
- •Введение. Немного теории
- •1 Источники напряжения
- •2 Электрические компоненты
- •3 Величины, применяемые при работе с электричеством. Законы Ома и Кирхгофа
- •4 Новые понятия
- •5 Пассивные компоненты электронных схем
- •5.1 Резисторы
- •5.2 Конденсаторы
- •5.3 Катушки индуктивности и дроссели
- •5.4 Трансформаторы и пьезотрансформаторы
- •6 Активные компоненты (полупроводники)
- •6.1 Диэлектрики, проводники, сверхпроводники и полупроводники
- •6.1.1 Диапазоны энергий и распределение носителей заряда в них
- •6.2 Диод
- •6.3 Общие сведения о полупроводниковых диодах
- •6.4 Конструкции и простейшие способы изготовления полупроводниковых диодов
- •6.5 Разновидности диодов
- •6.5.1 Выпрямительные диоды
- •6.5.2 Импульсные диоды
- •6.5.3 Варикапы
- •6.5.4 Стабилитроны и стабисторы
- •6.5.5 Светодиоды
- •6.5.6 Полупроводниковые лазеры
- •6.5.7 Фотодиоды
- •6.6 Эффекты полупроводников
- •6.6.1 Эффект Ганна
- •6.6.2 Эффекты Пельтье и Зеебека
- •6.6.3 Туннельный эффект
- •6.6.4 Эффект Холла
- •6.7 Биполярные транзисторы
- •6.7.1 Общие сведения о транзисторах
- •6.7.2 Конструкция некоторых биполярных транзисторов
- •6.7.3 Принцип действия биполярных транзисторов
- •6.7.4 Схемы включения биполярных транзисторов
- •6.7.5 Биполярные фототранзисторы
- •6.8 Полевые транзисторы с управляющим переходом
- •6.8.1 Конструкция полевых транзисторов с управляющим переходом
- •6.8.2 Полевые транзисторы с изолированным затвором
- •6.8 Биполярные транзисторы с изолированными затворами
- •6.8.1 Общие сведения о бтиз
- •6.8.2 Конструкция и принцип действия бтиз
- •6.9 Тиристоры
- •6.9.1 Общая информация о тиристорах
- •6.9.2. Динисторы
- •6.9.3 Тринисторы
- •6.9.4 Запираемые тиристоры
- •6.9.5 Симисторы
- •6.10 Интегральные микросхемы
- •6.10.1 Определения гост 17021—88
- •6.10.2 Классификация микросхем
- •6.10.3 Технология изготовления пленочных имс
- •6.10.4 Гибридные интегральные микросхемы
- •6.10.5 Полупроводниковые микросхемы
- •7.Конструирование радиоэлектронных устройств
- •7.1 Изготовление печатных плат
- •7.2 Монтаж компонентов на печатной плате
- •7.2.1 Шелкография или маркировка.
- •7.2.2 Монтаж компонентов
- •8 Устройства отображения информации
- •8.1 Индикаторы
- •8.2 Светодиодные индикаторы
- •8.3 Жидкокристаллические индикаторы
- •8.4 Общие сведения об электронно-лучевых трубках
- •8.5 Жидкокристаллические дисплеи и панели
- •8.5.1 Общие сведения о жидкокристаллических дисплеях
- •8.5.2 Электролюминесцентная подсветка жидкокристаллических дисплеев
- •8.5 3 Светодиодная подсветка жидкокристаллических дисплеев
- •8.5.4 Время отклика жидкокристаллических дисплеев и влияние температуры на их работу
- •8.6 Плазменные панели
- •8.7 Дисплеи на углеродных нанотрубках
- •8.8 Сенсорные экраны и классификация их типов
- •8.9 Голографические системы
- •9 Простейшие схемы электроники
- •9.1 Усилители электрических сигналов
- •Классификация усилительных устройств.
- •9.2 Генераторы
- •9.3 Дискретные устройства
- •Список литературы
6.10.3 Технология изготовления пленочных имс
Тонкопленочная ИС состоит из изоляционной подложки, на которую нанесены тонкопленочные резисторы, конденсаторы, металлические проводники и контактные площадки (рис. 2). Следует учитывать, что тонкопленочные резисторы и конденсаторы имеют допуски, диапазон параметров, температурные коэффициенты, значительно лучшие, чем полупроводниковые. Лучшие частотные свойства тонкопленочных пассивных элементов обеспечивают существенное преимущество их в ВЧ и СВЧ схемах по сравнению с полупроводниковыми схемами.
Тонкопленочные ИС дешевле полупроводниковых, но размеры их больше. Типовой технологический процесс создания тонкопленочной схемы из резисторов и конденсаторов с соответствующими межсоединениями состоит из следующих этапов:
-напыление на подложку слоя тантала, который затем термически окисляют для защиты подложки от действия травителей при проведении последующих операций;
-напыление второго слоя тантала с последующим его травлением для формирования нижних электродов конденсатора;
-окисление тантала для образования диэлектрика конденсатора;
-нанесение еще одного слоя тантала для создания верхнего электрода конденсатора и резисторов;
-напыление слоя алюминия поверх слоя тантала для проводников и горизонтальных площадок;
-травление алюминия для создания нужного рисунка проводников;
-травление резистивного слоя тантала для образования отдельных резисторов.
Рисунок 61 - Тонкопленочная микросхема
Подложки плёночных микросхем, которые изготавливают из сапфира, ситаллов, керамик и прочего, всегда обладают прямоугольной конфигурацией и толщиной порядка от 0,2 мм до 1 мм. Подложки не должны вступать в химические реакции с материалами плёнок, обязаны обладать низкой степенью шероховатости поверхности, должны обладать высоким электрическим сопротивлением. Нанесение плёнок на подложку осуществляют через трафарет, называемый маской. Выполнение плёночных конденсаторов и особенно катушек индуктивности не рекомендуют, однако в отдельных случаях без них всё же не обойтись.
Толстоплёночные контактные площадки выполняют, например, вжиганием паст, содержащих алюминий, медь, тантал или в редких случаях золото. Чтобы улучить адгезию металлических покрытий к подложке, на ней сначала формируют промежуточный слой никеля, который обладает лучшей адгезией, чем другие металлы, а уже на этот слой наносят требуемый материал.
Плёночные резисторы, которые выполняют нанесением на подложку паст, содержащих никель, керметы, тантал, хром и т.д. со связующим веществом, имеют прямоугольную конфигурацию. С целью повышения сопротивления резистора его выполняют в виде соединённых друг с другом многочисленных элементарных одинаковых участков Г-образной или П-образной конфигурации, которые повторяют до тех пор, пока не будет получено необходимое сопротивление, что показано на рисунке 62.
Рисунок 62 – Пленочный резистор
Обычно сопротивление такого плёночного резистора может составлять от 0,05 кОм до 50 кОм, а получить много большее или много меньшее сопротивление затруднительно.
Плёночные конденсаторы имеют многослойную структуру и в общем случае образованы двумя электропроводящими плёнками, между которыми выполняют слой диэлектрической плёнки. Обкладки плёночных конденсаторов изготовляют из электропроводящих плёнок, содержащих алюминий, тантал, серебро, медь и подобные материалы. Диэлектрическую плёнку обычно получают из различных оксидов: окиси тантала, трёхсернистой сурьмы, двуокиси кремния, моноокиси германия и пр. Ёмкость плёночных конденсаторов обычно составляет от 10 пФ до 20 нФ.
Плёночные катушки индуктивности имеют спиралевидную форму, что изображено на рисунке 63, и образованы нанесением токопроводящих плёнок на поверхность подложки.
Рисунок 63 – Пленочная индуктивность
Индуктивность таких плёночных катушек не превышает 10 мкГн.
Изготовление активных компонентов наслоением плёнок вызывает большие трудности.