
- •7.09203 Электромеханические системы автоматизации и электропривод
- •Утверждено
- •Учебно-методическое пособие для самостоятельной работы студентов специальности 7.09203 электромеханические системы автоматизации и электропривод
- •Содержание
- •1. Основные характеристики электроматериалов
- •1.1. Классификация электроматериала
- •1.2. Зонная теория твердых тел
- •1.3. Электрические характеристики электроматериалов
- •1.4. Механические характеристики материалов
- •1.5. Тепловые характеристики материалов
- •1.6. Физико-химические характеристики материалов
- •2. Электрические процессы в диэлектриках
- •2.1. Поляризация диэлектриков
- •2.2. Электропроводность диэлектриков
- •2.3. Потери энергии в диэлектриках
- •2.4. Пробой диэлектриков
- •3. Изоляционные материалы
- •3.1. Газообразные изоляционные материалы
- •3.2. Жидкие изоляционные материалы
- •3.3. Твердые изоляционные материалы
- •Параметры слоистых пластиков
- •3.3.2 Твердые неорганические диэлектрики
- •3.3.3 Пьезоэлектрические материалы
- •Характеристики некоторых пьезоэлектрических материалов
- •Р ис. 4.1. Зависимость удельного сопротивления меди от температуры.
- •4.1. Материалы высокой проводимости
- •Характеристики меди, бронз и латуни
- •4.2. Сплавы высокого сопротивления
- •4.3. Сплавы для термопар
- •4.4. Припои и флюсы
- •4.5. Электротехнический уголь
- •5. Полупроводниковые материалы
- •5.1.Электрические свойства полупроводников
- •5.2. Электронно-дырочный переход
- •5.3. Полупроводниковые материалы
- •6. Магнитные материалы
- •6.1. Магнитные характеристики материалов
- •6.2 Классификация магнитных материалов
- •6.3. Магнитные материалы
- •6.3.1. Металлические магнитомягкие материалы
- •6.3.2. Металлические магнитотвердые материалы
- •Основные характеристики стальных магнитов:
- •6.3.3. Ферриты
- •6.3.4. Магнитодиэлектрики
- •Литература
5.2. Электронно-дырочный переход
Полупроводниковые приборы используют свойство границы двух полупроводниковых материалов с различными типом проводимости. Только полупроводниковые резисторы используют однородный материал. Область на границе двух сред полупроводника различной проводимости называют электронно-дырочным переходом (n-р переходом).
В
связи с различной концентрацией носителей
происходит диффузия дырок из р-зоны в
n-зону и электронов из n-зоны в р-зону.
Дырки, вошедшие через переход в n-область,
рекомбинируют с электронами этой
области, а электроны, вошедшие в р-
область, рекомбинируют с дырками этой
области. Вследствие действия двух
факторов - диффузии основных носителей
и рекомбинации - концентрация основных
носителей (дырок в р-области рр
и электронов
в n-области
nn)
в приграничных областях падает, т.е.
образуется объединенный носителями
слой, обладающий высоким электрическим
сопротивлением. Вследствие этого в
приграничной р-области повысится
концентрация электронов, а в n-области
дырок. Таким образом, на границе двух
полупроводников создается двойной
электрический слой l0,
образующий местное (контактное)
электрическое поле Е и разность
потенциалов φ. Толщина слоя l0
зависит от степени легирования
полупроводника и составляет доли
микрона. На рис. 5.5. показаны графики
изменения концентрации носителей вблизи
n-р перехода, а также диаграммы разности
потенциалов
и напряженности поля Е в переходе.
Величина потенциального барьера φ0
зависит от соотношения концентраций
носителей одного знака по обе стороны
перехода:
Рис.
5.5. Схема
образования электронно-дырочного
перехода двух полупроводниковых
материалов.
В итоге возникает динамическое равновесие Iдр = Iдиф. Для германия φ0 0,3 - 0,5 В, для кремния 0,6 - 0,8 В.
В результате даже без приложения внешнего напряжения на границе двух полупроводников возникает потенциальный барьер, препятствующий движению основных носителей тока.
П
одключение
внешнего напряжения в прямом направлении
уменьшает потенциальный барьер, а в
обратном - увеличивает на величину
внешнего напряжения.
Вследствие этого n-р переход обладает выпрямительными свойствами - рис. 5.6. Прямой ток через переход значительно больше тока в обратном направлении.
Рис. 5.6. Вольтамперная характеристика n-р перехода.
5.3. Полупроводниковые материалы
В качестве полупроводниковых материалов в электротехнике наиболее часто используют германий, кремнии, селен, арсенид галлия, карбид кремния, а также сульфиды и окислы некоторых веществ.
Германий - элемент четвертой группы периодической системы Менделеева. Получают с помощью сложной системы обогащения из золы углей, цинковых и сульфидных руд. Полученный металл тщательно очищают зонной плавкой, вводят донорную или акцепторную примесь и в вакууме или инертном газе вытягивают монокристалл легированного германия заданных размеров. Температура плавления германия 937,2°С. При 20°С = (б0 - 68) Омсм, = 16,3. У легированных сортов германия n-типа = (0,003 - 45) Омсм, а р-типа (0,4 - 5,7) Омсм. Все сорта германия обладают большой твердостью и хрупкостью. Широко используется для производства диодов, транзисторов, фотоэлементов и других полупроводниковых изделий. Из него изготавливаются датчики Холла и других гальваномагнитных эффектов. Германий используется для изготовления различных фотоэлектрических преобразователей; фоторезисторов, фототранзисторов, оптических фильтров и модуляторов. Рабочий диапазон температур германиевых приборов -от 60°С до +70°С и по устойчивости к температуре значительно уступает кремнию.
Kpeмний - также является элементом 4 группы периодической системы Менделеева. Он широко распространен в природе в виде кремнезема SiO2, который служит исходным веществом для получения технических сортов кремния. В результате очистки слитков кремния методом зонной плавки и последующего введения легирующих примесей получают монокристаллический кремний с заданной электропроводностью. Температура плавления кремния 1420°С, = (2 -3) 105 Омсм, =11,7. У легированных сортов кремния n-типа =(0,01 - 200) Омсм, а р-типа (0,014 - 50) Омсм в зависимости от концентрации примесей.
Кремнии применяется более широко, чем германий, так как верхний предел рабочей температуры приборов на его основе достигает 130 - 200 °С. Он является главным полупроводниковым материалом современной электроники. Кремний используется для изготовления тех же полупроводниковых приборов, что и германий - диодов, транзисторов, фотоэлементов, датчиков Холла и т. д. Такие широко применяемые полупроводниковые приборы, как тиристоры, в настоящее время изготавливаются исключительно из кремния. Кремний находит большое применение при производстве интегральных микросхем.
Селен- элемент шестой группы таблицы Менделеева. Получается в виде побочного продукта при электролитической очистке меди. Селен существует в нескольких разновидностях, различающихся кристаллической структурой. Черный аморфный селен получают из расплавленного селена при быстром его охлаждении. Он представляет собой диэлектрик с удельным сопротивлением =1013Омсм.
Серый кристаллический селен получают из расплавленного аморфного селена при медленном его охлаждении. Кристаллический селен является полупроводником. Его параметры при 20°С: =(0,8 - 5) 105 Омсм, = 6,3.
Селен применяется для изготовления селеновых выпрямителей, фоторезисторов и фотоэлементов. Селеновые выпрямители изготавливают путем нанесения порошкообразного селена на железные или алюминиевые пластинки. После термической обработки наносят слой сплава из висмута, кадмия и олова, в результате чего получается прослойка селенистого кадмия. Пара селен и селенистый кадмий образуют n-р переход, обладающий выпрямительными свойствами. Плотность прямого тока в селеновых выпрямителях не превышает (60 - 80) мА/см2, что значительно меньше аналогичного показателя для германия и кремния (до 60 А/см2). Обратное напряжение, выдерживаемое шайбой селенового выпрямителя составляет (18 - 36) В, пробой происходит при перенапряжении до 80 В. Место пробоя заставляется слоем аморфного селена, представляющего собой хороший диэлектрик, и выпрямитель автоматически восстанавливает свою работоспособность (но уже при меньшей площади перехода и соответственно меньшем допустимом прямом токе). Температурный интервал работы селеновых выпрямителей -от-600 С до +750С.
Карбид кремния SiC - представляет собой хрупкий материал поликристаллического строения. Его получают термической обработкой чистого кварцевого песка и каменного угля с добавлением легирующих примесей - фосфора, сурьмы или висмута для создания проводимости n-типа, кальция, бора или алюминия для создания проводимости р-типа. Температура плавления 2600°С. Параметры при 20°С: =(104 - 107) Омсм, =6,5 - 7,5.
Из карбида кремния могут изготавливаться диоды и транзисторы на рабочие температуры до 500°С. Основная область применения карбида кремния -производство варисторов, обладающих зависимостью величины сопротивления от приложенного напряжения, а также вентильных разрядников для защиты линий электропередач от перенапряжений.
Аресинид галлия (Ga As) представляет собой соединение мышьяка и галлия. Характерной его особенностью является высокая подвижность электронов и дырок, что позволяет создавать на его основе полупроводниковые приборы, работающие в области высоких частот. Для n-р переходов допускаются рабочие температуры до 400°С, т.е. значительно выше, чем для германия и кремния. Температура плавления 1237°С. Основные параметры при 20°С: р = (104 - 109) Омсм, = 112. Используется для изготовления светодиодов, а также диодов и транзисторов для высоких и сверхвысоких частот.
Сульфиды (сернистые свинец, висмут, кадмий) используются для производства полупроводниковых фотосопротивлений с различной чувствительностью, а также в качестве люминофоров.
Окислы - некоторых металлов (Fe, Mg, Cr, Ti) используются главным образом для создания различных термосопротивлений - термисторов и позисторов, меняющих свое сопротивление в зависимости от температуры в широких пределах, При этом термисторы обладают отрицательным, и позисторы - положительнным коэффициентом сопротивления.