Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
курсовой_Тиристор.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
652.29 Кб
Скачать

2 Практична частина

2.1 Вихідні дані

Вихідними даними для виконання розрахунків є:

  • структура тиристора і дані його геометрії;

  • концентрація домішкових атомів і час життя нерівноважних носіїв в базових областях;

  • тепловий опір тиристора і температура корпусу.

Таблиця 2.1 ― Вихідні параметри кремнієвого тиристора.

Параметр

Значення

TK, K

300

RT, K/BT

3,6

τ01, 10-6 м

7

τ12, 10-6 м

9,5

τ23, 10-6 м

3

τ34, 10-6 м

1

N01, 1023 м-3

6

N12, 1021 м-3

1

N23, 1023 м-3

6

N34, 1025 м-3

1

d, 10-6 м

11

W01, 10-6 м

60

W12, 10-6 м

130

W23, 10-6 м

60

W34, 10-6 м

35

Параметр

Значення

mш, шт

20

rш, 10-6 м

25

Таблиця 2.2 ― Табличні значення і константи, які характеризують кремнієвий тиристор.

Параметр

Значення

ε0

8,85 10-12

ε

11,7

φT, B

0,026

ni, м-3

1,6 1016

q, Кл

1,6 10-19

μn, м2/В*с

0,142

μp, м2/В*с

0,047

n

5

m

86

k

0,65

Tjm, K

417

В результаті розрахунків знайдемо наступні параметри:

  • струми насичення переходів;

  • коефіцієнт передачі для базових областей;

  • опір шунтування емітера;

  • напруга лавинного пробою переходів;

  • струм включення;

  • максимальний струм тиристора;

  • пряме падіння напруги при максимальному струмі;

  • струм закритого тиристора.

Разом з означеними параметрами повинні бути розраховані характеристики:

  • вольт-амперна характеристика відкритого тиристора;

  • пряма гілка ВАХ;

  • зворотна гілка ВАХ.

Розрахунок параметрів і характеристик тиристора розглянемо на прикладі тиристора, що має p-n-p-n-структуру з керуючим виводом від р-області (рис. 2.1). Будемо вважати, що в цьому тиристорі використовується шунтування емітера. При виконанні розрахунків припускається, що всі області тиристорної структури є однаковими.

Рисунок 2.1 − Структура керуємого тиристора

Технологія тиристора звичайно будується таким чином, що обидві р-області формуються одночасно шляхом дифузії домішки з обох сторін напівпровідниковою пластини. Отже переходи 1 і 2 мають однакові характеристики.