
- •Физика полупроводников
- •Полупроводниковые диоды
- •Биполярные транзисторы
- •Полевые структуры
- •Основные соотношения для решения задач
- •Физика полупроводников
- •Полупроводниковые диоды
- •Биполярные транзисторы
- •Полевые структуры
- •Расчет диффузионных процессов. Окисление
- •Частые материалы. Получение структур методом сплавления
- •Свойства интеграла ошибок
- •Числовые значения функции дополнения интеграла ошибок
- •Важнейшие электрофизические характеристики полупроводниковых материалов Электрофизические характеристики арсенида галлия GaAs и
- •Электрофизические характеристики некоторых материалов
- •Физические постоянные
- •Коэффициенты преобразования
- •Некоторые характеристики электродных материалов
- •Физические характеристики пленок нитрида кремния
Биполярные транзисторы
Биполярный транзистор – система двух взаимодействующих переходов, обязательным условием взаимодействия которых является…Что именно?
Нарисуйте зонною диаграмму для npn-транзистора, работающего в активном режиме и в режиме отсечки. Укажите факторы, ограничивающие частотный предел коэффициента передачи тока α.
Нарисуйте зонную диаграмму для npn-транзистора, работающего в режиме насыщения. Поясните механизм образования внутреннего поля в базе дрейфового транзистора.
npn-транзистор включен как диод (база и эмиттер закорочены). На диод подано прямое смещение UД =0,7 В. При IЭ0 = 10-14 А αN =0,98, αI=0,4, φт=0,026 В. Найдите ток базы IБ.
npn-транзистор включен как диод (база и эмиттер закорочены). На диод подано прямое смещение UБЭ =0,65 В. При этом IЭ0 = 10-14 А. Найдите общий ток диода, пользуясь уравнением Эберса-Молла.
Биполярный транзистор работает в активном режиме при IЭ0 = 10-12 А, IК0 = 2*10-12 А, αN =0,99, αI=0,5, UБЭ = 0,65 В, UБК = 4,35 В. Найдите значения IК, IБ, IЭ.
npn-транзистор работает в режиме насыщения и имеет следующие параметры:
концентрация примеси в эмиттере NДЭ =1019 см-3, толщина активной базы W=1,5*10-14 см, концентрация примеси в базе NАБ=1017 см-3, диффузионная длина дырок LрЭ =1,5*10-3 см, диффузионная длина электронов LnБ =2*10-3 см,
время жизни неосновных носителей (электронов ) τn = 2*10-7 с, время жизни неосновных носителей (дырок ) τр =1*10-6с. Найдите коэффициент усиления транзистора β (поверхностной рекомбинацией и зависимостью β от тока пренебречь).
Исходя из уравнения Эберса-Молла докажите, что если IК =0, то UКЭ = φт (ln α1). Этот результат показывает, что если на диод база-эмиттер есть прямое смещение, а вывод коллектора оборван, то UКЭ имеет ненулевое значение.
Докажите, что в области полупроводника, в которой примесная концентрация экспоненциально зависит от координаты, действует постоянное электрическое поле.
Рассчитайте примесную концентрацию на границе области объемного заряда коллекторного перехода в транзисторе с толщиной базы 0,3 мкм, постоянным полем в базе, равным 4*103 В/см, и примесной концентрацией на границе эмиттер-база 1017 см-3.
При комнатной температуре коллекторный ток IК и базовый ток IБ nрn-транзистора, работающего в активном режиме, обычно положительны. Пусть при повышении температуры ток IК поддерживается на постоянном уровне. Если при этом изменять ток IБ ,то окажется, что ток IК уменьшается и в конечном счете даже меняет знак. Какими физическими эффектами можно объяснить такое поведение тока?
Пусть в nрn-транзисторе примесная концентрация в базе изменяется линейно от 1017 см-3 у эмиттерного края до1016 см-3 у коллекторного края, а толщина базы 1 мкм. Примесные концентрации в эмиттере и коллекторе одинаковы и равны 1019 см-3. Нарисуйте: а) распределение по координате концентрации неосновных носителей при тепловом равновесии и в случае работы в активном режиме (при низком уровне инжекции); б) график зависимости электрического поля в базе от координаты.
Концентрация примесей в базе, эмиттере и коллекторе pnр-транзистора контролируется так, что только 1 % дырок, инжектируемых эмиттером, теряется при рекомбинации в базе. Пренебрегая токами утечки, найдите коэффициент передачи тока эмиттера, эффективность эмиттера, коэффициент переноса, если электронная составляющая тока эмиттера InЭ =0,01 IЭ (коэффициент умножения в коллекторном переходе принять равным единице).
Решение:
Эффективность эмиттера (коэффициент инжекции) равна
γ= IрЭ(InЭ +IрЭ)≈( IЭ - InЭ)/ =1- InЭ / IЭ =0,99.
Коэффициент переноса
χ= IрК / IрЭ =( IрЭ -0,01 IрЭ)/ IрЭ =0,99.
Коэффициент передачи тока эмиттера α=γχМ, где коэффициент умножения М=1, следовательно, α=0,98.
В nрn-транзисторе избыточная концентрация электронов на эмиттерном переходе равна Δn=1020 м-3. Площади переходов одинаковы и равны S= 10-6 м2. Постройте график примерного распределения концентрации электронов в области базы и определите ток коллектора, если эффективная толщина базы W = 4*10-5 м, а подвижность электронов при Т=300 К равна μn=0,39 м2/(В*с).
Решение:
Предположим, что толщина базы много меньше диффузионной длины электронов (неосновных носителей). Концентрация акцепторных примесей в базе значительно ниже концентрации донорных примесей в эмиттере и коллекторе, в базовой области отсутствует рекомбинация носителей, т.е. распределение электронов в базе линейное, концентрация неосновных носителей на коллекторном переходе равна нулю, как и показано на рис. 3.1.
Плотность тока неосновных носителей заряда (электронов) в базе j=qDn dnЭ/dx. Коэффициент диффузии находим из соотношения Эйншнейна Dn=μn φт= 10-2 м2/с2.
Определим градиент концентрации электронов в базе:dnЭ/dx =-1020/4*10-5 м-4.
Принимая за положительное направление тока коллектора в активном режиме, имеем
IK ≈ -jnS=-qSDn dnЭ/dx=4 мкА.
Докажите, что в активном режиме в pnp-транзисторе отношение дырочного и электронного токов IрЭ/InЭ, протекающих через эмиттерный переход, прямо пропорционально отношению удельных проводимостей материалов р- и n-типа.
В чем различие между обратным током одиночного перехода I0 и обратным током коллекторного перехода IK0?
Поясните, почему при положительных токах эмиттера ток коллектора становится равным нулю при прямых смещениях коллекторного перехода.
Поясните смысл граничной частоты в схеме с общей базой и схеме с общим эмиттером, частоты отсечки и максимальной частоты генерации.
По каким причинам возможно изменение распределения концентрации неравновесных носителей в базе.
Рассчитайте эффективность эмиттера интегрального прп-транзистора, если расстояние от эмиттерного контакта до края эмиттерной электронейтральной области равно 0,8 мкм, а число Гуммеля для базы GNБ = 3·1012 см-2; эмиттерная поверхностная концентрация примеси равна 6· 1020 cм-3 и экспоненциально убывает до 5·1016 см-3 в точке х = 0,8 мкм; эффекты сильного легирования уменьшают число Гуммеля для эмиттера GNЭ до 2% от интегральной примесной концентрации.
Решение:
Для расчета необходимо знать число Гуммеля (количество примесных атомов на единицу площади квазинейтральной области базы) дня эмиттера и оценить отношение DРЭ / DnБ, так как
γ=(1+ GNБ DРЭ / GNЭ DnБ)-1.
Примем, что в эмиттере примесная концентрация изменяется экспоненциально с характеристической длиной λ, т.е. NDЭ = NDЭ0 ехр(- х/λ) .
По значениям концентрации при х=0 и х=0,8 мкм определяем λ:
λ-1= ln(1,2*104)/0,8*10-4, т.е. λ≈85,2 нм.
Интегральная примесная концентрация в эмиттере определится как
≈
NdE0λ≈5,1*1015
см-2.
Эффективное число Гуммеля для эмиттера составляет 2% от интегральной примесной концентрации, т.е. равно GNЭ =1,02*1014 см-2. Среднюю примесную концентрацию в эмиттере найдем, разделив GNЭ на глубину эмиттера. Получим NсрЭ =1,28*1018 см-3. Из рис.3.2 находим, что DРЭ ≈ 4,0 см2/с и DnБ ≈22 см2/с.
Эффективность эмиттера =0,9947.
Полученная эффективность эмиттера действительна высока, однако уступает коэффициенту переноса в базовой области k =1-W2/2LБ2 (для транзистора с равномерно легированной базой): при тиnовых значениях W = = 0,3мкм, L = 10 мкм имеем k = 0,9996, что свидетельствует о том, что рекомбинационные потери неосновных носителей в квазинейтральной базовой области (даже в бездрейфовых транзисторах!) малы, т.е. коэффициент переноса в интегральных транзисторах ближе к единице, нежели эффективность эмиттера.
Назовите: а) основные режимы работы транзистора; б) основные параметры импульса на выходе транзистора. Свяжите между собой положение рабочей точки в той или иной области характеристик с параметрами импульса.
В чем заключается эффект модуляции толщины базы? На какие параметры транзистора он оказывает существенное влияние?
Сплавной nрn-транзистор имеет концентрацию примесей в базе NАБ = 1016см-3, а в эмиттере и коллекторе NДЭ= NДК= 1019 см-3. Транзистор находится в режиме отсечки с напряжениями UК= 3 В, Uэ = 0, UБ = -3 В. Какой заряд необходимо ввести в базу при площади переходов SЭБ = SБК = 10-5 см2, чтобы поднять базовое напряжение до UБ =0?
Рассчитайте обратное напряжение смещения, действующее на эмиттерном переходе биполярного npn-транзистора при разомкнутом эмиттере и обратном смещении на коллекторном переходе. При этом полагайте, что αF =0,98, αR = 0,70, IK0= 10-13А, IЭ0= 7,14*10-14А.
Транзистор работает в диодном режиме и при этом: а) закорочены коллектор и база; б) закорочены коллектор и эмиттер. Нарисуйте распределение неосновных носителей в базе для указанных схем включения и оцените быстродействие каждой схемы.
Докажите, что в области полупроводника, в которой примесная концентрация экспоненциально зависит от координаты, действует постоянное электрическое поле. Рассчитайте примесную концентрацию на границе области объемного заряда коллекторного перехода в транзисторе с шириной базы 0,3 мкм, примесной концентрацией на границе эмиттер-база 1017 см-3 и постоянным полем в базе 4*103 В/см.
Транзистор nрn-типа работает в активном режиме. В момент времени t=0 на области объемного заряда его коллекторного перехода фокусируется пучок света большой яркости. Свет генерирует в области объемного заряда G электронно-дырочных пар в единицу времени (gG имеет тот же порядок величины, что и статический базовый ток). Определите поведение базового, эмиттерного и коллекторного токов при t >О для неизменных напряжений на коллекторном и эмиттерном переходах.
При условиях задачи 3.26 определите поведение базового, эмиттерного и коллекторного токов, если цепи базы действует источник тока так, что облучение светом не изменяет ток базы IБ.
В nрn-транзисторе площадь сечения S = 10-5 см2, а квазинейтральная базовая область равномерно легирована примесью с концентрацией NА =4*1017 см-3 имеет параметры W=0,5 мкм, DnБ =18 см2/с. Оцените коэффициент переноса k при времени жизни электронов в базе τn=10-6 c и рассчитайте β.
В прп-транзисторе примесная концентрация в квазинейтральной области базы изменяется линейно от 1017 у эмиттерного края до 1016 у коллекторного края. Изобразите концентрации неосновных носителей при тепловом равновесии и в активном режиме при низком уровне инжекции, а также "встроенное" электрическое поле в базе.
О pnp-транзисторе известно, что IpЭ=1мА, InЭ =0,01мА, IpK =0,98мА, InK =0,001 мА. Найдите: а) коэффициент передачи тока базы; б) эффективность эмиттера; в) ток базы и коэффициенты передачи тока в схемах с общей базой и общим эмиттером; г) значения β и IБ если IpK = 0,99 мА; д) значения и если IpK =0,99 мА и InЭ =0,005 мА. Как изменятся значения β и IБ , если ток увеличится?
База кремниевого транзистора n-p-n типа при Т=300К легированна бором с концентрацией 1,3*1023 м-3, а коллектор – фосфором с концентрацией 1,3*1024 м-3. Толщина активной области базы при UБК=0 равна w = 1 мкм. В предположении, что ni≈1016 м-3, покажите, что w изменяется на 10% при UБК=3,6В. Вычислите барьерную емкость перехода база-коллектор, если площадь перехода S=10-8 м2 и UБК=0.
Два транзистора р-n-р типа отличаются тем, что толщина базы одного из них составляет 0,9 толщины базы другого. Докажите, что токи в этих приборах будут одинаковы в случае, если напряжение база-эмиттер второго транзистора на 0,0027 В больше соответствующего напряжения первого (предположите, что рекомбинация в базе отсутствует, а переход эмиттер-база можно заменить идеальным диодом.
Решение:
Примем, что α≈γβ≈1. Это означает, что IЭ≈ IК. Поскольку толщина базовой области слабо влияет на величину IКБ0, то он примерно одинаков для обоих транзисторов. В свою очередь, IКБ0 весьма слабо влияет на IК. Поэтому можно утверждать, что при одинаковых IЭ обоих транзисторов одинаковыми будут и их режимы. Если считать, что IЭ зависит только от инжекции носителей в базу, то применительно к диодам эмиттер-база, смещенным в прямом направлении, имеем
IЭ1≈(qSDp pn0/w1)[exp(UЭБ1/φт)-1],
IЭ2≈(qSDp pn0/w2)[exp(UЭБ2/φт)-1],
Поскольку напряжение приложено к диоду в прямом направления можно считать, что exp(UЭБ/φт)-1≈ exp(UЭБ/φт). По условию IЭ1= IЭ2. Тогда (1/w1)exp(UЭБ1/φт)= (1/w2)exp(UЭБ2/φт) и w2/w1= exp[(UЭБ2- UЭБ1)/φт].откуда имеем UЭБ2- UЭБ1= φт ln(1/09)=0,0227 В.
Кремниевый транзистор п+ -р-n типа имеет эффективность эмиттера 0,999, коэффициент переноса через базу 0,99 при толщине базы 0,5 мкм, NДЭ =1019 см-3, NАБ =3*1016 см-3 и NДК =5*1015 см-3. Определите, предельное напряжение на эмиттере, при котором прибор становится неуправляемым и возникает пробой. Учитывая, что частота осечки зависит от времени пролета неосновных носителей через базу, рассчитайте частоту осечки в схемах с общей базой и общим эмиттером (ni≈1,45*1010 см-3).
Для транзистора n+-p-n типа изобразите графически: а) зонную диаграмму; б) распределение зарядов; в) распределение напряженности электрического поля; г) распределение потенциала (пологая, что в области n+ U=0); д) направление потоков заряда и электрического тока для случая, когда прибор работает в активном режиме.
Кремниевый npn- транзистор, работающий в активном режиме, имеет параметры6 толщина базы w=1,5 мкм, NАБ=1017 см-3, NДЭ=1019 см-3, LpЭ=1,5 мкм, LnЭ=200 мкм, τn=0,2 мкc, τр=0,2 мкc. Рассчитайте коэффициент передачи β.
При изготовлении транзисторов в качестве механической основы обычно используют подложку п+ -типа, обеспечивающую малое последовательное сопротивление коллектора. На подложке выращивается эпитаксиальный слой п-типа с умеренной концентрацией легирующей примеси, образующий коллекторную область. В этом слое формируются эмиттерный и коллекторный переходы. Одним из достоинств такой структуры, является высокое напряжение пробоя.
Объясните, каким образом толщина эпитаксиального слоя и концентрация легирующей примеси в нем связаны с напряжением пробоя транзистора, включенного по схема с общим эмиттером. Почему в транзисторах, изготовленных таким образом, что реализуется высокий уровень инжекции, существенно снижается граничная частота?
Для транзистора с параметрами β=200, S= 66,7 мА/В, СБК=7 пФ, Сдиф+ СБК =60пФ рассчитайте граничную частоту в схеме с общим эмиттером ωβ и частоту осечки ωт.
Из какого материала предпочтительней изготавливать мощные транзисторы, высокочастотные и СВЧ- транзисторы?
Поясните как по семейству выходных характеристик транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером, определить коэффициент усиления тока . Будет ли коэффициент усиления постоянный? Если нет, объясните почему.
Перечислите основные приближения, при которых справедлива модель Эберса - Молла.
Нарисуйте распределение неосновных носителей в базе транзистора для: а) активного режима работы; б) режима насыщения; в) режима осечки.
Выведете соотношение медку коэффициентом передачи тока эмиттера α, коэффициентами диффузии носителей заряда в эмиттере и базе, концентрациями неосновных носителей в этих областях, толщиной базы и диффузионной длинной неосновных носителей в базе и получите условия, при которых α →1.
Нарисуйте и объясните зависимость коэффициента передачи тока базы в схеме с общим эмиттером от величины коллекторного тока.
В чем заключается эффект модуляции базы и смыкания базы? Почему они менее существенны в дрейфовых транзисторах?
В чем заключается основное приближение при выводе уравнений работы транзистора при низком уровне инжекции?
Назовите отличия работы биполярного транзистора при низком и высоком уровне инжекции.
Нарисуйте семейство выходных характеристик транзистора, включенного по схеме с общей базой, и рассчитайте коэффициент передачи тока эмиттера при различных напряжениях коллектор-база.
Нарисуйте семейство выходных характеристик транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером, и рассчитайте коэффициент передачи тока базы при различных напряжениях коллектор-эмиттер.
В чем отличие фототранзистора от обычного биполярного транзистора? В чем заключается главное преимущество фототранзисторов пред фотодиодами? Какими причинами определяется относительно низкое быстродействие фототранзисторов?
Биполярные транзисторы широко используются в различных переключающих электронных схемах. Изменяется ли в течение переходного процесса а) объем квазинейтральной области базы; б) размеры областей пространственных зарядов эмиттерного и коллекторного переходов? Если да, то назовите основные причины.