
МИНИСТЕРСТВО ОБЩЕГО И ПРОФЕССИОНАЛЬНОГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Курский государственный технический университет
КАФЕДРА КОНСТРУИРОВАНИЯ И ТЕХНОЛОГИИ ЛЕКТРОННЫХ ВЫЧИСЛИТЕЛЬНЫХ СРЕДСТВ
Лабораторная работа № 15
Туннельный эффект в вырожденном
p-n ПЕРЕХОДЕ
Выполнили студенты гр. КС-12 Поветкин Р. А.
Ефимов Р. О.
Проверил преподаватель Кочура А. В.
КУРСК 2003
-
Цель работы
Изучение элементов теории туннельного эффекта; исследование проявлений туннельного эффекта в туннельном диоде.
-
Теоретическая часть
2.1. Уравнение Шредингера
Пусть в некоторой области пространства имеется потенциальный барьер конечной высоты Еро и ширины (рис. 2.1, а). Тогда, по классическим представлениям, частица с энергией Е>Еро всегда преодолевает барьер, а частица с энергией, меньшей Еро, от него зеркально отражается.
В действительности существуют отличные от нуля вероятности отражения частицы с энергией Е>Еро и проникновения (туннелирования) частиц с энергией Е<Еро.
Туннельный эффект может быть количественно исследован путем решения основного уравнения квантовой механики - уравнения Шредингера - с использованием свойств непрерывности волновой функции и ее производных в местах скачка потенциальной функции.
Общее решение стационарного уравнения Шредингера в одномерной, как на рис. 2.1,а, задаче
(2.1)
где Ер(х)— потенциальная функция, имеет вид
а волновое число k определяется из выражения
В различных областях пространства (области 1, 2 и 3 на рис. 2.1 ,а) уравнению (2.1) удовлетворяют различные волновые функции. Учитывая, что волновая функция испытывает «отражение» только в местах разрыва потенциальной функции Ер(х), получаем следующие решения:
(2.2)
где
Факт «отражения» учитывается вторыми слагаемыми в выражениях (2.2). Эти члены можно интерпретировать как плоские волны, движущиеся в отрицательном направлении оси х. В выражении (2.2) коэффициент В3=0, поскольку в области 3 отсутствует физическая причина для «отражения». Использовав граничные условия
п
олучим
следующие волновые функции в областях
1, 2 и 3 (с точностью до постоянного
множителя А1):
Рис.2.1
(2.3)
где ik, * -ik.
Для дальнейшего анализа можно упростить выражения (2.3), приняв во внимание, что вероятность прохождения частиц сквозь потенциальный барьер невелика. Положив в ( 2.3) exp(-l)<<exp(l ), получим
(2.4)
Анализ выражений (2.4) показывает, что частица с энергией E<Ep0, движущаяся слева в сторону потенциального барьера, может быть обнаружена как внутри барьера (область 2), так и справа от него (область 3). Количественно эффект туннелирования можно оценить, вычислив плотность вероятности w* обнаружения частиц в каждой из областей пространства. Таким образом, получаем
(2.5)
Из выражения (2.5) видно, что вероятность туннельного прохождения частицей потенциального барьера существенно зависит от энергии частицы и ширины потенциального барьера. Качественные представления о виде функций (2.5) можно получить из рис.2.1, б. Вероятность туннелирования частиц принято характеризовать коэффициентом прохождения (коэффициентом прозрачности) потенциального барьера, который определяется отношением квадратов модулей волновой функции 3 и первого слагаемого из 1, описывающего падающую на барьер волну. Коэффициент прозрачности барьера описывается выражением
(2.6)
Туннельный эффект составляет физическую основу действия обширного класса полупроводниковых приборов туннельных диодов (ТД). Принцип работы ТД можно пояснить с использованием представлений о зонной энергетической структуре твердого тела. В процессе образования твердого тела электронные энергетические ypoвни отдельных атомов из-за взаимодействия электронов смещаются и образуют энергетические полосы (разрешенные зоны}, чередующиеся с зонами энергий, значений которых электроны принимать не могут (запрещенными зонами}. Энергетическая ширина как разрешенной, так и запрещенной зоны имеет порядок ~10-19 Дж. Энергетический зазор между отдельными уровнями разрешенной зоны около 10-41 Дж, поэтому обычно считают, что энергетический спектр электронов внутри разрешенной зоны практически непрерывен. Наиболее сильно расщепляются энергетические уровни валентных электронов, образуя так называемые валентную зону и зону проводимости.
Многие электрофизические свойства твердых тел связаны с электронами в частично заполненных зонах, так как в пределах этих зон электроны могут изменять свою энергию код действием внешних факторов и способны, в частности, участвовать в процессе электропроводности.
Вероятность заселения электронами энергетических уровней в зонах определяется статистикой Ферми—Дирака, описывающей энергетическое распределение частиц, подчиняющихся принципу Паули. Вероятность того. что состояние с энергией Е при температуре Т занято электроном, определяется функцией Ферми
В
еличину
EF
называют энергией
(уровнем) Ферми.
Легко видеть, что при T=0
К функция w(Е,
0)=1, если Е<ЕF,
и равна нулю, если Е>ЕF.
При любой другой температуре энергия
Ферми совпадает с энергией того уровня,
вероятность заполнения которого равна
0,5.
Рис.2.2
Если бы энергетические уровни в зоне были распределены равномерно, число электронов, имеющих энергию Еi, в небольшом интервале dЕ, определялось бы из функции Ферми (заштрихованная площадь на рис. 2.2, а). Однако вблизи дна зоны проводимости энергетические уровни расположены реже, чем в ее верхней части. Распределение энергетических уровней характеризуют функцией D(E) - плотностью энергетических состояний. С хорошим приближением считается, что D(E) имеет вид
(2.7)
где m - масса (эффективная) электрона; Еc - энергия, соответствующая дну зоны проводимости. Плотность заполнения электронами уровней энергетической зоны описывается функцией распределения
(2.8)
ее график изображен на рис. 2.2, б.
Общая концентрация электронов в зоне пропорциональна заштрихованной площади на рис. 2.2, б. Аналогичные результаты справедливы и для материала с дырочной проводимостью, с тем отличием. что энергия отсчитывается от значения Еv (энергии потолка валентной зоны) в сторону убывания.
При контакте материалов с различным типом электропроводности образуется p-n-переход. Если материалы относятся к вырожденным полупроводникам, при малой толщине перехода (~10-8 м) возникают условия, благоприятствующие туннелированию носителей сквозь потенциальный барьер p-n-перехода. В вырожденных полупроводниках уровень Ферми находится не в запрещенной зоне, а смещен в полупроводнике n-типа в зону проводимости. объединенную с так называемой примесной зоной, образующейся из энергетических уровней доноров при их высокой концентрации (~ 1024-1026 м-3). В вырожденном полупроводнике n-типа уровень Ферми находится в верхней части валентной зоны, объединенной с примесной зоной акцепторов.
Процесс формирования вольтамперной характеристики туннельного диода можно проследить по рис. 2.3 и 2.4. Если напряжение на диоде равно нулю, ток через диод также равен нулю, так как число переходов электронов слева и справа на рис. 2.3, а одинаково. При приложении к диоду прямого напряжения (рис. 2.3, б) энергетические уровни в р-области смещаются вниз в сравнении с уровнями в n-области; границы зон сближаются. Число переходов электронов из n-области в р-область увеличивается, так как большей плотности занятых состояний в n-области соответствует большая плотность свободных состояний («дырок») в р-области; одновременно уменьшается число переходов электронов из р-области в n-область (рис. 2.4). Ток увеличивается (рис. 2.5) до тех пор, пока не произойдет совпадение максимумов функций распределения (черные точки на рис. 2.4); дальнейшее увеличение прямого напряжения вызывает уменьшение туннельного тока. По достижении напряжения Umin (совпадение границ зоны проводимости и валентной) туннельные переходы прекращаются, так как против занятых электронами уровней находятся запрещенные энергетические состояния. Отличие от нуля тока Imin (рис. 2.5) и дальнейшее увеличение прямого тока по мере возрастания напряжения объясняются механизмом инжекции носителей зарядов.
Зонная диаграмма туннельного диода при обратном смещении показана на рис. 2.3, в.
Рис.2.3
Р
ис.
2.4