- •Москва 2013
- •1.Обзор вакуумных технологий электронного машиностроения.
- •1.1.Технология молекулярно-лучевой эпитаксии.
- •1.2.Электронная микроскопия.
- •1.3.Ионная имплантация.
- •1.4.Электронная литография или электронно-лучевая литография.
- •1.5.Плазменное травление.
- •1.6.Нанесение тонких пленок в вакууме.
- •1.7.Масс-спектрометрический течеискатель.
- •2.Обзор вакуумных постов на российском рынке
- •3.Средние технические требования для универсального вакуумного поста.
- •4.Список используемых источников.
3.Средние технические требования для универсального вакуумного поста.
Универсальный вакуумный пост на базе турбомолекулярного насоса со скоростью откачки 250-350 л/с. С предельно остаточным давлением 1-10-7 Па. С потреблением 2,5-3,5 кВт. И не превышать размеры 500х500х500 мм.
4.Список используемых источников.
www.nifti.unn.ru/science/fpp_i_de/epitaksiya/
http://thesaurus.rusnano.com/wiki/article2035
dic.academic.ru/dic.nsf/ruwiki/1043738
http://dic.academic.ru/dic.nsf/enc_colier/6641/%D0%AD%D0%9B%D0%95%D0%9A%D0%A2%D0%A0%D0%9E%D0%9D%D0%9D%D0%AB%D0%99
http://dic.academic.ru/dic.nsf/enc_physics/3387/%D0%98%D0%9E%D0%9D%D0%9D%D0%90%D0%AF
Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов. 2011
www.portalnano.ru/read/tezaurus/definitions/plasma_etching
www.hse.ru/pubs/lib/data/access/ticket/1393864543e0c0b66fb844b921cef2efe93baab293/ЛР%20Нанесение%20тонких%20пленок.pdf
www.techeiscatel.ru/index.php/library/lection/70-vybor-metoda-techeiskaniya
www.intactive.ru/ru/brands/jeolrus/jee420rus
www.spbizmerit.ru/otkachnoi-post-pv-150.html
www.cryosystems.ru/?p=58
www.tako-line.ru/katalog/vakuumnaya-texnika-dlya-nauchno-issledovatelskoj-deyatelnosti/vakuumnyie-sistemyi/vyisokovakuumnyie-otkachnyie-postyi/
www.cryosystems.com.ru/?p=60
www.ameqs.ru/info/shop/1158/
www.intech-group.ru/directions/vacuum/otkachnye_vakuumnye_posty/vakuumnyj_post/
www.intech-group.ru/directions/vacuum/otkachnye_vakuumnye_posty/vakuumnye_posty/
