются простотой оборудования и простотой проведения процесса. Пиралитическое разложение применяет жидкие кремнееорганические соеденения(тетраэтолксисилан). Газ наситель насыщенный парами тетраэтолксисилана путем барботажа и поступает в реакционную зону кварцевой трубы где находится касета с пластинами.
Эта реакция проходит в зоне подложек.Диоксид кремния осаждается на пластинах, а остальные компоненты уносятся газовым потоком.Пленки полученные пиролизом по совим свойствам хуже термически выращенных , лучший результат дает результат давет пиролиз в вакууме . Иногда пленки уплотняют например путем отжига. Разложение тетраэтолксисилана можно получать однородные, хорошо воспроизводящие рельеф поверхности структур пленки, однако этим методом нельзя получать пленки на структурах с металлизацией из за высоких температур процесса.
Оксидирование моносилана идет при более низких
температурах 300…400 градусов.
Моносилан самовоспламеняющийся и взрывоопасный газ, но его смесь с инертным газом не опасна.
Низкие температуры позволяют получать пленки на алюминиевой металлизации.
Чтобы получить более плоскую (сглаженную поверхность) на алюминий имеющем ступеньки после фотолитографии диоксид кремния в процессе осаждения легируют оксидом фосфора.
Преимущества селанового метода
1.низкая температура
2.чистые пленки( потому что не образуются органические радикалы)