
- •1.Аналитические выражения для вах р-n-переходов
- •2.Входное сопротивление, коэффициент усиления по току, коэффициент усиления по напряжению, коэффициент усиления по мощности биполярного транзистора на низкой частоте в схеме с общей базой
- •3.Лавинный пробой электронно-дырочного перехода. Тепловой пробой.
- •4.Физические эквивалентные схемы бт
- •Физическая эквивалентная схема бт для малого сигнала в схеме с об
- •5.Составляющие прямого и обратного тока p-n перехода.
- •6.Полевые транзисторы
- •Полевые транзисторы
- •7.Эффект оттеснения тока эмиттера на край эмиттера.
- •8.Параметры моп - транзистора. (Статические параметры; Дифференциальные параметры; Электрофизические параметры (подвижность и механизмы рассеяния носителей в канале).
- •9. Статические вах биполярного транзистора.
- •10 Резкий несимметричный электронно-дырочный переход в состоянии теплового равновесия
- •11 Статические вольт-амперные характеристики биполярного транзистора в схеме с общим эмиттером
- •12.Высота потенциального барьера (q ). Зависимость q от температуры (т), концентрации примеси (n) и ширины запрещённой зоны
- •13. Электрические зонные диаграммы, поясняющие случаи обогащения, обеднения слабой и сильной инверсии моп структур.
- •14 Граничная концентрация неосновных носителей заряда в базе электронно-дырочного перехода
- •15. Переходные процессы в диоде:
- •16. Величина порогового напряжения моп-транзистора, и пути его регулирования:
- •17. Туннельный пробой диода. Сравнительный анализ туннельного и лавинного пробоя:
- •18.Частотные свойства бт
- •19.Эффект Эрли и его следствия
- •21.Импульсные свойства биполярного транзистора: случай малого и большого сигналов.
- •Импульсные свойства бт при малом сигнале
- •Импульсный режим работы бт при большом сигнале
- •22.Модель Эберса-Молла.
- •23.Реальные моп-структуры с n и p подложками. Энергетические зонные диаграммы, разности работ выхода металл – затвора – полупроводник (моп структур) с Al и поликремниевым затворами
- •24. Барьерная ёмкость диода
- •25. Электронно-дырочный переход при нарушении теплового равновесия. Токи инжекции и экстракции
- •26. Генерация и рекомбинация носителей в - -переходе
- •27. Коэффициент передачи тока эмиттера идеализированной модели биполярного транзистора.
- •Виды пробоя биполярного транзистора (смыкание эмиттерного и коллекторного перехода, лавинный пробой, вторичный пробой)
- •База отключена
- •Диффузионная ёмкость диода
- •Барьер Шотки. Диод Шотки. Транзистор Шотки Барьер Шоттки
- •Диод Шоттки
- •Вопрос 31. Распределение концентрации неосновных носителей в базе(случай тонкой базы).
- •Вопрос 32. Аналитические выражения вах электронно-дырочного перехода(случай тонкой базы).
- •Вопрос 33. Распределение потоков носителей в реальной одномерной бт
- •34. Особенности работы p-n перехода при высоком уровне инжекции вуи
- •35. Биполярные транзисторы
- •36. Образование электронно-дырочного (р-n) перехода
- •37. Зависимость коэффициентов передачи тока от тока эмиттера
- •38. Распределение концентрации неосновных носителей в базе (общий случай)
- •40.Входное сопротивление, коэффициент усиления по току, коэффициент усиления по напряжению, коэффициент усиления по мощности биполярного транзистора на низкой частоте в схеме с общим коллектором
- •41 Характеристические частоты биполярного транзистора
26. Генерация и рекомбинация носителей в - -переходе
Обедненные области реальных - -переходов не могут быть бесконечно тонкими, а следовательно, необходимо учитывать результаты некоторых физических эффектов, которые могут происходить в ОПЗ при подаче на - -переход прямого или обратного напряжений.
При обратном смещении - -перехода суммарное электрическое поле в ОПЗ увеличивается и равновесие между процессами генерации и рекомбинации нарушается в пользу генерации носителей заряда. Генерация носителей заряда происходит через ловушки, имеющие энергетические уровни вблизи середины запрещенной зоны. Если тепловое возбуждение приведет к забросу электрона из валентной зоны на уровень ловушки, то дырка, возникшая в валентной зоне, переносится электрическим полем ОПЗ в -облаcть. Электрон, локализованный на ловушке, вернуться в валентную зону не может, так как там нет дырок, с которыми он может рекомбинировать. Поэтому возникает вероятность теплового возбуждения электрона в зону проводимости ОПЗ, откуда он переносится в n-область (на рисунке – генерация носителей в ОПЗ - -перехода).
В
результате генерации пар н.з. образуется
обратный ток генерации в ОПЗ
-
-перехода
.
Этот ток пропорционален объему ОПЗ
(
)
и скорости генерации в нем носителей
где
– время жизни, связанное с рекомбинацией
избыточных носителей в области, где
концентрация центров рекомбинации
равна
;
а
– поперечное сечение захвата дырок и
электронов (полагаем
);
– скорость диффузии
Ток
генерации совпадает по направлению с
током насыщения, следовательно, суммарный
ток реального
-
-перехода
где
– ток утечки
-
-перехода,
величина которого определяется
опытным путем.
Предположим,
что в
-
-переходе
и
,
тогда
Считая,
что
,
запишем отношение тока генерации к
току насыщения
Следовательно:
– с
увеличением ширины запрещенной зоны
в обратном токе
-
-перехода
преобладает ток генерации (в кремниевых
-
-переходах,
в отличие от германиевых
);
– если
величина
преобладает в обратном токе
-
-перехода,
то c возрастанием обратного напряжения
обратный ток не имеет насыщения, т.к.
при увеличении
ток генерации в ОПЗ растет так же, как
и ширина ОПЗ
где для резкого - -перехода и для перехода с линейным распределением примеси;
– с ростом температуры значительно медленнее возрастает обратный ток - -перехода, в котором основной составляющей является ток генерации.
При прямом смещении баланс между процессами генерации и рекомбинации склоняется в сторону рекомбинации.
Если
воспользоваться теорией Шокли-Холла-Рида,
для простоты взять случай равных
поперечных сечений захвата для дырок
и электронов и рассмотреть этот
случай в ОПЗ при напряжении смещения,
то легко показать, что скорость
рекомбинации максимальна, когда
и ток рекомбинации может быть выражен как
Таким
образом, в отличие от тока инжекции ток,
возникающий в результате рекомбинации
в ОПЗ, изменяется с приложением напряжения
как
.
Эта экспоненциальная зависимость может
наблюдаться в реальных диодах при малых
плотностях тока.
Запишем
отношение тока идеального диода
(учитывающего только ток инжекции в
результате диффузии) к току рекомбинации
Таким
образом, ток рекомбинации в OПЗ становится
менее значительным по отношению к току
идеального диода по мере увеличения
смещения. Кроме того, чем меньше содержание
дефектов, тем больше значение диффузионной
длины и тем больше отношение
.
При
типичных значениях
,
и
рекомбинационный ток в кремниевых
диодах необходимо учитывать для значений
.
Таким
образом, в отличие от идеального диода
в реальном диоде полный ток, протекающий
через
-
-переход,
будет равен сумме токов инжекции и
рекомбинации
.