
- •Методические указания
- •Часть 1
- •Лабораторная работа 1 изучение эффекта холла в полупроводниках
- •Лабораторная работа 2 исследование температурной зависимости электропроводности металлов и проводников
- •Электропроводность чистых металлов
- •Лабораторная работа 3 исследование фотопроводимости полупроводников
- •Лабораторная работа 4 изучение зависимости контактной разности потенциалов от температуры
- •Лабораторная работа 5 исследование выпрямляющих свойств p-n-перехода
- •Часть 1
- •355028, Г. Ставрополь, пр. Кулакова, 2
Министерство науки и образования Российской Федерации
Федеральное агентство по образованию
Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования
«Северо-Кавказский государственный технический университет»
Методические указания
к выполнению лабораторных работ
по дисциплине «Физика твердого тела»
для студентов специальности 210104 «Материалы электронной техники»
Часть 1
Ставрополь
2010
М
Методические указания включают в себя описание физических явлений, используемых при разработке измерительной техники, принципов работы лабораторных установок, их устройство, правила работы с ними, указания по технике безопасности, методику и порядок выполнения лабораторной работы, контрольные вопросы, рекомендуемую литературу.
Составитель: Лисицын С. В.
Рецензент: Валюхов Д. П.
Лабораторная работа 1 изучение эффекта холла в полупроводниках
ЦЕЛЬ И СОДЕРЖАНИЕ: исследование зависимости ЭДС Холла в полупроводнике от индукции магнитного поля; определение чувствительности датчика Холла.
ТЕОРЕТИЧЕСКОЕ ОБОСНОВАНИЕ
Эффект Холла заключается в появлении поперечной разности потенциалов в образце с током, помещенном в магнитном поле.
Р
ассмотрим
полупроводниковый образец толщиной d,
шириной l
с электронным типом проводимости (рис.
1.1).
Предположим, что по пластине образца течет ток плотностью j в направлении, указанном на рисунке, направление скорости электронов υ будет противоположно. Если образец поместить в магнитное поле B, то под действием силы Лоренца электроны будут отклоняться к боковой грани образца, на которой скапливается отрицательный заряд, на противоположной грани остается нескомпенсированный положительный заряд ионов кристаллической решетки. Возникает поперечное электрическое поле напряженностью EH , и поперечная разность потенциалов UH – ЭДС Холла.
Разделение зарядов в образце будет продолжаться до тех пор, пока сила Кулона F и сила Лоренца FЛ не уравновесят друг друга, т. е.
e υx Bz – e EH x = 0. (1.1)
Отсюда
EH
х =
υx
Bz
=
= RH
jx
B,
(1.2)
где RH
=
– постоянная Холла, ne
– концентрация электронов.
Для электрона
RH
= –
.
(1.3)
Очевидно, постоянная Холла в материале р-типа проводимости, где носителями заряда являются дырки, равна
RH
=
,
(1.4)
где nр ‑ концентрация дырок.
Знак постоянной Холла RH, и следовательно, знак ЭДС Холла UH будут зависеть от знака носителей заряда в полупроводнике. Если перейти от напряженности EH поля Холла к ЭДС Холла UH и от плотности тока j к полному току через образец I, то выражение (1.2) примет вид:
UH
=
,
(1.5)
где d – размер образца в направлении В.
Из анализа выражений (1.3 ‑ 1.5) видно, что знание постоянной Холла позволяет найти концентрацию и знак носителей заряда.
Если, помимо ЭДС Холла, измерить электропроводность σ = enμn образца, то можно найти подвижность μn носителей заряда:
μn = RH σ. (1.6)
АППАРАТУРА И МАТЕРИАЛЫ
Д
ля
исследования зависимости ЭДС Холла в
полупроводнике от индукции магнитного
поля; определения знака, концентрации
и подвижности основных носителей в
полупроводнике используется установка,
принципиальная схема и передняя панель
которой приведены на рис. 1.2 и рис. 1.3.
Образец 1 находится в магнитном поле, силовые линии которого перпендикулярны плоскости рисунка. Схема создания магнитного поля включается переключателем 7, величину и направление магнитного поля можно изменять переключателями 9 и 8 соответственно (схема создания и регулирования величины магнитного поля на рис. 1.2 не показана).
Через образец течет электрический ток, величину и направление которого можно изменять потенциометром 5 и переключателем 6, падение напряжения на образце регистрируется вольтметром 3.
При протекании тока через образец, находящийся в магнитном поле, возникает ЭДС Холла, регистрируемая милливольтметром 2.
УКАЗАНИЯ ПО ТЕХНИКЕ БЕЗОПАСНОСТИ
При выполнении лабораторных работ необходимо выполнять основные правила внутреннего распорядка и техники безопасности при работе в лабораториях.
К работе на приборах допускаются студенты только после изучения настоящих методических указаний и получения допуска у преподавателя.
МЕТОДИКА И ПОРЯДОК ВЫПОЛНЕНИЯ РАБОТЫ
Для определения зависимости ЭДС Холла от индукции магнитного поля необходимо, поддерживая постоянной силу тока в образце, измерять ЭДС Холла при различных значениях магнитной индукции и направлениях магнитного поля. По полученным экспериментальным данным необходимо построить график зависимости ЭДС Холла от величины магнитной индукции UH = f (B). По графику зависимости ЭДС Холла от величины магнитной индукции UH = f (B) определить чувствительность датчика Холла.
Для нахождения концентрации носителей заряда можно использовать ранее полученные результаты, определив постоянную Холла:
RH
=
.
Из уравнений (1.3) – (1.5) получим:
n
=
.
Для определения подвижности свободных носителей заряда необходимо измерить падение напряжения U на образце между точками c и f и определить проводимость полупроводникового образца:
σ
=
=
=
,
где Е – напряженность электрического поля между точками с и f, L – расстояние между точками с и f , S – площадь сечения образца.
Зная постоянную Холла RH и проводимость образца σ можно определить подвижность свободных носителей заряда:
μ = RH σ.
Численные значения магнитной индукции В1 – В6 и геометрические размеры образца приведены на экспериментальной установке.
Содержание отчета и его форма
Отчет по лабораторной работе оформляется в соответствии c формой, приведенной в приложении А.
КОНТРОЛЬНЫЕ ВОПРОСЫ
Каковы условия возникновения ЭДС Холла, от чего она зависит?
Как с помощью эффекта Холла определить основной тип носителя в полупроводнике?
Почему при изготовлении датчиков Холла применяют полупроводниковые материалы, а не металлы?
СПИСОК РЕКОМЕНДУЕМОЙ ЛИТЕРАТУРЫ
Список основной литературы
1. Гуревич А. Г. Физика твердого тела. СПб. : БХВ-Петербург, 2004.
2. Павлов П. В., Хохлов А. Ф. Физика твердого тела. М. : Высшая школа, 2000.
Список дополнительной литературы
1. Гаркуша Ж. М. Основы физики полупроводников. М.: Высшая школа, 1982.
2. Голубин М. А., Хабибулин И. М., Шестопалова В. И. Введение в лабораторный практикум. Элиста: Джангар, 1997.
3. Епифанов Г. И. Физика твердого тела. М.: Высшая школа, 1977.
4. Шалимова К. В. Введение в физику полупроводников. М.: Высшая школа, 1986.
5. Бонч-Бруевич В. Л., Калашников С. Г. Физика полупроводников. М.: Наука, 1977.
6. Киселев В. Ф., Козлов С. Н., Зотеев А. В. Основы физики поверхности твердого тела. М.: МГУ, 1999.