
- •Характеристики цимс
- •1.3.1 Принцип работы.
- •Параметры и характеристики оу
- •Вопрос 33 Структура оу
- •52 Эпитаксия
- •3 Термическое окисление
- •1 Термическое (вакуумное) напыление.
- •2 Катодное напыление.
- •3 Ионо-плазменное
- •1 Подложки гимс.
- •4 Катушки индуктивности
- •Вопрос№44Пленочные проводники и контактные площадки
1 Подложки гимс.
Подложки в ГИМС играют очень важную роль. Во-первых, подложка является конструктивной основой микросхемы: на неё наносят в виде пленок пассивные элементы схемы и размещают контакты для подключения микросхемы к аппаратуре. Во- вторых, от материала подложки и его обработки существенно зависят параметры осаждаемых пленочных слоев и надежность всей микросхемы.
Материал подложки должен обладать:
- высоким удельным электрическим сопротивлением,
- быть механически прочным при небольших толщинах,
- иметь высокую физическую и химическую стойкость при нагревании до нескольких сот градусов,
- не выделять газов в вакууме,
- обладать хорошей полируемостью поверхности,
- иметь хорошую адгезию (механическое сцепление, прилипаемость) к напыляемым пленкам,
- иметь хорошую теплопроводность,
В настоящее время для подложек ГИМС в основном применяют ситалл и фотоситалл. Они представляют собой стеклокерамический материал, получаемый путем термообработки (кристаллизации) стекла. По своим свойствам они превосходят свойства исходного стекла и отвечают всем выше перечисленным требованиям.
Подложки, применяемые для ГИМС, имеют, как правило, квадратную или прямоугольную форму
Вопрос№42 Резисторы.
Структура и конфигурации пленочного резистора показаны на рисунке 5.2. Как видим, в общем случае конфигурация пленочного резистора такая же, как диффузионного. Она может быть полосковой или зигзагообразной.
Расчет сопротивления можно проводить по формуле R=RSKФ, где RS - удельное сопротивление слоя зависит от его толщины и материала и KФ =l/b- коэффициент формы. Коэффициент формы лежит в пределах 0,1 – 50.
Из выше сказанного можно сделать следующие выводы:
- диапазон сопротивлений пленочных резисторов несравненно шире, чем полупроводниковых (диффузионных и ионно-легированных);
- тонкопленочная технология обеспечивает более высокую точность и стабильность резисторов;
- подгонка обеспечивает существенное уменьшение разброса (допусков) сопротивлений; следовательно, возможность такой подгонки является важным преимуществом пленочных резисторов;
Подгонку резисторов можно осуществлять разными способами. Простейший, исторически первый способ состоит в частичном механическом соскабливании резистивного слоя до того, как поверхность ИС защищается тем или иным покрытием. Более совершенными являются методы частичного удаления слоя с помощью электрической искры, электронного или лазерного луча. Разумеется, все эти способы позволяют только увеличивать сопротивление резистора. Наиболее совершенный и гибкий метод состоит в пропускании через резистор достаточно большого тока. При токовой подгонке одновременно идут два процесса: окисление поверхности резистивного слоя и упорядочение его мелкозернистой структуры. Первый процесс способствует увеличению, а второй - уменьшению сопротивления. Подбирая силу тока и атмосферу, в которой ведется подгонка, можно обеспечить изменение сопротивления и в ту, и в другую сторону на ±30% с погрешностью (по отношению к желательному номиналу) до долей процента.
Вопрос№43 Конденсаторы
Емкость конденсатора определяется по формуле
С= С0S, где С0 – удельная емкость конденсатора зависит от материала диэлектрика и толщины пленки, S- площадь конденсатора. Толщина диэлектрической пленки d существенно зависит от технологии: для тонких пленок d = 0,1 - 0,2 мкм, для толстых d = 10 - 20 мкм. Поэтому при прочих равных условиях удельная емкость С0 толстопленочных конденсаторов меньше, чем тонкопленочных. Однако различие в толщине диэлектрика может компенсироваться благодаря различию диэлектрических проницаемостей материалов.
- удельные емкости пленочных конденсаторов (при надлежащем выборе диэлектрика) в несколько раз превышают удельную емкость МОП-конденсаторов и тем более диффузионных конденсаторов;
- максимальные емкости пленочных конденсаторов могут быть на несколько порядков больше, чем емкости полупроводниковых конденсаторов, главным образом благодаря большей площади (поскольку площадь подложек ГИМС значительно превышает площадь кристаллов полупроводниковых ИС).
Для высокочастотных тонкопленочных конденсаторов оптимальным диэлектриком является моноокись кремния, а также моноокись германия.