Заключение

В процессе прохождения технологической практики на предприятии ОАО «Орбита», я ознакомился с биполярным и эпитаксиально-планарным технологическим производством ИС. В соответствии с заданием, было проведено практическое ознакомление с технологией диффузии биполярных ИС.

В данном отчёте представлены основные сведения диффузии биполярных ИС. Кинетики процесса диффузии и так же о термодинамических параметрах процесса.

Список использованных источников

1. Технология СБИС: т.1 / Под ред. С. Зи. – М.: Мир, 1986.– 404 с.

2. Тарун Я. Основы технологии СБИС: пер. с яп. / Под ред. В. Г. Ржанова – М.: Радио и связь, 1985. – 479 с.

3. Моделирование процессов внедрения и перераспределения примесей при ионной имплантации / В. В. Асессоров и др. – Воронеж: Воронежский гос. ун-т, 2004 г. – 202 с..