
3. Физико-химические основы полупроводниковой технологии
3.1.Закономерности и механизмы диффузии примесей в полупроводниках и планарных твердотельных структурах
3.1.1. Механизмы диффузии атомов в кристаллах
В реальной кристаллической решетке атомы при определенных условиях могут обладать большой свободой передвижения и перемещаться из одних узлов решетки в другие. Перенос вещества, обусловленный хаотическим тепловым движением атомов, в направлении уменьшения их концентрации называется диффузией. Диффузия в кристалле, находящемся в состоянии химического равновесия (однородный химический состав, однородное распределение дефектов), называется самодиффузией. Диффузия атомов в кристалле при наличии градиента химического потенциала (градиента концентрации вещества) носит название гетеродиффузии, химической диффузии или просто диффузии.
Диффузия атомов в кристаллической решетке осуществляется отдельными скачками из одного положения равновесия в другое. Длина таких элементарных перемещений имеет порядок постоянной решетки, т.е. несколько десятых долей нанометра. За счет таких элементарных скачков атомы могут перемещаться на большие расстояния. Возможны три механизма атомных скачков: взаимный обмен местами, движение по вакансиям и перемещение по междоузлиям. Первый механизм может осуществляться при одновременном обмене местами двух, трех (и более) соседних атомов. Обмен местами двух соседних атомов является простейшим актом диффузии (рис.3.1,а). Однако при этом в плотно упакованной структуре атом должен преодолеть большой потенциальный барьер, что обусловлено необходимостью смещения соседних атомов. При кольцевом обмене (рис.3.1,б) три, четыре или большее число атомов согласовано перемещаются на одно межатомное расстояние. При таком перемещении потенциальный барьер, преодолеваемый каждым атомом, меньше, чем в первом случае. Однако вероятность осуществления такого диффузионного механизма уменьшается с увеличением числа атомов в кольце за счет возрастания суммарной энергии, затрачиваемой на элементарный акт перемещения. Диффузионные процессы, обусловленные механизмом атомных скачков, могут протекать в совершенных кристаллических решетках с рыхлой упаковкой.
Диффузия по вакансиям происходит следующим образом: вначале в решетке образуются вакансии, затем они последовательно перемещаются по кристаллу (рис.3.2,а).
При диффузии атомов по междоузлиям происходят перескок атома из узла решетки в междоузлие и последующие перемещения его уже только по ним (рис.3.2,б).
Рис.3.1.
Механизмы диффузии при обмене местами
атомов
Рис.3.2. Механизм диффузии атомов по вакансиям (а) и междоузлиям (б)
Эти два механизма диффузии наиболее вероятны в реальных кристаллах с большой концентрацией дефектов. Модели механизмов диффузии атомов по вакансиям и междоузлиям были предложены Я.И.Френкелем в 1926 г. В рамках кинетической теории кристаллов, развитой Я.И.Френкелем, эти механизмы можно представить следующим образом. Атомы, находящиеся в узлах кристаллической решетки, находятся в непрерывном тепловом движении около центра равновесия. Часть из них приобретает энергию, достаточную для преодоления потенциального барьера, удерживающего их в положении равновесия. Такие атомы переходят из положения равновесия в узле решетки в неравновесное положение в междоузлии. При этом образуется дефект по Френкелю (атом в междоузлии и пустой узел - вакансия).
Наряду с дефектами по Френкелю в кристаллической решетке могут образовываться только вакансии - дефекты по Шоттки. Они возникают при выбросе за счет тепловых колебаний одного из поверхностных атомов из положения равновесия так, что он сохраняет с кристаллом только частичную связь (адсорбированное состояние).
Вакансии, образующиеся за счет дефектов по Френкелю и по Шоттки, в результате тепловых колебаний могут быть легко замещены соседними атомами, что приводит к их перемещению по узлам кристаллической решетки. В кристалле при тепловом равновесии содержится определенное количество вакансий. Их концентрация увеличивается с температурой по экспоненциальному закону
Nv ~ exp(- Ev/(k T), (3.1)
где Еv - энергия, затрачиваемая на образование вакансии; k = 8.6310-5 эВ/град - постоянная Больцмана;Т - температура кристалла.
Концентрация равновесных вакансий в кристаллических решетках германия и кремния при комнатной температуре составляет 1013 – 1014 м-3 и увеличивается с повышением температуры, а также при возрастании концентрации примесей и дефектности решетки. Так, в условиях термодинамического равновесия в кремнии при температурах 1273 – 1473 К Nv = 1021 – 1022 м-3.
При достижении концентрацией значения 51025 м-3 (т.е. когда количество вакансий приближается к 10-3 % от количества узлов) кристалл плавится.
Внедренные в междоузлия атомы могут относительно легко перемещаться по ним, так как они связаны с решеткой слабее, чем атомы, находящиеся в узлах. За счет этого атомы в решетке с дефектами могут обладать достаточно высокой подвижностью. Скорость перемещения атомов, выраженная как вероятность их перехода из одного равновесного положения в другое вследствие статистического характера процесса, возрастает с повышением температуры по экспоненциальному закону
W = Wo exp[- E/(kT)], (3.2)
где Е – потенциальный барьер (энергия активации), преодолеваемый атомом при переходе из одного положения равновесия в другое, высота которого определяется характером химической связи атомов в кристалле и механизмом диффузии.
Хаотическая самодиффузия. Коэффициент хаотической самодиффузии. Качественную характеристику особенностей различных механизмов диффузии дополним количественной характеристикой. Это может быть сделано путем введения специального параметра, называемого коэффициентом диффузии.
Силовой рельеф, образуемый полем, связывающим частицы кристалла, имеет такую же периодическую структуру, как и решетка кристалла. Для диффундирующей частицы он представляется в виде периодических потенциальных барьеров определенной высоты, препятствующих ее движению по кристаллу. Преодолеть такой барьер способна лишь частица с необходимым для этого уровнем энергии, случайно приобретенным в результате тепловой флуктуации. Поэтому путь движения частиц можно представить в виде отдельных скачков, каждый из которых приводит к преодолению одного барьера.
При вакансионном механизме переноса такой скачок представляет собой перескок частицы из одного узла в другой (вакантный), при междоузловом – скачок из одного междоузлия в другое. Частица при этом совершает путь, длина которого равна либо параметру решетки, либо величине, близкой к нему. Будем рассматривать такой перескок, как элементарный акт самодиффузии.
В кристалле, находящемся в равновесном состоянии перемещения атомов носят случайный, хаотический характер. Тем не менее, частицы перемешиваются, вследствие чего происходит их смещение, т.е. диффузия (от лат.: diffusio – распространение). При этом из-за беспорядочного (в изотропной среде – во все стороны равновероятного) движения общий путь, совершаемый частицей за единицу времени, оказывается намного больше действительного, реального смещения от первоначального ее положения. Учет такого смещения, основанный на статистическом рассмотрении явлений случайных блужданий, может быть осуществлен, если просуммировать квадраты длин элементарных путей (скачков), совершенных частицей, т.е. определить ее суммарное среднеквадратичное смещение от изначального положения. Это можно записать так:
(3.3)
где
- суммарное среднеквадратичное смещение
частицы; s – длина ее элементарного
пути.
Примем для простоты, что
s1 = s2 = s3 = si = s, (3.4)
тогда
=
ns2,
(3.5)
где n - число скачков, совершенных частицей за определенный промежуток времени.
Условие (3.4) означает, что соотношение (3.5) пригодно для обсуждения явления перескока частиц с изотропных телах, какими являются например кристаллы с кубической решеткой.
Величина
учитывает
возможное смещение частиц от изначального
положения во всех возможных шести
направлениях (вперед и назад вдоль
каждого из трех направлений трехмерного
пространства). Таким образом, лишь шестую
часть этой величины можно отнести к
одному направлению:
.
(3.6)
С другой стороны, среднеквадратичное смещение является функцией времени и можно записать, что
(3.7)
где t - общее время дрейфа частицы; D - коэффициент пропорциональности, введенный лишь для соблюдения размерности величин, входящих в соотношение (3.7).
Выясним физический смысл этого коэффициента. Для этого приравняем (3.6) и (3.7) друг к другу:
Dt = ns2/6. (3.8)