
- •Лекция 6 Полупроводниковые диоды
- •6.1 Выпрямители
- •6.2 Стабилитроны
- •6.3 Варикапы
- •Лекция 7
- •7.1 Диоды с быстрым восстановлением
- •7.2 Контакт металл-полупроводник
- •7.3 Туннельный диод
- •Лекция 8 биполярные транзисторы
- •8.1 Устройство и принцип работы биполярных транзисторов
- •8.2. Режим работы биполярного транзистора и основные физические процессы
- •8.3. Способы включения биполярного транзистора
- •Лекция 9
- •9.1. Схема с общей базой
- •Лекция 10
- •10.1. Схема с общим эмиттером
- •10.2. Схема с общим коллектором
- •10.3. Инверсное включение транзистора
6.3 Варикапы
Варикап (от англ. vari(able) — «переменный», и cap(acity) — «ёмкость») — полупроводниковый диод, работа которого основана на зависимости барьерной ёмкости p-n перехода от обратного напряжения. Варикапы применяются в качестве элементов с электрически управляемой ёмкостью в схемах перестройки частоты колебательного контура, деления и умножения частоты, частотной модуляции и др. Схемное (графическое) изображение варикапа приведено на рисунке 6.8.
Рисунок
6.8 - Обозначение варикапа на схемах
Величина
барьерной ёмкости связана с обратным
напряжением, как было показано в лекции
(5):
.
Основные параметры варикапа:
С – емкость, измеренная между выводами при заданном обратном напряжении;
-
коэффициент перекрытия по емкости;
rП – суммарное активное сопротивление диода;
-
добротность, определяемая при заданном
значении емкости.
Лекция 7
7.1 Диоды с быстрым восстановлением
Полное время восстановления t1+t2 из рисунка 6.1 может быть существенно уменьшено путём введения центров рекомбинации таких, какое золото создаёт в кремнии. Однако введение достаточно большого количества центров рекомбинации приводит к возрастанию обратного тока, генерационная компонента которого также связана с концентрацией центров Nt в соответствии с выражением (5.7):
,
где
(см. (2.15))
Кремниевые диоды позволяют получать время восстановления (или переключения) от 1 до 5 нс.
Но существует и другой тип быстопереключающихся диодов.
Особо отметим класс импульсных диодов, имеющих очень малую длительность переходных процессов из-за малых емкостей переходов (доли пикофарад); уменьшение емкостей достигается за счет уменьшения площади p-n-перехода, поэтому допустимые мощности рассеяния у них меньше, чем у низкочастотных выпрямительных диодов. Их используют в импульсных схемах. Так же малой ёмкостью обладают переходы сформированные с очень малой концентрацией примеси в низколегированной областью (PIN диоды).
К параметрам, перечисленным выше, для импульсных диодов следует отнести общую емкость СД, максимальные импульсные прямые и обратные напряжения и токи, время установления прямого напряжения от момента подачи импульса прямого тока до достижения им заданного значения прямого напряжения и время восстановления обратного сопротивления диода с момента прохождения тока через нуль до момента, когда обратный ток достигает заданного малого значения (см. рис. 7.1).
Рисунок
7.1 - Переключающая характеристика
импульсного диода
После изменения полярности напряжения в течение времени t1 обратный ток меняется мало, он ограничен только внешним сопротивлением цепи. При этом заряд неосновных носителей, накопленных в базе диода, рассасывается. Далее ток уменьшается до своего статического значения при полном рассасывании заряда в базе (низколегированной области перехода).
7.2 Контакт металл-полупроводник
При непосредственном контакте металла с полупроводником уровни Ферми этих материалов при термодинамическом равновесии должны совпадать (ток не течет). На рисунке 7.2 показаны энергетические диаграммы для идеального контакта (без поверхностных состояний) металла с полупроводником n- типа.
Рисунок
7.2 - Зонные энергетические диаграммы
металл-полупроводник для п/п n-
типа
На первом рисунке слева металл и полупроводнике не приведены в соприкосновение друг с другом и система не находятся в состоянии термодинамического равновесия. Если потом из соединить, как показано на крайнем рисунке справа (средние рисунки - это сближение металла с полупроводником), то из полупроводника в металл перетечёт некоторый заряд и установится состояние термодинамического равновесия. При этом уровни Ферми в обеих материалов сравняются, т.е. уровень Ферми в полупроводнике понизится относительно уровня Ферми в металле на величину, равную разности соответствующих работ выхода.
Работой выхода называется разность энергий между уровнем вакуума и уровнем Ферми. Для металла эта величина составляет qm (m - измеряется в электрон-вольтах), а в полупроводнике она равна q(χ+Vn) (см. левый рисунок), где qχ - электронное сродство, т.е. разница между энергией дна зоны проводимости Ес и уровнем вакуума, а qVn - положение уровня Ферми в запрещённой зоне полупроводника. Разность qm - q(χ+Vn) называется контактной разностью потенциалов. По мере уменьшения расстояния между металлом и полупроводником отрицательный заряд на поверхности металла увеличивается. При этом в полупроводнике образуется равный по величине положительный заряд, расположенный в области вблизи края полупроводника. При соединении металла с п/п (крайний правый рисунок 7.2) образуется потенциальный барьер, равный разности между работой выхода металла и электронным сродством полупроводника:
(7.1)
Итак, контакт металла с полупроводником характеризуется наличием заряженной области (обеднённой свободными носителями), потенциального барьера, также, как и в полупроводниковом pn переходе. Такая система также описывается уравнением Пуассона, решением которого будет выражение для электрического поля и потенциала. В итоге выражение для вольтамперной характеристики будет :
,
(7.2)
Где Js плотность тока насыщения, имеющего сложную зависимость от высоты барьера и температуры, V – подаваемое напряжение.
Пример вольтамперной характеристики в координатах: логарифм IF (прямой ток) от VF (прямое напряжение) показан на рисунке 7.3
Рисунок
7.3 – зависимость плотности тока в диодах
W
– Si,
W
– GaAs
от приложенного в прямом направлении
напряжения.
Прямая линия в полулогарифмических координатах свидетельствует об экспоненциальной зависимости в широком диапазоне токов, а точка пересечения прямых с осью ординат при VF = 0 позволяет найти высоту потенциального барьера.
Диод Шоттки – разновидность выпрямительных диодов, работающий на основе выпрямляющего контакта металл – полупроводник, образующего контактную разность потенциалов из-за перехода части электронов из полупроводника n -типа в металл и уменьшения концентрации электронов в полупроводниковой части контакта. Эта область обладает повышенным сопротивлением. При подключении внешнего источника плюсом к металлу, а минусом к полупроводнику, потенциальный барьер понизится и через переход пойдет прямой ток.
В диоде Шоттки отсутствуют явления накопления и рассасывания основных носителей, поэтому они очень быстродействующие и могут работать на частотах до десятков ГГц. Прямое напряжение составляет ~0,5 В, прямой допустимый ток может достигать сотни ампер, а обратное напряжение – сотен вольт. ВАХ диода Шотки напоминает характеристику обычных p-n-переходов, отличие состоит в том, что прямая ветвь в пределах 8-10 декад напряжения представляет почти идеальную экспоненциальную кривую, а обратные токи достаточно малы – 10-10…10-9 А.
Конструктивно диоды Шоттки выполняют в виде пластины из низкоомного кремния, на которую нанесена высокоомная эпитаксиальная пленка с электропроводностью того же типа. На поверхность пленки вакуумным напылением нанесен слой металла.
Рисунок
7.3a
– Диод Шоттки PtSi
с диффузионным охранным кольцом р- типа
Диоды Шоттки применяют в переключательных схемах, а также в выпрямителях больших токов и в логарифмирующих устройствах, из-за соответствующей вида его ВАХ.