
- •1 Цель и содержание работы
- •2 Краткие теоретические сведения
- •2.1 Понятие барьерной, емкости, и контактной разности потенциалов.
- •2.2 Определение концентрации примесей в p-n переходе.
- •2.2.1 Случай резкого р-п перехода.
- •2.2.2 Случай плавного р-n перехода.
- •2.3 Зависимость барьерной емкости от температуры.
- •Исследование влияния времени диффузии (в) на профиль распределения примеси в Si(p) в p-n переходе
2.3 Зависимость барьерной емкости от температуры.
В выражении для
толщины р-n
перехода и барьерной емкости входят
два параметра, зависящих от температуры:
относительная диэлектрическая
проницаемость
и высота потенциального барьера UK.
Используя формулу (13) (
)
получаем
для резкого р-n
перехода
(20)
где
-температурный
коэффициент Сб;
- температурный коэффициент
;
температурный
коэффициент UK.
При повышении
температуры
увеличивается, a UK
уменьшается, т.е.
> 0, а
<0,
следовательно
>0.
Диэлектрическая проницаемость полупроводников слабо зависит от температуры. Так для кремния порядка (I,5÷2,0)∙10-4/°С, для германия порядка 10-4/°С.
Рассмотрим
температурную зависимость высоты
потенциального барьера. Для резкого
р+-n
перехода температурный коэффициент
уровня Ферми в сильно легированной
области мал, по сравнению с температурным
коэффициентом уровня Ферми в базе.
Используя выражения (9) и (
)
после преобразований получаем.
(21)
где n - концентрация свободных электронов в области n на границе р-n перехода; Т- температура, Eg - ширина запрещенной зоны полупроводника, k - постоянная Больцмана.
A(Ge)=1.4∙1015 см-3∙К-1.5; A(Si)=3.5∙1015 см-3∙К-1.5
В знаменатель выражения (21) входит ширина запрещенной зоны, следовательно, полупроводникам с более широкой запрещенной зоны соответствует меньшее значение (при одинаковом законе распределения примесей в р-n переходе).
Оценим порядок для резких р+-n переходов, изготовленных из германия и кремния. Ширина запрещенной зоны мало зависит от температуры, так при Т=300 К последнее слагаемое в числителе выражения (21) для германия -3,18 и для кремния равно -1,17. Задаваясь концентрацией примесей в базе n - 1015 см-3, получаем из выражения (21) при Т=300 К: для р-п перехода из германия =-3∙10-3 /°C, для р-n перехода из кремния =1,6∙10-3 /°С.
Из формулы (20), а также из приведенной оценки порядка величин и видно, что при малых обратных напряжениях основной причиной зависимости барьерной емкости от температуры является зависимость высоты потенциального барьера от температуры.
При R1<<X0
V=ER1ωCx
Откуда:
Рисунок 7 Принцип измерения емкости
Экспериментальная часть
Исследование Ge p+ перехода
-
U, В
C, пФ
lgC
lgU
C-2*10-4 (пФ-2)
0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
0,6
0,7
0,8
0,9
1
lgU
lgC
U0=0.9 В
tgα=
tgα=
м-3
U0=
=>
=>
=>
ni=
м-3
эВ
Исследование Si p+-n перехода
-
U,В
C, Пф
lgC
lgU
C-2*10-5 (пФ-2)
0
1
2
3
4
5
6
7
7,1
7,2
7,3
7,4
7,5
7,6
7,7
7,8
7,9
lgU
lgC
U0=1,4 В
tgα=
tgα=
м-3
U0= => => =>
ni=
м-3
эВ