- •Схемотехника
- •Аналоговых электронных
- •Устройств
- •Учебное пособие
- •1. Полупроводниковые приборы
- •1.1. Полупроводниковые диоды
- •1.1.1. Устройство и классификация полупроводниковых диодов
- •1.1.2. Физические процессы в p-n-переходе
- •1.1.3. Работа диода при подключении внешнего обратного напряжения
- •1.1.3.1. Тепловой ток диода
- •1.1.3.2. Токи генерации и утечки в реальных диодах
- •1.1.4. Работа диода при подключении внешнего прямого напряжения
- •1.1.5. Основные параметры диодов
- •1.1.5.1. Сопротивления диода
- •1.1.5.2. Емкости диода
- •1.1.6. Типы полупроводниковых диодов
- •1.1.6.1. Выпрямительные диоды
- •1.1.6.2. Стабилитроны
- •1.1.6.3. Варикапы
- •1.1.6.3.1. Вольт-фарадная характеристика варикапа
- •1.1.6.3.2. Добротность варикапа
- •1.1.6.4. Туннельный диод
- •1.1.6.4.1. Принцип квантово-механического туннелирования
- •1.1.6.4.2. Вольт-амперная характеристика туннельного диода
- •1.1.6.5. Импульсные диоды
- •1.1.6.6. Диоды с накоплением заряда
- •1.1.6.7. Диоды с барьером Шоттки
- •1.1.6.8. Лавинно пролетные диоды
- •1.1.6.9. Фотодиод
- •Рассмотрим общие характеристики фотодиодов.
- •1.2. Биполярные транзисторы
- •1.2.1. Устройство и режимы работы транзистора
- •1.2.2. Физические процессы, протекающие в транзисторе, работающем в активном режиме
- •1.2.3. Схемы включения, основные характеристики и параметры транзисторов
- •1.2.3.1. Схема включения транзистора с общей базой (об)
- •1.2.3.2. Основные параметры транзистора с об
- •1.2.3.3. Схема включения транзистора с общим эмиттером (оэ)
- •1.2.3.4. Выходные и входные характеристики транзистора , включенного по схеме с оэ
- •1.2.3.5. Параметры транзистора, включенного по схеме с оэ
- •1.2.3.6. Схема включения транзистора с общим коллектором (ок)
- •1.2.3.7. Параметры транзистора с ок
- •1.2.4. Эквивалентные схемы транзисторов
- •1.2.4.1. Эквивалентная схема транзистора в виде модели Эберса-Молла
- •1.2.4.2. Дифференциальные параметры и малосигнальные эквивалентные схемы транзистора
- •1.2.4.3. Эквивалентная схема транзистора в h-параметрах
- •1.2.4.5. Эквивалентная схема транзистора в y-параметрах
- •1.2.5. Инерционные свойства биполярного транзистора. Зависимость параметров биполярного транзистора от частоты.
- •1.2.5.1. Процессы в схеме с общей базой
- •1.2.5.2. Процессы в схеме с оэ
- •1.3. Полевые транзисторы
- •1.3.1. Транзисторы с управляющим p-n-переходом.
- •1.3.1.1. Устройство и принцип работы полевого транзистора с управляющим p-n-переходом
- •1.3.2. Полевой транзистор, включенный по схеме с ои а) с n-каналом,
- •1.3.2. Дифференциальные параметры.
- •1.3.3. Полевые транзисторы с изолированным затвором.
- •1.4. Тиристоры
- •1.5. Интегральные схемы
- •1.6. Полупроводниковые датчики и индикаторные приборы
- •1.6.1. Полупроводниковые датчики температуры
- •1.6.2. Магнитополупроводниковые приборы
- •1.6.3. Приборы с зарядовой связью
- •1.6.4. Фотоэлектрические приборы. Понятие об оптоэлектронных приборах.
1.1.6.7. Диоды с барьером Шоттки
Получили название по имени немецкого физика Шоттки, разработавшего в 30-х годах основы теории контакта металл - полупpоводник.
Диод Шоттки выполнен на основе перехода металл - полупроводник. Обычно в качестве полупроводника используется n-кpемний, а в качестве металлического электрода молибден, золото, алюминий и другие металлы, работа выхода которых для образования выпрямляющего контакта должна быть больше работы выхода кремния.
Устройство диода Шоттки показано на рис. 1.1.19.
На пластину низкоомного кремния (область n+) наращивается тонкий (несколько микрон) эпитаксиальный слой более высокоомного кремния с концентрацией примесей порядка 10Е16см-3(область n). На поверхность этого слоя методом вакуумного испарения осаждается слой металла, площадь перехода обычно очень мала (20-30мкм в диаметре), и барьерная емкость не превышает 1пФ.
О
Рис. 1.1.19. Устройство
диода Шоттки
собенность
физических процессов в диоде Шоттки
заключается в отсутствии инжекции
неосновных носителей в базу
(кремний).Запирающий слой обра-
зуется
в результате объединения пpиконтактного
слоя п
олупроводника
основными носителями зарядов (в данном
случае электронами). Поэтому при
подключении прямого напряжения (плюс
на металле) прямой ток возникает в
результате движения основных носителей
зарядов (электронов) из полупроводника
в металл через пониженный потенциальный
барьер перехода. Таким образом, в базе
диода (n-кремний)
не происходит накапливания и рассасывания
неосновных носителей.
Основным
фактором, влияющим на длительность
переходных процессов, является процесс
пеpезаpядки барьерной емкости. Значение
весьма мало (не более 1 пФ); очень малы
также и омические сопротивления
электродов: металла и n+-кpемния.
Вследствие этого время перезарядки
емкости
,
а следовательно, и длительность переходных
процессов также малы и составляют
десятые доли наносекунды. Эти свойства
позволяют использовать диоды Шоттки в
наносекундных переключательных схемах,
а также на рабочих частотах вплоть до
10-15 ГГц.
Вольт-ампеpная характеристика диодов Шоттки описывается, почти идеально (рис. 1.1.3). Это обстоятельство позволяет с успехом использовать диоды Шоттки в качестве логарифмирующих элементов.
Мощные диоды Шоттки, предназначенные для работы в выпрямителях переменного тока, могут обеспечить прохождение прямого тока до нескольких десятков ампер при прямом падении напряжения на диоде порядка 0.5-1В. Допустимое обратное напряжение в таких диодах 200-500В.
Обратный
ток в диоде Шоттки не велик: в
переключательных диодах ток
составляет
десятки пА. Обратный ток зависит от
равновесной концентрации электронов
вблизи перехода, а также от среднего
значения их тепловой скорости
и площади перехода.
1.1.6.8. Лавинно пролетные диоды
Полупроводниковые диоды (с резкими и плавным p-n-переходами), работающие в режиме лавинного пробоя, обладают отрицательным динамическим сопротивлением в узком интервале частот переменного сигнала СВЧ-диапазона. Это свойство полупроводниковых приборов используется для создания усилителей и генераторов радиоволн сантиметрового и миллиметрового диапазонов. Диоды, использующиеся в этих устройствах, получили название лавинно-пролетных диодов (ЛПД), так как появление у них отрицательного динамического сопротивления обусловлено инерцеальностью развития лавинного пробоя и наличием конечного времени пролета носителей через обедненную область заряда (ООЗ) p-n-перехода.
Механизм
усиления переменного сигнала
лавинно-пролетным диодом рассмотрим
на примере n+-p-i-p+-структуры,
распределение напряженности поля в
которой при обратном смещении показано
на рис. 1.1.20. При построении зависимости
пренебрегаем наличием ООЗ в n+-
и p+-областях.
Поскольку концентрация примесей в
i-области
в идеальном случае равна нулю, то ООЗ
занимает всю длину этой области, и
напряженность поля в интервале значений
х
от
до W
не зависит от координаты.
Предположим,
что на n+-p-i-p+
структуру подано постоянное обратное
напряжение, при котором напряженность
поля в точке
и в ее окрестности немного меньше
напряженности поля пробоя
.
При этом для n+-p перехода не выполняется
условие лавинного пробоя и через
структуру течет малый обратный ток.
Подадим на ЛПД переменное напряжение, амплитуда которого достаточна для того, чтобы в течение определенной части полупериода суммарная напряженность поля превышала
Рис. 1.1.20. n-p-i-p
структура и распределение напряженности
поля в ней.
до
(рис.1.1.20) выполняется условие лавинного
пробоя, и за счет его развития возникают
избыточные электроны и дырки. Слой
n+-p-перехода
от
до
,
в котором наблюдаются лавинное умножение
носителей заряда, называется областью
умножения.
Избыточные
электроны практически мгновенно
выбрасываются полем n+-p-перехода
в n+-область,
а дырки дрейфуют в сильном электрическом
поле до тех пор, пока не достигнут точки
и не попадут в p+-область.
В связи с этим, участок ООЗ от
до
называется областью дрейфа.
Поскольку
лавинное умножение обусловлено серией
последовательных актов неупругих
соударений атомов и горячих носителей
заряда с атомами полупроводника, то для
получения в области умножения заметного
количества избыточных электронно-дырочных
пар необходимо определить время
после того как напряженность поля
достигнет величины
.
Обычно время лавинного запаздывания
с.
Можно
подобрать частоту переменного сигнала,
подаваемого на ЛПД, таким образом, чтобы
концентрация избыточных дырок,
инжектируемых из области умножения в
область дрейфа, достигала максимума
спустя четверть периода после того, как
напряженность поля в n+-p-переходе
имела наибольшее значение. Такая ситуация
показана на рис. 1.1.21.
Переменное
напряжение достигает максимальной
величины при значении фазы
,
,
а инжекционный ток дырок в область
дрейфа имеет наибольшие значения при
.
Напряженность
поля в области дрейфа n+-p-i-p+-структуры
обычно настолько велика, что скорость
дрейфа носителей, инжектированных в
нее, достигает своего максимально
возможного значения
.
Тогда время их пролета через область
дрейфа
Рис. 1.1.21. Зависимости
от фазы: а - переменного напряжения,
подаваемого на ЛПД, б – тока в цепи и
инжекционного тока
(1.1.32)
Зная
величину
,
можно подобрать ширину области дрейфа
таким образом, чтобы время пролета через
область дрейфа
составляло полупериод переменного
напряжения. В этот
полупериод, когда направление векторов
напряженности переменного и постоянного
поля противоположны, сгусток дырок в
области дрейфа ускоряется постоянным
полем и тормозится переменным, что
приводит к трансформации энергии
постоянного электрического поля в
энергию СВЧ-поля. В
следующую четверть периода суммарная
напряженность поля в области умножения
вновь достигает величины
,
и к концу полупериода за счет развития
лавинного пробоя возникает новый сгусток
избыточных носителей. Затем процесс
повторяется. Таким
образом, осуществляется периодически
повторяющаяся перекачка энергии
постоянного электрического поля в
СВЧ-мощность. Зависимость тока,
возбуждаемого во внешней цепи избыточными
носителями заряда, от фазы показана на
рис. 1.1.21, б. Из
сопостовляемых фазовых (или временных)
зависимостей переменного напряжения
и тока видно, что в описанных выше
условиях динамическое сопротивление
n+-p-i-p+
-структуры отрицательно.
Недостатком ЛПД является то, что они обладают высоким уровнем шумов, причиной возникновения которых является статистическая природа генерации электронно-дырочных пар в процессе развития лавинного пробоя в области умножения. Коэффициент шума усилителей на низком уровне сигнала составляет 20-30 дБ для диодов из GaAs и 3 -40 дБ для кремниевых. При высоком уровне сигнала шумы могут значительно возрасти. Шумы ограничивают минимальный уровень СВЧ-сигнала, который может быть усилен. С другой стороны, это свойство ЛПД нашло практическое применение для создания калиброванных генераторов шума, обладающих непрерывным спектром излучения в достаточно широкой полосе частот.
