Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Копия Лаба 4.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
1.92 Mб
Скачать

2.3 Зависимость барьерной емкости от температуры.

В выражении для толщины р-n перехода и барьерной емкости входят два параметра, зависящих от температуры: относительная диэлектрическая проницаемость и высота потенциального барьера UK. Используя формулу (13) ( ) получаем для резкого р-n перехода

(20)

где -температурный коэффициент Сб; - температурный коэффициент ; температурный коэффициент UK.

При повышении температуры увеличивается, a UK умень­шается, т.е. > 0, а <0, следовательно >0.

Диэлектрическая проницаемость полупроводников слабо зависит от температуры. Так для кремния порядка (I,5÷2,0)∙10-4/°С, для германия порядка 10-4/°С.

Рассмотрим температурную зависимость высоты потенциального барьера. Для резкого р+-n перехода температурный коэффициент уровня Ферми в сильно легированной области мал, по сравнению с температурным коэффициентом уровня Ферми в базе. Используя вы­ражения (9) и ( ) после преобразований получаем.

(21)

где n - концентрация свободных электронов в области n на границе р-n перехода; Т- температура, Eg - ширина запрещенной зоны полупровод­ника, k - постоянная Больцмана.

A(Ge)=1.4∙1015 см-3∙К-1.5; A(Si)=3.5∙1015 см-3∙К-1.5

В знаменатель выражения (21) входит ширина запрещенной зо­ны, следовательно, полупроводникам с более широкой запрещенной зоны соответствует меньшее значение (при одинаковом законе распределения примесей в р-n переходе).

Оценим порядок для резких р+-n переходов, изготовлен­ных из германия и кремния. Ширина запрещенной зоны мало зависит от температуры, так при Т=300 К последнее слагаемое в числителе выражения (21) для германия -3,18 и для кремния равно -1,17. Задаваясь концентрацией примесей в базе n - 1015 см-3, получаем из выражения (21) при Т=300 К: для р-п перехода из германия =-3∙10-3 /°C, для р-n перехода из кремния =1,6∙10-3 /°С.

Из формулы (20), а также из приведенной оценки порядка ве­личин и видно, что при малых обратных напряжениях основ­ной причиной зависимости барьерной емкости от температуры являет­ся зависимость высоты потенциального барьера от температуры.

При R1<<X0

V=ER1ωCx

Откуда:

Рисунок 7 Принцип измерения емкости

Экспериментальная часть

Исследование Ge p+ перехода

U, В

C, пФ

lgC

lgU

C-2*10-4 (пФ-2)

0

0,1

0,2

0,3

0,4

0,5

0,6

0,7

0,8

0,9

1

lgU

lgC

U0=0.9 В

tgα=

tgα= м-3

U0= => => =>

ni= м-3

эВ

Исследование Si p+-n перехода

U,В

C, Пф

lgC

lgU

C-2*10-5 (пФ-2)

0

1

2

3

4

5

6

7

7,1

7,2

7,3

7,4

7,5

7,6

7,7

7,8

7,9

lgU

lgC

U0=1,4 В

tgα=

tgα= м-3

U0= => => =>

ni= м-3

эВ