- •1. Задание на курсовой проект и исходные данные
- •2. Требования к оформлению и содержанию. Защита курсового проекта
- •3. Методические материалы к курсовому проектированию по технологии интегральных микросхем и твердотельных приборов и устройств
- •3.1. Динамика развития микротехнологии
- •Ниже представлена «история» изменения проектных норм по разрешению оптической литографии:
- •Техпроцесс атомарного уровня
- •3.2. Методология разработки и изготовления мис.
- •3.3. Активные и пассивные элементы мис на Si.
- •3.4. Активные и пассивные элементы для мис на GaAs.
- •3.5. Требования к оформлению курсового проекта.
- •4.2. Содержание курсового проекта.
- •4.3. Методические указания по выполнению отдельных разделов курсового проекта
- •4.4. Требования к графической части
- •Список литературы
- •Оглавление
- •197376, С. –Петербург, ул.Проф.Попова, 5
Техпроцесс атомарного уровня
В 2012 году исследователи из Университета Южного Уэльса представили способ создания транзисторов, размеры которых были бы равны размерам одного атома. Демонстрация способа была произведена на примере атома фосфора, размещённого на полупроводниковом кристалле. Результаты этой работы могут быть положены в основу создания квантовых компьютеров будущего
«Завтра» длина затвора будет 15 нм., транзисторы будут работать с тактовой частой 1ТГц., а это, естественно, новый диэлектрик с уникальными изолирующими свойствами и высокой диэлектрической проницаемостью, новыми материалами для затворов и МДП-транзисторов, использование т.н. «напряженного» кремния, корпусирование по 3-D технологии, увеличение плотности упаковки активных и пассивных элементов, решение проблем с межсоединениями и проблем с теплоотводом. И это все вопросы к технологам и разработчикам прецизионного оборудования.
3.2. Методология разработки и изготовления мис.
Методология проектирования логических схем за последнее десятилетие практически не изменилась. Это стандартные, полузаказные и заказные интегральные схемы (ИС). К стандартным логическим ИС относят такие микросхемы, которые используются в контроллерах винчестеров, схемах управления памятью. Их называют базовыми матричными кристаллами (БМК) или стандартными ячейками (СЯ), но, по сути, они являются набором однотипных логических элементов типа «да», «нет», «или», причем, их количество в кристалле гораздо больше, чем необходимо для их функционирования. Так фирма ICE предлагает БМК с числом используемых вентилей более 5 000 000, с общим числом транзисторов на кристалле 10 000 000 шт. На их основе изготавливаются заказные программируемые матрицы и логические интегральные микросхемы под конкретного заказчика. Срок проектирования таких ячеек не столь большой, где-то от недели до месяца. Основное в этом процессе определится с межсоединениями (металлизацией) между активными и пассивными элементами ИС, что определяет конкретное их назначение.
Как правило, 70% кристаллов БМК и СЯ изготавливаются по КМОП технологии, 16% по БиКМОП и 14% по остальным технологическим направлениям. КМОП технология используется в основном для изготовления цифровых микросхем, а БиКМОП для цифро - аналоговых. В отношении технологии мало что изменилось. Это стандартный набор технологических процессов: эпитаксия и окисление, легирование и нанесение диэлектриков, жидкостная или «сухая» химия, металлизация и литография. И не важно, к какой области микроэлектроники относятся изготавливаемые микросхемы: силовой, обычной микроэлектроники или СВЧ, набор технологических процессов практически не меняется. Набор, но не технологические процессы.
Разумеется, технология не стоит на месте. Она постоянно развивается, включая в себя работы по новым направлениям, таким как микросенсорика, микро и наносистемная техника, что потребовало новых подходов для реализации 3- D технологий на другом уровне.
Но это, в основном, всё те же технологические процессы: плазмохимическое травление на большую глубину с варьируемым профилем, гетероструктуры различного назначения, оптическая литография с высоким разрешением и менее дорогостоящая, чем электронная и более производительная.
И так образом производится качественное улучшение всех технологических процессов, направленных на быстрое и, коммерчески выгодное, обновление выпускаемых изделий для массового потребителя.
Как отмечено ранее, любые матрицы, как правило, состоят из однотипных логических элементов. Они содержат ограниченное по разнообразию количество активных и пассивных элементов. Это: резисторы, диоды, транзисторы, конденсаторы, индуктивности. Их изготовление не отличаются особой оригинальностью.
Главное, необходимо правильно и оптимально использовать однотипные технологические процессы при формировании тех или иных элементов микросхемы. Здесь ничего нового нет.
На основе принципиальной схемы какого – либо логического элемента прорабатывается её топологический вариант, определяющего технологический маршрут её изготовления. Как правило, пользуются собственной электронной базой активных и пассивных элементов ранних разработок.
Далее изготавливается комплект шаблонов, с соответствующими знаками совмещения по всем слоям, согласно разработанной топологии.
В качестве примера рассмотрим вариант логической ячейки «2И – НЕ».
Рис. 1 Принципиальная схема логического элемента
выполняющего функцию 2И - НЕ
Транзисторы Т1 и Т2 с каналами p-типа соединены параллельно, а транзисторы Т3 и Т4 с каналами n- типа последовательно.
Если на оба входа A и B подан сигнал с напряжением высокого уровня, то оба транзистора снизу на схеме открыты, а оба верхних закрыты, то есть выход соединён с землёй.
Если хотя бы на один из входов подать сигнал низкого уровня, соответствующий транзистор сверху будет открыт, а снизу закрыт. Таким образом, выход будет соединён с напряжением питания и отсоединён от земли.
В схеме нет никаких нагрузочных сопротивлений, поэтому в статическом состоянии через КМОП-схему протекают только токи утечки через закрытые транзисторы, и энергопотребление очень низкое. При переключениях, электрическая энергия тратится в основном на заряд емкостей затворов и проводников, так что потребляемая (и рассеиваемая) мощность пропорциональна частоте этих переключений (например, тактовой частоте процессора).
На рисунке 2, с топологией микросхемы «2И-НЕ», можно заметить, что в ней используются два двухзатворных полевых транзистора разных конструкций. Верхний двухзатворный полевой транзистор выполняет логическую функцию «2И», а нижний двухзатворный полевой транзистор выполняет логическую функцию «НЕ».
Его топологическая реализация показана на рис. 2.
Карман
N
типа.
Рис. 2 Топология микросхемы логического варианта «2И – НЕ»
