Екзаменаційний білет № 7

1. По известной требуемой мощности лазерного излучения (0,6 кВт) для технологической операции ( упрочнение трущихся поверхностей методом проплавления- сталь), обосновать выбор лазера, режим работы, нарисовать и объяснить функциональную схему лазерной технологической установки, произвести расчет объема активной среды и приняв усредненный к.п.д. рассчитать требуемую мощность накачки потребляемую от источника накачки.

2. Описать схему установки и технологический процесс плазмохимического получения азотной кислоты. Выбрать расчетную схему и определить рабочие параметры и геометрические размеры разрядного канала электродугового плазмотрона для плазмохимического получения азотной кислоты при силе тока дуги 270 А и мощности разряда до 50 кВт. Рабочий газ-воздух.

Екзаменаційний білет № 8

1. На основании взаимодействия лазерного излучения с веществом

(инструментальная сталь) обосновать выбор типа лазера, режим работы, нарисовать и объяснить функциональную схему лазерной технологической установки и произвести расчет требуемой мощности излучения для упрочнения поверхности режущего инструмента (резцы и т.д.)

2. Описать принцип действия высокочастотных плазмотронов, указать и обосновать области их технологического применения. Описать конструкцию и определить рабочие параметры и геометрические размеры разрядной камеры ВЧИ – плазмотрона мощностью до 60 кВт, обеспечивающего нагрев воздуха до температуры 6000 К с расходом 1,5 г/с.

Екзаменаційний білет № 9

1. На основании взаимодействия лазерного излучения с веществом (стеклотекстолит, гетинакс – фольгированные медью – 0,1 мм) обосновать выбор типа лазера, режим работы, нарисовать и объяснить функциональную схему лазерной технологической установки и произвести расчет требуемой мощности излучения для сверления отверстий диаметром 1 мм, толщина материала – 1 мм.

2. Описать схему установки и технологический процесс плазменной наплавки при использовании присадочного металла в виде проволоки. Определить погонную энергию наплавки и ширину зоны наплавки в среде рабочего газа аргона при силе тока дуги наплавочного плазмотрона 150 А, скорости наплавки 10 м/ч и дистанции 10 мм.

Екзаменаційний білет № 10

1. По известной требуемой мощности лазерного излучения (3 кВт) для технологической операции (упрочнение трущихся поверхностей методом размягчения), газового лазера обосновать необходимость прокачки, выбрать режим работы, нарисовать и объяснить функциональную схему лазерной технологической установки, произвести расчет объема активной среды (приняв реальные пропорции газовой смеси) и приняв усредненный к.п.д. рассчитать требуемую мощность накачки потребляемую от источника накачки.

2. Описать схему установки и технологический процесс плазменно – порошковой наплавки. Выбрать, обосновать и описать конструкцию электродугового плазмотрона для плазменно-порошковой наплавки. Определить диаметр плазмообразующего сопла выбранной конструкции плазмотрона и расход рабочего газа при силе тока дуги 200 А и толщине наплавленного покрытия 2 мм.

ЕКЗАМЕНАЦІЙНИЙ БІЛЕТ № 11

1. Функциональная схема лазерной установки для термоядерного синтеза дейтерий-тритий – 732 микрона. Рассчитать требуемую энергию излучения (суммарную и одного канала) объем активной среды.

2. Выбрать, обосновать и описать наиболее эффективную конструкцию электродугового плазмотрона для напыления. Составить расчетную схему и определить рабочие параметры и геометрические размеры разрядного канала выбранной конструкции плазмотрона при следующем режиме процесса напыления: сила тока дуги до 300 А, расход воздуха до 3 г/с, температура плазменной струи до 5500 К.