Рідинно-фазна епітаксія складних оксидів

Комплексний лабораторно-виробничий модуль для вирощування тонких шарів оксидів методом рідинно-фазної епітаксії за рівнем технологічної оснащеності не має аналогів у Європі і дозволяє виконувати розробки технологій одержання монокристалічних плівок або епітаксійних структур сполук складних оксидів на сучасному світовому рівні.

 Фахівцями лабораторії рідинно-фазної епітаксії розроблені та розробляються технології, які дозволяють одержувати нові високотехнологічні продукти – епітаксійні структури діаметром до 3-х дюймів (76,2 мм) складнозаміщених рідкісноземельних гранатів для різноманітних застосувань у сучасній електроніці. Висока якість кінцевих продуктів забезпечується виконанням всіх технологічних операцій з підготовки процесів вирощування та фінішної очистки структур у "чистій кімнаті” класу "100”, де постійно підтримуються надзвичайно високі параметри технологічного мікроклімату.

Серед чисельних розробок – нові матеріали магніто- та квантової електроніки:

· широка номенклатура епітаксійних структур на основі залізо-ітрієвого гранату для створення нового покоління планарних інтегральних надвисокочастотних пристроїв спін-хвильової електроніки;

· структур на основі рідкісноземельних залізних гранатів з гігантським значенням магнітооптичного ефекту Фарадея для візуалізації електромагнітних полів, пристроїв керування оптичними променями та інших задач прикладної магнітооптики; [12]

· гранатових структур з контрольованими магнітними параметрами для надчутливих сенсорів малих постійних та змінних магнітних полів;

· плівкових структур на основі рідкісноземельних алюмінієвих та галієвих гранатів, що призначені для використання в якості активних середовищ надмініатюрних мікрочіпових лазерів, надпотужних технологічних дискових лазерів та пасивних пристроїв модуляції добротності резонаторів лазерів.

 

Робота на комплексі рідинно-фазної епітаксії монокристалічних плівок складних оксидів.

Прецизійна механічна обробка кристалів

Дільниця укомплектована устаткуванням фірми "LOGITECH” (Великобританія), спеціально призначеним для оброблення пласких поверхонь монокристалічних оптичних блоків та стержнів, і дозволяє досягати площинності в десяті долі довжини хвилі і відхилення від паралельності робочих граней – не більше 5 кутових секунд. Дільниця розташована у чистому приміщенні класу "10000".

Контроль експлуатаційних параметрів активних елементів оптоелектронних пристроїв та властивостей матеріалів провадиться на лабораторних стендах за розробленими методиками для контролю люмінесцентних та абсорбційних властивостей матеріалів, генераційних властивостей лазерних елементів, параметрів лазерного пучка, спотворення хвильового фронту світлової хвилі під час її проходження крізь оптичні елементи, експлуатаційних параметрів акусто-, електро-, нелінійно-оптичних пристроїв та ін.

Лабораторії дільниці укомплектовані обладнанням фірм "EKSPLA” (Литва), "GENTEC” (Канада), "Rohde&Szwarz” (Німеччина), "LINKAM” (Велика Британія) "Stanford Research” (США), "SHIMADZU” (Японія).

 

У статкування фірми "LOGITECH”