2)Оборудование для промышленного изготовления тонких пленок

Установка магнетронного распыления 01НИ 7–015 «Магна – «2М»

Схема установки «Магна – «2М» показана на рис.

В основе работы установки лежит принцип последовательного нанесения пленок на непрерывно движущееся кремниевые пластины путем распыления мишеней магнетронных распылительных устройств (магратронов) ионами инертного газа.

В установке обрабатываются кремниевые пластины диаметром 76–150 мм.

Установка состоит из установки вакуумной, шкафа управления, шкафа питания, кабелей, соединяющих их между собой.

В установке вакуумной обрабатываются кремниевые пластины, т.е. на них наносится слой металлической пленки (одно-, двух- или трехслойной).

В состав установки вакуумной входит рабочая камера с нагревательными пластинами и магнетронными устройствами распыления, шлюзовые системы нагрузки – выгрузки пластин, агрегат вакуумный с механическим форвакуумным насосом ВНМ 187 и агрегат АВР 50.

Агрегат вакуумный предназначен для откачки рабочей камеры, а агрегат АВР 50 – для откачки шлюзовой системы и фороткачки камеры в период запуска вакуумной системы установки.

Шкаф управления предназначен для управления установкой в наладочном или ручном режимах работы. В состав шкафа управления входят три блока управления магратронами, блок управления конвейером, блок управления нагревом, блок управления натекателем, блок управления вакуумной системой, блоки, входящие в комплект вакуумметров, а также другие элементы.

Шкаф питания предназначен для питания основных устройств обработки пластин в установке вакуумной, а именно магратронов, нагревателя, а также устройства транспортирования пластин.

Шкаф питания является основным связующим звеном между шкафом управления и установкой вакуумной.

Шкаф управления предназначен для управления установкой вакуумной в автоматическом режиме по девяти запрограммированным технологическим процессам.

В состав шкафа управления входят микропроцессор на основе ЭВМ «Электроника 60» и дисплей. Микропроцессор управления конвейером (транспортированием пластин), напуском аргона в зону распыления, нагревом пластин, режимами работы трех магратронов, работой шлюзовой системы загрузки-выгрузки пластин, ведет счет пластин в загружаемой и выгружаемой партии, обеспечивает контроль за работой всех систем и блокировку при отказе какой-либо системы.

CRC 600 - Компактная установка нанесения покрытий

Модель CRC-600 – это система магнетронного RF&DC распыления (высокочастотного и при постоянном токе), разработанная специально для исследования нанотехнологий. Может быть использована для разработки процесса осаждения для широкого спектра материалов, включая алюминий, углерод, хром, золото, тефлон, диоксид кремния, тантала, вольфрама и титана.

Установка магнетронного напыления MagSput

Серия MagSput - это новое поколение систем магнетронного распыления. Система предназначена специально для научно-исследовательских лабораторий, опытных производств, университетских исследований, и небольших производств. Система является полностью настраиваемой. Области применения: нанотехнологии, оптика, микроэлектроника, функциональные и декоративные покрытия.

Установка реактивного ионного травления RIE600W

Модель RIE600W – это установка реактивного ионного травления, предназначенная для травления таких материалов, как оксиды металлов, кремний и др. материалов, используемых в производстве электроники. Установка также может иметь источник мощностью 300 Вт. Все трубопроводы для газов и вакуума, а также фитинги, изготовлены из нержавеющей стали, что гарантирует совместимость с агрессивными газами.

Система является полностью настраиваемой с ручным или автоматическим управлением.

Установка электронно-лучевого напыления EB-4P

Серия EB-4P электронно-лучевого напыления создана специально для научных и лабораторных исследований, опытно-промышленного производства, научных исследований в университетах и небольших производств. EB-4P имеет четыре тигля объемом от 2 до 60 см3, и источник питания в диапазоне от 3 кВт до 10 кВт и более.

Система является идеальным решением для нанесения металлов, оксидов, магнитных материалов и диэлектриков. Области применения: нанотехнологии, оптика, микроскопия, молекулярно-лучевая эпитаксия, функциональные и декоративные покрытия.

Установка термовакуумного испарения Th3-2kW

Вакуумное испарение является одним из наиболее экономически эффективных методов осаждения.

Однако такое испарение имеет ряд ограничений, в том числе по температуре испарения, составу сплавов и соединений, а также сроку службы источника. В последнее время термовакуумное испарение нашло многочисленные применения для нанесения органических материалов, таких как OLED (органические светодиоды).

Установка Th3-2kW является термовакуумной системой испарения, состоящей из 3 источников питания мощностью 2 кВт.

АПИ (ф)НГТУ

Кафедра КиТРЭС