Оглавление

Реферат 3

Список определений 6

Ведение 7

1.Обзорная часть 8

1.1 Применения нитридов тугоплавких металлов 8

1.2 Методы получения нитридных покрытий 9

1.2.1 Дуговые методы нанесения 9

1.2.2 Метод лазерной абляции и отжига покрытий 11

1.2.3 Магнетронные методы 14

1.3 Особенности магнетронного метода 15

1.3.1 Гистерезисные явления при реактивном распылении 17

1.3.2 Методы контроля и управления реактивным магнетронным распылением (РМР) 19

1.3.3 Оптические методы контроля 21

1.4 Методы диагностики нитридных покрытий 25

2 Экспериментальные оборудования и экспериментальные результаты 30

2.1 Описания экспериментальных установок 30

2.1.1 Установка для магнетронного осаждения слоев 30

2.1.2 Установка для лазерной обработки материала 32

2.1.3 Оборудования оптической диагностики тонко пленочных структур 35

2.2 Методика формирования тонких пленок Ti 37

2.3 Влияния лазерной обработки на свойства нитридных покрытий 39

2.3.1 Структурные морфологические свойства 39

2.3.2 Оптические свойства 43

Заключение 46

Список литературы 47

Реферат Дипломная работа содержит 43 страницы, 23 рисунка, 3 таблицы, библиография содержит 11 наименований.

Ключевые слова: реактивное магнетронное распыление, лазерное излучение, рассеяние света, интенсивность лазерного излучения, показатель преломления, коэффициент пропускания.

Объектом исследования являются тонкие плёнки TiAlN на кремниевой подложке, сформированные методом магнетронного осаждения и лазерной обработкой.

Цель работы:

Формирование тонкой плёнки TiAlN на кремниевой подложке и последующее исследование её оптических свойств.

В процессе работы была изготовлена серия образцов, сформированных методом магнетронного осаждения. Впоследствии часть образцов подверглась лазерной обработки. Исследованы оптические характеристики образцов до и после лазерной обработки. Определили минимальную плотность энергии лазерного излучения, при которой происходит испарение и разрушение пленки.

Abstract

Thesis contains 43 pages, 23 figures, 3 tables, bibliography contains 11 references.

Tags: reactive magnetron sputtering, laser light scattering, laser intensity, refractive index, transmittance.

The object of the study are TiAlN thin films on a silicon substrate formed by magnetron sputtering and laser processing.

Purpose:

Forming a thin film on a silicon substrate TiAlN and subsequent study of their optical properties.

In operation, a series of samples was prepared, formed by magnetron deposition. Subsequently, part of the samples was subjected to laser treatment. The optical characteristics of the samples before and after laser treatment. To determine the minimum energy density of the laser radiation at which the evaporation and destruction of the film.

Рэферат

Дыпломная праца ўтрымлівае 43 старонкi, 23 малюнка, 3 табліцы, бібліяграфія змяшчае 11 найменняў.

Ключавыя словы: рэактыўнае магнетрона распыленне, лазернае выпраменьванне, рассейванне святла, інтэнсіўнасць лазернага выпраменьвання, паказчык праламлення, каэфіцыент прапускання.

Аб'ектам даследавання з'яўляюцца тонкія плёнкі TiAlN на крамянёвай падкладцы, сфармаваныя метадам магнетронного аблогі і лазернай апрацоўкай.

Мэта працы:

Фарміраванне тонкай плёнкі TiAlN на крамянёвай падкладцы і наступнае даследаванне іх аптычных уласцівасцяў.

У працэсе працы была выраблена серыя узораў, сфармаваных метадам магнетронного аблогі. Пасля частка ўзораў падвергнулася лазернай апрацоўкі. Даследаваны аптычныя характарыстыкі узораў да і пасля лазернай апрацоўкі. Вызначылі мінімальную шчыльнасць энергіі лазернага выпраменьвання, пры якой адбываецца выпарэнне і разбурэнне плёнкі.

Список определений

В настоящей работе применяют следующие термины с соответствующими определениями:

Вакуумно-дуговое нанесение покрытий — это физический метод нанесения покрытий в вакууме, путём конденсации на подложку материала из плазменных потоков, генерируемых на катоде-мишени в катодном пятне вакуумной дуги сильноточного низковольтного разряда, развивающегося исключительно в парах материала электрода.

Лазерная абляция — метод удаления вещества с поверхности лазерным импульсом.

Магнетронное распыление — технология нанесения тонких плёнок на подложку с помощью катодного распыления мишени в плазме магнетронного разряда — диодного разряда в скрещенных полях

Показатель преломления вещества — величина, равная отношению фазовых скоростей света (электромагнитных волн) в вакууме и в данной среде.

Коэффициент пропускания — безразмерная физическая величина, равная отношению потока излучения, прошедшего через среду, к потоку излучения, упавшего на её поверхность.