
- •Введение. Немного теории
- •1 Источники напряжения
- •2 Электрические компоненты
- •3 Величины, применяемые при работе с электричеством. Законы Ома и Кирхгофа
- •4 Новые понятия
- •5 Пассивные компоненты электронных схем
- •5.1 Резисторы
- •5.2 Конденсаторы
- •5.3 Катушки индуктивности и дроссели
- •5.4 Трансформаторы и пьезотрансформаторы
- •6 Активные компоненты (полупроводники)
- •6.1 Диэлектрики, проводники, сверхпроводники и полупроводники
- •6.1.1 Диапазоны энергий и распределение носителей заряда в них
- •6.2 Диод
- •6.3 Общие сведения о полупроводниковых диодах
- •6.4 Конструкции и простейшие способы изготовления полупроводниковых диодов
- •6.5 Разновидности диодов
- •6.5.1 Выпрямительные диоды
- •6.5.2 Импульсные диоды
- •6.5.3 Варикапы
- •6.5.4 Стабилитроны и стабисторы
- •6.5.5 Светодиоды
- •6.5.6 Полупроводниковые лазеры
- •6.5.7 Фотодиоды
- •6.6 Эффекты полупроводников
- •6.6.1 Эффект Ганна
- •6.6.2 Эффекты Пельтье и Зеебека
- •6.6.3 Туннельный эффект
- •6.6.4 Эффект Холла
- •6.7 Биполярные транзисторы
- •6.7.1 Общие сведения о транзисторах
- •6.7.2 Конструкция некоторых биполярных транзисторов
- •6.7.3 Принцип действия биполярных транзисторов
- •6.7.4 Схемы включения биполярных транзисторов
- •6.7.5 Биполярные фототранзисторы
- •6.8 Полевые транзисторы с управляющим переходом
- •6.8.1 Конструкция полевых транзисторов с управляющим переходом
- •6.8.2 Полевые транзисторы с изолированным затвором
- •6.8 Биполярные транзисторы с изолированными затворами
- •6.8.1 Общие сведения о бтиз
- •6.8.2 Конструкция и принцип действия бтиз
- •6.9 Тиристоры
- •6.9.1 Общая информация о тиристорах
- •6.9.2. Динисторы
- •6.9.3 Тринисторы
- •6.9.4 Запираемые тиристоры
- •6.9.5 Симисторы
- •6.10 Интегральные микросхемы
- •6.10.1 Определения гост 17021—88
- •6.10.2 Классификация микросхем
- •6.10.3 Технология изготовления пленочных имс
- •6.10.4 Гибридные интегральные микросхемы
- •6.10.5 Полупроводниковые микросхемы
- •7.Конструирование радиоэлектронных устройств
- •7.1 Изготовление печатных плат
- •7.2 Монтаж компонентов на печатной плате
- •7.2.1 Шелкография или маркировка.
- •7.2.2 Монтаж компонентов
- •8 Устройства отображения информации
- •8.1 Индикаторы
- •8.2 Светодиодные индикаторы
- •8.3 Жидкокристаллические индикаторы
- •8.4 Общие сведения об электронно-лучевых трубках
- •8.5 Жидкокристаллические дисплеи и панели
- •8.5.1 Общие сведения о жидкокристаллических дисплеях
- •8.5.2 Электролюминесцентная подсветка жидкокристаллических дисплеев
- •8.5 3 Светодиодная подсветка жидкокристаллических дисплеев
- •8.5.4 Время отклика жидкокристаллических дисплеев и влияние температуры на их работу
- •8.6 Плазменные панели
- •8.7 Дисплеи на углеродных нанотрубках
- •8.8 Сенсорные экраны и классификация их типов
- •8.9 Голографические системы
- •9 Простейшие схемы электроники
- •9.1 Усилители электрических сигналов
- •Классификация усилительных устройств.
- •9.2 Генераторы
- •9.3 Дискретные устройства
- •Список литературы
6.10.4 Гибридные интегральные микросхемы
Пассивные элементы и все соединения гибридных интегральных схем представляют собой пленки из различных материалов, нанесенные на стеклянную или керамическую пластинку (подложку), а в качестве активных элементов применяются навесные дискретные полупроводниковые приборы. В таких схемах использовано достоинство пленочной технологии в сочетании с возможностями технологии полупроводниковых приборов.
На рис. 1, а в качестве примера приведена гибридная схема, содержащая нихромовые резисторы, золотые проводники и навесные транзисторы и диоды. Для изготовления такой схемы необходимы специальные фигурные трафареты-маски, которые позволяют наносить пленочные рисунки нужных размеров в определенных местах.
Сначала создаются соединения. Для этого через трафарет напыляют или наносят каким-либо другим способом полоски серебра, алюминия или золота. Затем через другой трафарет напыляют резисторы, представляющие собой пленочные полоски тантала, хрома или специальных сплавов. Варьируя как напыляемый материал, так и толщину слоя, можно менять номиналы резисторов. Для изготовления конденсатора через специальный трафарет напыляется металл. Затем меняется трафарет и напыляется диэлектрик, а затем снова металл.
После нанесения всех слоев устанавливаются диоды и транзисторы. Дискретные компоненты по размерам должны быть сравнимы с тонкопленочными элементами, поэтому в гибридных схемах применяют транзисторы и диоды, размеры которых либо максимально уменьшены, либо эти компоненты используются без корпуса. Соединение навесных деталей с элементами микросхемы может быть выполнено одним из известных методов: термокомпрессией, ультразвуковой сваркой, лучом лазера и др. При этом выводы навесных компонентов соединяются с металлизированными площадками на подложке.
Рисунок 64 - Гибридные микросхемы.
Существуют различные варианты конструктивного исполнения гибридных схем. Однако наибольшее признание получила планарная конструкция. Для защиты от внешних воздействий обычно применяются металлические и керамические корпусы с металлическими выводами (рисунок 64,б).
На рисунке 64, в показана гибридная схема, в которой в качестве навесных элементов применены бескорпусные полупроводниковые ИС. Такие гибридные микросхемы называются многокристальными.
Достоинствами гибридно-пленочной технологии являются высокая гибкость, т. е. возможность большого выбора различных материалов и методов изготовления пленочных элементов, и сравнительная простота разработки и изготовления большинства схем в гибридном исполнении. При изготовлении пассивных элементов гибридных схем применяется тонко- или толстопленочная технология. К толстым пленкам относятся пленки толщиной единицы — сотни микрометров, к тонким — толщиной до нескольких микрометров. С точки зрения применения пленки могут быть подразделены на проводящие, резистивные и диэлектрические. Самостоятельно пленочные микросхемы применяются очень редко в качестве резисторных или резисторно - емкостных ИС. Обычно они используются как основа гибридных ИС.
Процесс изготовления гибридных ИС состоит из следующих основных этапов: изготовление подложки, фотошаблонов и пленочной пассивной части ИС; подгонка резисторов; монтаж бескорпусных элементов и герметизация; контроль.
Контактные площадки, созданные на подложке ГИС, необходимы для обеспечения взаимных соединений плёночных деталей, а также для подключений тонких проводников, которые осуществляют электрические контакты между тонкоплёночными и внешними дискретными компонентами.
Активные компоненты, которые подключают к контактным площадкам, выполняют с жёсткими или с гибкими выводами. Детали с жёсткими выводами наиболее удобны для автоматической сборки ГИС, однако разработка таких изделий связана с определёнными трудностями.
Конденсаторы с ёмкостью более 20 нФ и катушки индуктивности обычно не выполняют на подложке ГИС, а задействуют как навесные компоненты. В больших ГИС – сокращённо БГИС – в качестве внешних деталей применяют бескорпусные полупроводниковые микросхемы. Соединение компонентов ГИС с выводами корпуса осуществляют пайкой, микросваркой и т.п.