
- •«Технология и конструирование гис»
- •Содержание:
- •1. Ведение
- •1.1. Теоретические сведения
- •Конструирование и технология тонкопленочных гис.
- •1. Подложки тонкопленочных гис
- •2. Материалы элементов тонкопленочных гис Материалы резисторов
- •Материалы конденсаторов
- •Материалы проводников и контактных площадок
- •3. Методы формирования конфигураций элементов тонкопленочных гис
- •1) Масочный метод.
- •2. Расчет тонкопленочных элементов
- •2.1. Расчет резисторов
- •2.Определение материала резистивной пленки
- •3.Проверка правильности выбранного материала с точки зрения изготовления резисторов.
- •4.Определение конструкции резисторов по значению коэффициента формы
- •1. Расчет r1
- •Резисторы прямоугольной формы
- •Резисторы прямоугольной формы, у которых длина меньше ширины
- •3. Расчет r5
- •Резисторы сложной формы типа меандр
- •2.2. Расчет конденсаторов
- •1.По табл.3.5. Выбираем материал диэлектрика по рабочему напряжению
- •6. Минимальная удельная емкость для обеспечения точности изготовления наименьшего по номиналу конденсатора:
- •7. Минимальное значение удельной емкости конденсатора:
- •1. Расчет с3,c6,c8
- •Пленочные конденсаторы
- •2.3 Выбор навесных компонентов
- •Навесные конденсаторы
- •3. Определение площади подложки
- •4. Выбор корпуса
- •5. Оценка качества разработанной топологии
- •6. Разработка технологического процесса изготовления гимс
- •6.1. Выбор и обоснование технологического процесса
- •6.2. Технологический маршрут изготовления
- •6.3. Операционная карта
- •7. Требования безопасности
2.Определение материала резистивной пленки
По
таблице 3.4 выбираем материал резистивной
пленки с удельным сопротивлением,
ближайшим по значению к вычисленному
.При
этом необходимо, чтобы ТКR материала
был минимальным, а удельная мощность
рассеяния
- максимальной.
Для резисторов R1,R2,R4,R5,R9,R14,R16:
Материал для напыления резистивной пленки |
Сплав РС-3001 (ЕТО.021.019 ТУ) |
Материал контактных площадок |
Золото с подслоем хрома(нихрома) |
Удельное
поверхностное сопротивление резистивной
пленки
,
|
|
Диапазон номинальных значений сопротивлений, Ом |
200 - 100000 |
Допустимая
удельная мощность рассеяния
,
|
2 |
Температурный
коэффициент сопротивления ТКR при
Т=-60 |
|
Для резисторов R3,R6,R7,R8,R10,R11,R12,R13,R15:
Материал для напыления резистивной пленки |
Кермет К-50С (ЕТО.021.013 ТУ) |
Материал контактных площадок |
Золото с подслоем хрома(нихрома) |
Удельное поверхностное сопротивление резистивной пленки , |
|
Диапазон номинальных значений сопротивлений, Ом |
10000 - 10000000 |
Допустимая удельная мощность рассеяния , |
2 |
Температурный коэффициент сопротивления ТКR при Т=-60 125 |
|
3.Проверка правильности выбранного материала с точки зрения изготовления резисторов.
Полная относительная погрешность изготовления пленочных резисторов:
где
-погрешность
коэффициента формы;
-погрешность
воспроизведения величины
резистивной
пленки;
-погрешность,
обусловленная старением пленки;
-погрешность
переходных сопротивлений контактов;
где
-температурный
коэффициент сопротивления материала
пленки,
1)
-
для сплава РС-3001;
2)
-для Кермет К-50С;
Допустимая погрешность коэффициента формы:
(для
R3,R6,R7,R8,R10,R11,R12,R13,R15);
(для
R1,R2,R4,R5);
(для
R9,R14,R16);
Следовательно, сплав РС-3001 и Кермет К-50С подходит для изготовления всех резисторов с заданной точностью без подгонки.
4.Определение конструкции резисторов по значению коэффициента формы
Коэффициент
формы определяется по формуле:
,где
-номинал -го резистора; -удельное поверхностное сопротивление резистивной пленки;
При
конструируем резистор прямоугольной
формы, у которого длина меньше ширины
(для резисторов R2,R9,R14,R16).
При
конструируем резистор прямоугольной
формы (для резисторов
R1,R3,R6,R7,R8,R10,R11,R12,R13,R15).
При
конструируем резистор сложной формы
(для резисторов R4,R5).
По табл.3.15 определяем технологические ограничения для метода фотолитографии: