
- •Самостійна робота 1
- •Самостійна робота 2
- •Самостійна робота 3
- •Самостійна робота 4
- •Самостійна робота 5
- •Домішкова провідність напівпровідників
- •Самостійна робота 6
- •1. Класифікація провідникових матеріалів (пм)
- •Самостійна робота 7
- •Самостійна робота 8
- •Самостійна робота 9
- •Електричні напівпровідникові переходи.
- •Електронно-дірковий перехід.
- •2. Утворення електронно-діркового переходу
- •Самостійна робота 10
- •Самостійна робота 11
- •Електронний - дірковий перехід без зовнішньої дії
- •Самостійна робота 12
- •Самостійна робота 13
- •Поняття інформаційної технології
- •Самостійна робота 14
- •Термокомпресорне зварювання
- •Самостійна робота 15
- •Самостійна робота 16
- •Самостійна робота 17
- •Самостійна робота 18
- •1.1 Підкладки інтегральних схем
- •1.2 Елементи іс
- •Самостійна робота 19
- •Самостійна робота 20
- •Самостійна робота 21
- •Самостійна робота 22
- •Статичні вольтамперні характеристики біполярного транзистора.
- •Самостійна робота 23
- •Самостійна робота 24
- •Самостійна робота 25
- •Параметры
- •Самостійна робота 26 Напівпровідникові діоди
- •Самостійна робота 27 Види генераторів
- •Самостійні 2частина
- •Самостійна робота №1 Сиcтема числення
- •Самостійна робота №2,3 Закони булевої алгебри
- •Самостійна робота №4 Феромагнітні матеріали
- •Самостійна робота №5 Магнітні підсилювачі
- •Самостійна робота №6 Магнітні трансформатори
- •Самостоятельная робота №7 Послідовні логічні схеми
- •Самостійна робота №8 Дешифратори й індикатори
- •Самостійна робота №9 Системи керування імпульсних перетворювачів
- •Самостиійна робота №10 Поверхневі явища напівпровідника Дослідження схем за допомогою пакету Micro-Cap поверхневі явища в напівпровідниках
- •Дослідження схем за допомогою пакету Micro-Cap
- •Самостійна робота №11 Запам'ятовувальні пристрої
- •Самостійна робота № 12 Пристрої збереження та передачі
- •Самостійна робота №13 Архітектура пеом. Принцип мікропроцесорного керування
- •Самостійна робота №14 Мультивібратори
- •Самостійна робота № 15
- •Самостійна робота № 16
- •Самостійна робота № 17
- •Програма на мові Ассемблера
- •Самостійна робота № 18
- •Самостійна робота № 19
- •Самостійна робота № 20
- •Самостійна робота № 21
- •Самостійна робота № 22
- •Структурна схема кр580вт57 Самостійна робота № 23
- •Самостійна робота № 24
- •Самостійна робота № 25 Мікропроцесор к1810вм86
- •Програмно-доступні регістри мікропроцесора Самостійна робота № 26 Організаційна робота мікропроцесора к1810вм86
- •Самостійна робота № 27 Функціонування цп
- •Самостійна робота № 30 Архітектура Мікроконтролера pic
- •Управління переривання в мікроконтроллерах pic
Самостійна робота 23
Транзистори великої потужності
Потужні польові транзистори Особливість структури потужного MOSFET полягає в тім, що вона охороняє оксид затвора від впливу великої напруги, прикладеного до стоку. Напруга безпосередньо під оксидом затвора звичайно досягає значень усього 5...10 У стосовно електрода затвора, хоча напруга на стоці може становити при цьому сотні вольтів. У міру проходження струму через протяжну область стоку лінії токи стягаються в область між областями, що прийнято називати шийною областю (neck region). Далі струм повинен втягуватися в канали, утворені в областях на кожній стороні шийної області. Таке втягування струму в результаті повинне було б привести до великого опору, оскільки струм повинен іти через поступово зменшуваний перетин області, щоб досягти входу в канал. Але саме область, що безпосередньо перебуває під окислом затвора й між областями, має дуже високу концентрацію рухливих електронів, що приводить до набагато більшої провідності цієї ділянки в порівнянні з інший ""-областю. Струм стоку між областями прагне, отже, спочатку йти нагору в шар високої провідності й тільки потім проходить горизонтально в канал. Загальний опір стік-джерело MOSFET містить у собі чотири тридцятилітні: 1) опір шару стоку, що включає опору й основної частини області; 2) опір шийної області; 3) опір області, що перебуває безпосередньо під оксидним шаром затвора; 4) опір каналу Вся область стоку і його шийна область леговані слабко, тому в транзисторах з напругою стік-джерело 400 В і вище перші два тридцятимільйонні опори звичайно набагато більше, ніж третя й четверта. Якщо ж транзистор низьковольтний, основна частка загального опору - опір каналу. Внаслідок того, що MOSFET - це транзистор, що працює на основних носіях, у ньому не накопичуються надлишкові носії, які визначають динаміку біполярного транзистора. Динаміка MOSFET визначається тільки окісним шаром затвора і ємностями ООЗ, а також опорами, які обмежують можливості заряду й розряду цих ємностей. Між стоком і затвором існує ємність, що, у свою чергу, утвориться послідовною сполукою двох ємностей. Одна з них - це оксидна ємність, що не залежить від напруги. Інша - це ємність ООЗ між стоком і шийною областю. З ростом напруги на стоці ця ємність падає.література
Напівпровідникові прилади : Підручник / Л. Д. Васильєва, Б. І. Медведенко, Ю. І. Якименко . — К.: Кондор, 2008. — ISBN 978—966-622-103-9.
Терещук Р. М., Терещук К. М., Седов С. А. Полупроводниковые приемно-усилительные устройства. — К.: Наукова думка, 1988. — С. 183 — 191.(рос.)
Самостійна робота 24
Логічні функції цифрових інтегральних мікросхем
Рис.1.
Умовні позначення логічних елементів
одноступінчатої логіки: а)-"І"
б)-"АБО" в)-"НЕ"
г)-"І-НЕ" д)-"АБО-НЕ"
Рис.2.
Умовне позначення логічного елемента
"Виключаюче АБО"
Таблиця
1:
Таблиця
2:
Рис.3.
Схема логічного елемента “АБО” на
діодах
Рис.4.
Схема логічного елемента “І” на
діодах.
Рис.5.
Принципова схема логічного елемента
“НЕ
Рис.6.
Принципова схема побудови базових
елементів 155 серії
Рис.7.
Схема логічного елемента “АБО-НЕ” на
уніполярних транзисторах