
- •1.Аналитические выражения для вах р-n-переходов
- •2.Входное сопротивление, коэффициент усиления по току, коэффициент усиления по напряжению, коэффициент усиления по мощности биполярного транзистора на низкой частоте в схеме с общей базой
- •3.Лавинный пробой электронно-дырочного перехода. Тепловой пробой.
- •4.Физические эквивалентные схемы бт
- •Физическая эквивалентная схема бт для малого сигнала в схеме с об
- •5.Составляющие прямого и обратного тока p-n перехода.
- •6.Полевые транзисторы
- •Полевые транзисторы
- •7.Эффект оттеснения тока эмиттера на край эмиттера.
- •8.Параметры моп - транзистора. (Статические параметры; Дифференциальные параметры; Электрофизические параметры (подвижность и механизмы рассеяния носителей в канале).
- •9. Статические вах биполярного транзистора.
- •10 Резкий несимметричный электронно-дырочный переход в состоянии теплового равновесия
- •11 Статические вольт-амперные характеристики биполярного транзистора в схеме с общим эмиттером
- •12.Высота потенциального барьера (q ). Зависимость q от температуры (т), концентрации примеси (n) и ширины запрещённой зоны
- •13. Электрические зонные диаграммы, поясняющие случаи обогащения, обеднения слабой и сильной инверсии моп структур.
- •14 Граничная концентрация неосновных носителей заряда в базе электронно-дырочного перехода
- •15. Переходные процессы в диоде:
- •16. Величина порогового напряжения моп-транзистора, и пути его регулирования:
- •17. Туннельный пробой диода. Сравнительный анализ туннельного и лавинного пробоя:
- •18.Частотные свойства бт
- •19.Эффект Эрли и его следствия
- •21.Импульсные свойства биполярного транзистора: случай малого и большого сигналов.
- •Импульсные свойства бт при малом сигнале
- •Импульсный режим работы бт при большом сигнале
- •22.Модель Эберса-Молла.
- •23.Реальные моп-структуры с n и p подложками. Энергетические зонные диаграммы, разности работ выхода металл – затвора – полупроводник (моп структур) с Al и поликремниевым затворами
- •24. Барьерная ёмкость диода
- •25. Электронно-дырочный переход при нарушении теплового равновесия. Токи инжекции и экстракции
- •26. Генерация и рекомбинация носителей в - -переходе
- •27. Коэффициент передачи тока эмиттера идеализированной модели биполярного транзистора.
- •Виды пробоя биполярного транзистора (смыкание эмиттерного и коллекторного перехода, лавинный пробой, вторичный пробой)
- •База отключена
- •Диффузионная ёмкость диода
- •Барьер Шотки. Диод Шотки. Транзистор Шотки Барьер Шоттки
- •Диод Шоттки
- •Вопрос 31. Распределение концентрации неосновных носителей в базе(случай тонкой базы).
- •Вопрос 32. Аналитические выражения вах электронно-дырочного перехода(случай тонкой базы).
- •Вопрос 33. Распределение потоков носителей в реальной одномерной бт
- •34. Особенности работы p-n перехода при высоком уровне инжекции вуи
- •35. Биполярные транзисторы
- •36. Образование электронно-дырочного (р-n) перехода
- •37. Зависимость коэффициентов передачи тока от тока эмиттера
- •38. Распределение концентрации неосновных носителей в базе (общий случай)
- •40.Входное сопротивление, коэффициент усиления по току, коэффициент усиления по напряжению, коэффициент усиления по мощности биполярного транзистора на низкой частоте в схеме с общим коллектором
- •41 Характеристические частоты биполярного транзистора
Вопрос 33. Распределение потоков носителей в реальной одномерной бт
Ответ:
Токи, протекающие в p-n-p транзисторе в активном нормальном режиме
Iэn 2- IRjэ 3- IRБ 4- IКБ0
В p-n-p транзисторе направление токов эмиттера и коллектора совпадает движением носителей (дырок), которые в основном образуют эти токи. Для n-p-n транзистора направления потоков изменятся на обратные.
Ток эмиттера: Iэ =Inэ +Ipэ (Inэ ток инжекции из n-базы в эмиттере)
Ток базы: IБ = InЭ + IRjЭ + IRБ – IКБ0
IRjЭ – часть дырок тока Ipэ рекомбинирует в эмиттерном p-n переходе, увеличивая ток базы на IRjЭ
IRБ – ток за счет рекомбинации дырок на поверхности и в объеме базы
IКБ0 – обратный ток в коллекторном переходе
Ток коллектора: IК = Iэ - IБ = αNIэ + IКБ0
34. Особенности работы p-n перехода при высоком уровне инжекции вуи
Для р+-n-переходов:pn<< nn0—МУИ, и pnгр – pn0 =pn>> nn0—ВУИ. Во-первых, появляется электрическое поле в базе, направление которого способствует быстрейшему переходу неосновных носителей через базу. Появление поля вызвано следующим: в n-базу поступает такое количество неосновных носителей pn, которое нарушает квазинейтральность области; для ее обеспечения из вывода базы в базовую область поступает такое же количество основных носителей nnpn. Образуется электрическое поле, направленное от ОПЗ в глубь базы. Покажем, что наличие электрического поля в базе такого направления приводит к удвоению коэффициента диффузии неосновных носителей в базе.
Так
как мы анализируем р+-n-переход,
то можно полагать, что плотность
электронного тока близка к нулю: jn
= q
nn
n
Е + qDn
grad
n
0 →
.
Т.к.
Dn/n
= kT/q = Dp/p
и
grad n = grad p:
.
|
|
(1.31) |
Т.
к. pnnn,
pn
= pn
– pn0,
nn
= nn
– nn0.
Полагая, что величина концентрации pn0
очень мала по сравнению с другими
концентрациями, в ( 1 .31) имеем nn
= pn
– nn0:
.
При МУИ pn pn<< nn0 → jp = – q Dp grad p. При ВУИ рn>> nn0 → jp = -q 2Dp gradp. Следовательно, коэффициент диффузии неосновных носителей в базе, как результат воздействия электрического поля, удваивается.
Во-вторых,
идет модуляция сопротивления базы в
сторону ↓ RБ.
RБ
~ ρБ.
При
ВУИ:
и
В-третьих,
,
,
где
.
не учитывается,
так как
, а
.
→
.
В инженерных расчетах трудно учесть такой эффект высокого уровня инжекции, как изменение времени жизни носителей заряда. Это происходит из-за изменений в процессе рекомбинации: возможно заполнение уровней ловушек, изменение концентрации как основных, так и неосновных носителей, изменение путей рекомбинации (например, возникновение рекомбинации через такие ловушки, через которые при малых плотностях тока онане происходит). Вcе это приводит к тому, что при больших плотноcтях тока время жизни носителей, зависящее от множества факторов, может и расти, и уменьшаться.
35. Биполярные транзисторы
Биполярный транзистор представляет собой три полупроводниковые области (эмиттер, база, коллектор), определяющиеся по типу электропроводности (n-р-n или p-n-р), которые с помощью имеющихся в каждой области омических контактов подключаются к внешней электрической схеме. Функции эмиттера и коллектора: эмиттировать (инжектировать) носители заряда и собирать их. Среднюю область транзистора назвали "базой", так как ее параметры в основном определяют работу транзистора (база в транзисторе всегда тонкая, распределение линейное). Биполярные транзисторы делятся на бездрейфовые, перенос инжектированных в базу носителей у которых осуществляется только за счет диффузии, и дрейфовые, у которых перенос носителей через базу осуществляется как за счет диффузии, так и за счет дрейфа.
Биполярный транзистор может работать в четырех режимах:
режим отсечки (эмиттерный и коллекторный переходы смещены в обратном направлении) (рис.3.1, а);
режим насыщения (эмиттерный и коллекторный переходы смещены в прямом направлении) (рис.3.1, б);
активный нормальный режим (эмиттерный переход включен в прямом, а коллекторный — в обратном направлениях) (рис.3.1, в);
активный инверсный режим (эмиттерный переход включен в обратном, а коллекторный — в прямом направлениях) (рис.3.1, г).
Граничную концентрацию неосновных носителей в базе со стороны эмиттера или коллектора можно рассчитать, воспользовавшись выражением: , где Uj величина напряжения перехода эмиттер-база или коллектор-база соответствующего знака.
Если предположить, что ток основных носителей базы (дырок для n-p-n-транзисторов) равен нулю (считаем, что рекомбинация отсутствует), то
; (3.1) . (3.2)
Из (3.2) видно, что если база легирована равномерно, то х = 0 (случай бездрейфового транзистора).
Если, используя методы диффузии или ионной имплантации, получаем концентрацию легирующей примеси N(x) в базе около эмиттера NБЭ значительно больше, чем на границе с коллектором NБК, то из-за наличия градиента концентрации в базе транзистора создается продольное электрическое поле х, отличное от нуля, направление которого способствует переносу неосновных носителей.
При законе изменения N(x), близком к экспоненциальному, величину поля x при неравномерном легировании базы можно определить, записав (3.2)
x=
,
(3.3)
где
коэффициент
называется дрейфовым коэффициентом
(иногда его называют "фактором поля").
Реальное
значение дрейфового коэффициента лежит
в интервале
.
Наличие поля в базе несколько изменит
вид энергетической зонной диаграммы
транзистора и распределение концентрации
неосновных носителей в базе (рис.3.2).
В зависимости от названия электрода, который подключается к общему электроду внешней электрической цепи и по отношению к которому отсчитывается потенциал, различают три схемы включения транзистора: схема с общей базой - ОБ (схема с эмиттерным входом) (рис.3.3, а), схема с общим эмиттером - ОЭ (схема с базовым входом) (рис.3.3, б), схема с общим коллектором - ОК (эмиттерный повторитель) (рис.3.3, в).
Как уже отмечалось, поведение транзистора во многом определяется параметрами и распределением концентрации носителей в базе. Поэтому та область транзистора, база которой находится непосредственно под областью эмиттера, называется активной (рис.3.4, I) остальная — пассивной (рис.3.4, II).
Р
ис.3.1.
Энергетические зонные диаграммы и
распределение концентрации
неосновных
носителей в базе n-р-n
бездрейфового транзистора в режимах
отсечки (а), насыщения (б), активном нормальном (в) и активном инверсном (г)
Рис.3.2. Энергетическая зонная диаграмма (а) и распределение концентрации неосновных носителей в базе (б) n-р-n дрейфового транзистора в активном нормальном режиме
Рис.3.3. Схемы включения
транзистора
Рисунок 3.4– Типичный n-р-n планарно-эпитаксиальный транзистор