- •Оглавление
- •Классификация и общая характеристика сз.
- •Индукционная катушка с эл/маг прерывателем. Принцип действия, расчет u2m, расчет частоты прерывания контактов прерывателя, особенности конструкции.
- •Транзисторный преобразователь в системе гтд. Метод стабилизации Pвых.
- •Повышающий трансформатор со схемами удвоения u, резонансные явления, влияние экрана на работу сз.
- •Конструкция и особенность работы искровых свечей для гтд
- •Процесс образования разряда в искровой свече, закон Пашена, зависимость пробивного u от различных факторов
- •Высоковольтные индуктивные с.З. С искровыми свечами, особенность разрядных процессов
- •Процесс образования разряда в эрозионной свече, конструкция
- •10. Разрядн. Процессы в нв катушке с последов. Конд-ом
- •9. Низковольтная индуктивная система зажигания с эрозионными свечами
- •11. Конструкция п/п свечей. Условие образования разряда
- •12. Нв емкостная сз колебательного разряда. Особенности разрядных процессов.
- •13. Разрядные процессы в полупроводниковой свече в цикле запуска гтд.
- •14. Расчет параметров разряда в полупроводниковых свечах. Расчет длительности искры.
- •15. Расчет энергии искровых разрядов в полупроводниковой свече.
- •16. Рабочие характеристики ёмкостной системы зажигания.
- •17. Емкостные системы зажигания апериодического разряда. Основные схемы.
- •18. Высоковольтная емкостная система зажигания с активизатором, характер изменения тока через свечу при насыщении сердечника импульсного трансформатора.
- •19. Устойчивость дуговых процессов в плазменной с.З. Плазменные с.З. Со стабилизацие тока с помощью силового трансформатора
- •20. Способы стабилизации тока в плазменных системах зажигания.
- •21. Импульсно – плазменные системы зажигания по 2-м принципиальным схемам.
- •22. Схема емкостных систем зажигания с одним преобразователем на 2 свечи при параллельном соединении свечей.
- •23. Емкостные системы зажигания с одним преобразователем на две свечи при последовательном соединении свечей.
- •24. Двухканальная емкостная система зажигания с синхронизацией разряда в свечах
- •25. Методы измерения энергии искровых разрядов.
- •26. Осн. Сх. Ем. Сз с повыш. Стабильн. Выходных парам.
- •27. Аварийный режим утечки тока в ем. Сз. Методы предотвращения реж. Утечки тока
- •28. Аварийн. Релаксации u в емкостной сз. Анализ устой-ти авар. Реж.
- •29. Устойчивость дуговых процессов в плазменной с.З. Плазменные с.З. Со стабилизацие тока с помощью силового трансформатора
- •30. Классическая батарейная сз двс. Раб. Хар-ка, методы ее улучшения.
- •31. Регуляторы опережения угла зажигания в сз двс.
- •36. Метод измерения энергии накопительного конденсатора в емкостной с.З.
- •37.Структурная схема цифрового измерителя искр разрядов, временный диаграммы.
- •38. Воспламеняющая способность емкостной системы зажигания.
- •39. Осциллографический метод измерения энергии искровых разрядов в п/п свечах.
- •40. Структурная схема цифрового измерителя энергии искровых разрядов в п/п свечах.
- •41. Цифровые системы зажигания с механическим и электронным распределением высокого напряжения по свечам.
- •42. Структурная схема и временные диаграммы работы цифрового измерителя длительности искровых разрядов в п/п свечах.
13. Разрядные процессы в полупроводниковой свече в цикле запуска гтд.
Составим мат. модель процесса пробоя:
С- ёмкость конденсатора.
Т0- начальная температура полупроводника.
Ткр- критическая температура, при которой наступает испарение материала полупроводника.
U0min(Uпр)- минимальное напряжение на конденсаторе, при котором происходит пробой свечи.
Uр- разрядное напряжение- напряжение, необходимое для пробоя полупроводникового промежутка над полупроводником.
К- теплоёмкость полупроводника.
Т
.е.
разряд на поверхности полупроводника
состоит:
1) подготовительная стадия- разогрев полупроводника протекающим током.
2) искровая стадия- образование разряда между электродами над полупроводником.
Uн- напряжение на конденсаторе в конце подготовительной стадии разряда.
подготовительная стадия
2- искровая стадия
(1)
Для того чтобы разряд состоялся необходимо чтобы:
(2)
С учётом 1 уравнение 2 перепишется:
(3)
(4)
U0min- по существу пробивное напряжение
(5)
Из уравнения 5 найдём U0min:
;
;
,
т.е. пробивное напряжение свечи зависит
от ёмкости конденсатора (С)- чем больше
ёмкость, тем меньше пробивное напряжение.
14. Расчет параметров разряда в полупроводниковых свечах. Расчет длительности искры.
; (1)
; (2)
Найдём энергию, затрачиваемую на подготовительную стадию разряда:
;
(3)
Найдём выражение для Im:
;
(4)
где
,
,
При
определении Im
будем считать, что
:
Рассчитаем длительность искры:
Решим задачу на основе закона сохранения заряда:
, (1)
(2)
, (3)
Гашение разряда происходит при проходе тока через 0:
15. Расчет энергии искровых разрядов в полупроводниковой свече.
Экспериментально:
Осциллографически:
С помощью преобразователя Холла.
Калориметрический метод.
Метод, основанный на применении элементов с квадратичными ВАХ.
Метод, основанный на применении электромагнитного устройства, в котором Iсв пропорционален отклонению подвижной части электромагнита, а напряжение снимается специальным датчиком.
Аналитически:
Будем аппроксимировать кривую падения напряжения на свече на каждом периоде – линейной функцией:
,
где
Энергия, выделяющаяся в свече в течение i-го полупериода:
Суммарная энергия:
Если решить интеграл, то в итоге получится формула:
, где n-
число полупериодов изменения тока.
Подставим
выражение для n
в формулу для
:
(
Эта формула используется при проектировании ёмкостных систем зажигания.
16. Рабочие характеристики ёмкостной системы зажигания.
, где
-
накопленная энергия.
R- эквивалентное полное сопротивление разрядной цепи(сопротивление разрядника, свечи, кабеля, соединяющего агрегат зажигания со свечой + сопротивление проводов)
L- индуктивность катушки, включаемой последовательно в цепь
d- межэлектродный зазор свечи.
-
длина кабеля, соединяющего агрегат
зажигания со свечой.
К рабочим характеристикам также относится:
C
ростом ёмкости С увеличивается накопленная
энергия, растёт ток. В соответствии с
ВАХ свечи напряжение на свече падает,
активное сопротивление свечи падает.
Выделяющаяся в разрядной цепи энергия
перераспределяется в соответствием с
перераспределением активных сопротивлений
- большая часть выделится на R,
меньшая на свече. Таким
образом,
падает.
Влияние U0 такое же, как и влияние С.
где P- вероятность искрообразования
При увеличении lk увеличивается активное сопротивление цепи, что уменьшает энергию разряда. Увеличение индуктивности с ростом lk повышает энергию Но влияние активного сопротивления преобладает.
При проектировании систем зажигания важно иметь набор формул, определяющих зависимость параметров разряда свечи от параметров разрядной цепи.
