57)Расчет рН для растворов слабых кислот и оснований.

реакцию среды слабых кислот и оснований определяют концентрации ионов [H⁺] и [OH^-]

слабые кислоты и основания диссоциируют неполностью

при электролитической диссоциации слабых электролитов устанавливается хим.равновесие

хим.равновесие – состояние системы реагирующих в-в, где скорости «прямой» и «обратной» реакций равны

при электролитической диссоциации слабых электролитов справедлив закон действующих масс

при Т=const скорость хим.реакции пропорциональна произведению молярных концентраций реагирующих в-в,

взятых в степенях равных коэффициентам в-в в уравнении хим.реакции

ПР: СН₃СООН  H⁺ + СН₃СОО^-

₁=k₁С(СН₃СООН) ₂=k₂С(H⁺) С(СН₃СОО^-)

₁=₂ k₁С(СН₃СООН) = k₂С(H⁺) С(СН₃СОО^-) k₁[СН₃СООН] = k₂[H⁺] [СН₃СОО^-]

, где K – константа равновесия реакции диссоциации или константа диссоциации

константа диссоциации слабых электролитов зависит от природы р-теля, электролита, температуры:

- чем полярнее р-тель и активнее диссоциация, тем больше константа диссоциации

- чем сильнее электролит и активнее диссоциация, тем больше константа диссоциации

- чем выше температура и активнее диссоциация, тем больше константа диссоциации

- при разведении константа диссоциации слабых электролитов увеличивается за счет роста степени диссоциации

*закон Освальда для слабых электролитов

- при добавлении в р-р слабого электролита

сильных электролитов с общими ионами - константа диссоциации уменьшается,

сильных электролитов, не имеющих общие ионы,- константа диссоциации зависит от ионной силы р-ра

константа диссоциации кислоты К_а служит характеристикой ее кислотности:

СН₃СООН  H⁺ + СН₃СОО^-

если [H⁺] = [СН₃СОО^-] и [СН₃СООН] = С_1/Z - [H⁺], то

если С_1/Z достаточно велика, то величиной [H⁺] можно пренебречь

рН=-lg[H⁺]=1/2(-lgK - lgС_1/Z) = 1/2( pK - lgС_1/Z), где pK= – lgK

чем меньше рК кислоты, тем сильнее кислота

константа диссоциации основания К служит характеристикой ее основности:

NН₃ + H₂О  NН₄⁺ + ОH^-

если [NH₄⁺] = [ОH^-] и [NН₃] = С_1/Z - [OH^-], то

если С_1/Z достаточно велика, то величиной [H⁺] можно пренебречь

рОН=-lg[ОH^-]=1/2(-lgK - lgС_1/Z) = 1/2( pK - lgС_1/Z), где pK= – lgK

чем больше рК основания, тем сильнее основание

характеристикой основности основания служит pK сопряженной кислоты

чем больше рК сопряженной кислоты,

тем слабее сопряженная кислота-сильнее основание

силу кислот и оснований можно выразить значением рН или значением рК

58)Активная,потенциальная и общяя к-ость.

у слабых кислот различают активную-потенциальную-общую кислотность:

- активная кислотность зависит от концентрации в р-ре свободных катионов Н⁺

- потенциальная кислотность зависит от концентрации в р-ре недиссоциированных молекул кислоты

- общая кислотность складывается из активной и потенциальной (определяется титрованием)

ПР: СН₃СООН  СН₃СОО^- + Н⁺