
- •Введение
- •I аналитический обзор
- •II разработка технических требований на микросхему
- •III выбор и обоснование конструктивно-технологического исполнения микросхемы
- •IV расчет элементов и выбор навесных компонентов
- •4.1 Конструктивный расчет тонкопленочных резисторов
- •4.1.1 Расчет рассеиваемой мощности
- •4.1.2 Расчет конструктивных размеров резисторов
- •4.2 Выбор навесных компонентов
- •V разработка топологии имс
- •5.1 Выбор материалов
- •5.2 Определение размера платы и выбор типоразмера корпуса
- •5.3 Разработка коммутационной схемы
- •5.4 Оценка качества разработанной топологии
- •5.4.1 Расчет теплового режима
- •5.4.1.1 Расчет теплового режима резисторов
- •5.4.1.2 Тепловой расчет транзисторов
- •5.5 Расчет паразитных связей
- •5.6 Оценка надежности
- •VI разработка и обоснование технологического маршрута изготовления имс
- •6.1 Подложки гис
- •6.2 Очистка поверхности и контроль подложек
- •6.3 Формирование элементов тонкоплёночных гис
- •6.3.1 Технология нанесения тонких плёнок
- •6.4 Операции контроля тонких плёнок
- •6.5 Разделение подложек на платы
- •6.6 Сборка микросхем
- •6.6.1 Монтаж плат в корпус
- •6.6.2 Монтаж навесных компонентов
- •6.6.3 Присоединение выводов
- •6.6.4 Герметизация
- •6.6.5 Термотоковая тренировка
- •VII Промышленная экология и безопасность производства
- •7.1 Анализ условий труда при изготовлении и контроле сборок микросхемы
- •7.2 Расчёт искусственного освещения
- •7.3 Расчет механической вентиляции
- •7.4 Расчет зануления
- •VIII Экономическая часть Обоснование потребности в данном устройстве на потребительском рынке
- •8.1 Организация и планирование проекта
- •8.1.1 Анализ рынка сбыта
- •8.1.2 Оценка конкурентной среды
- •8.1.3 Организационный план
- •8.2 Расчёт затрат и договорной цены
- •8.2.1 Расчёт затрат на материалы и покупные изделия
- •8.2.2 Специальное оборудование для научных целей
- •8.2.3 Основная заработная плата исполнителей
- •8.2.4 Дополнительная заработная плата
- •8.3 Оценка экономической целесообразности проекта
- •Заключение
- •Список литературы
- •Приложение а - основные виды печатных плат
- •1 Топология и чертежи печатных плат
- •2 Программные средства проектирования печатных плат
- •4 Установка и распайка компонентов
- •Приложение б- Выбор материалов для изготовления корпуса устройства
- •Приложение в - Конструкторские расчеты. Расчет показателей качества конструкции
- •1 Расчет теплового режима платы
- •1.1 Выбор модели
- •1.2 Расчет среднеповерхностной температуры корпуса
- •1.3 Расчет среднеповерхностной температуры нагретой зоны
- •1.4 Расчет температуры в центре нагретой зоны
- •2 Расчет вибропрочности платы
- •3 Рассчет допустимой стрелы прогиба печатной платы
- •4 Расчет компоновочных параметров блока
- •5 Расчет размерной цепи
- •Приложение г - Технологическая часть
- •1 Выбор типа и организационной формы производства
- •2 Оценка технологичности конструкции устройства
- •2.1 Качественная оценка технологичности
- •2.2 Количественная оценка технологичности
- •2.2.1 Определение конструкторских показателей технологичности функциональной ячейки устройства:
- •2.2.2 Определение производственных показателей технологичности
- •2.3 Комплексная оценка технологичности
- •3 Проектирование технологического процесса изготовления блока
III выбор и обоснование конструктивно-технологического исполнения микросхемы
Основным достоинством ИМС является их весьма высокая надежность, малая масса, размеры ИМС и энергопотребление.
По конструктивно-технологическом исполнении, ИМС подразделяют на три большие группы: полупроводниковые, гибридные и прочие (рисунок 3.1).
Рисунок 3.1 – Конструктивное исполнение ИМС
Классификация ИМС по степени интеграции представлена в таблице 3.1.
Таблица 3.1 – Классификация ИМС по степени интеграции
Уровень |
Количество элементов и компонентов |
||
интеграции |
Цифровые ИМС |
Аналоговые ИМС |
|
|
МДП |
Биполярные |
|
МИС |
до 100 |
до 100 |
до 30 |
СИС |
свыше 100 до 1000 |
свыше 100 до 500 |
свыше 30 до 100 |
БИС |
свыше 1000 до 10000 |
свыше 500 до 2000 |
свыше 100 до 300 |
СБИС |
свыше 10000 |
свыше 2000 |
свыше 300 |
В настоящее время накоплен достаточный опыт в технологии микроэлектронных изделий, для того чтобы определить, какой из конструктивно-технологических вариантов больше всего соответствует данному типу схемы. В большинстве случаев микросхему можно реализовать любым из существующих конструктивно-технологических способов, но ее изготовление наиболее целесообразно и экономично при использовании какого-то определенного варианта.
Преимущества гибридных ИМС по сравнению полупроводниковыми.
Гибридные интегральные микросхемы по сравнению с полупроводниковыми имеют ряд преимуществ: обеспечивают широкий диапазон номиналов, меньшие пределы допусков и лучшие электрические характеристики пассивных элементов (более высокая добротность, температурная и временная стабильность, меньшее число и менее заметное влияние паразитных элементов); позволяют использовать любые дискретные компоненты, в том числе полупроводниковые БИС и СБИС. В качестве навесных компонентов в ГИС применяют миниатюрные дискретные резисторы, конденсаторы, индуктивные катушки, дроссели, трансформаторы. При мелкосерийном производстве ГИС дешевле полупроводниковых (примерно одной и той же функциональной сложности) ИМС. Подготовка персонала для производства ГИС сравнительно проста.
Если для создания микроэлектронного изделия необходимы пассивные элементы и компоненты высокого качества, предпочтительнее выполнить его в виде ГИС.
Одна из основных характеристик микроэлектронного изделия – рассеиваемая мощность. При гибридном исполнении можно обеспечить изготовление изделий достаточно большой мощности, что важно при создании аналоговых устройств, управляющих мощными выходными цепями.
Наличие большого числа контактных узлов, сварных соединений обусловливает меньшую надежность ГИС по сравнению с полупроводниковыми ИМС. Однако возможность проведения предварительных испытаний и отбора активных навесных и пассивных компонентов позволяет создавать ГИС достаточно высокой надежности.
Преимущества гибридных тонкопленочных ИМС по сравнению с толстопленочными:
1. Возможность получения без дополнительной подгонки более узких допусков на номиналы пассивных элементов.
2. Более высокая плотность размещения элементов на подложке.
3. Подложки тонкопленочных микросхем обладают меньшими высокочастотными потерями и имеют более высокую радиационную стойкость.
Заданную ИМС удобнее реализовать в гибридном конструктивно-технологическом варианте изготовления, так как в ней пассивных элементов (десять резисторов) больше чем активных элементов (четыре транзистора). Так же мощности рассеивания на элементах малы, что позволяет использовать тонкопленочную технологию, а не толстопленочную.
Таким образом, для разрабатываемой микросхемы выбираем гибридное тонкопленочное исполнение.