Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ТЭ.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
4.35 Mб
Скачать

Плотность дрейфового тока. Дырочный ток.

Рассмотрим отношение , :

Аналогично можно вывести формулу для электронно-дырочной составляющей.

Физический результат вывода формулы для дрейфового тока можно объяснить на основе условия непрерывности. В результате образовавшейся в плоскости L избыточной концентрации дырок туда устремляются основные носители – электроны, обнажая в n-п/п положительные ионы доноров.

В результате возникает э.п., которое заставляет дрейфовать по направлению к запирающему слою дырки. Там они подхватываются контактным полем и переходят в р-п/п, где происходят такие же процессы с электронами.

Таким образом, при приложении прямого напряжения к p-n-переходу наряду с диффузионным потоком дырок из p- в n-п/п и диффузионным потоком электронов из n- в p-п/п возникает встречный поток неосновных носителей (дырок из n- в p-п/п и электронов из p- в n-п/п) за счёт поля Eк.

ВАХ p-n-перехода

Если умножить все j на площадь p-n-перехода, то получим токи:

- диффузионные токи за счёт движения

основных носителей

- дрейфовые токи, обусловленные движением

неосновных носителей

I

Iпр

U

Iобр

P-n-переход под обратным внешним напряжением

Если к р-области приложить отрицательное внешнее напряжение, а к n-области положительное, то к увеличится и через запирающий слой потечёт лишь ток, образованный перемещением неосновных носителей. При напряжении –0,5 В обратный ток равен току насыщения:

Iобр=Iнас=Ips+Ins

Все имеющиеся в п/п носители будут участвовать в создании дрейфового тока.

Диаграмма изменения потенциального барьера:

W p EК n

E X

0p0K

p n Wс 0n

WА u

U WФ

ВЗ WД

2L WВ

Ширина запирающего слоя (зс)

Область существования контактного поля определяется пределами запирающего слоя 2L. Исходя из этого, L – это глубина проникновения э.п. в п/п.

Глубина проникновения э.п. в тело определяется уравнением Пуассона, связывающее E с q и :

 - объёмная плотность электрических зарядов, создающих э.п. Е.

=eN

X – расстояние от границы контакта

 - диэлектрическая проницаемость п/п

N – объёмная концентрация носителей заряда.

Проинтегрировав уравнение дважды от 0 до L, получим:

Если к p-n-переходу приложить внешнее напряжение, то вместо к подставляем суммарную разность потенциалов. При приложении прямого напряжения ширина уменьшается, а обратного – увеличивается.

Различные виды переходов Несимметричный переход

Это переход, который образуется в p- и n-п/п с различной концентрацией примесей, т.е. с различной концентрацией основных и неосновных носителей.

Рассмотрим случай, когда концентрация акцепторов больше концентрации доноров.

N , P

Pp

N p N n

P n x

- φ

+ φ x

EК x

x

Lp Ln

На границе контакта возникает концентрация и , но поскольку , то диффузионное движение дырок из п/п p-типа в п/п n-типа более интенсивное, чем движение электронов обратно. Следовательно, диффузионная составляющая тока через переход определяется диффузионным потоком дырок. Поскольку Pn>Np , то дрейфовая составляющая тока в основном определяется потоком дырок из n-п/п.

Условия равновесия для п/п:

Область, обеднённая дырками, значительно уже, чем область, обеднённая электронами. Следовательно, запирающий слой лежит в основном в высокоомной n-области. Поскольку Nа>Nд , то

При подключении внешнего напряжения равновесие нарушается. При прямом включении высота потенциального барьера уменьшается и течёт диффузионный ток. Величина этого тока определяется в основном движением дырок.

Такое преимущественное введение зарядов в п/п, в котором эти заряды будут неосновными носителями, называется инжекцией неосновных носителей.

При подключении обратного напряжения через несимметричный p-n-переход потечёт ток, обусловленный в основном движением дырок из n-области в p-область (ток насыщения). Форма p-n-перехода не изменяется.

В несимметричном переходе п/п с высокой концентрацией основных носителей называется эмиттером, второй п/п называется базой.

Переходы типа p-i, n-i, p-p+, n-n+.

W , U p i

K x

W с0p0i

W Ф

ВЗ WВ

N , P

Pp Np Ni

x

При контакте p-i в результате разности концентраций Pp>Ni и Ni>Np, возникает диффузия дырок в собственный п/п и электронов в п/п p-типа.

Разность потенциалов на переходе образуется за счёт ионов акцепторов в p-п/п и дырок в собственном

Запирающий слой в большей части находится в области собственного п/п, поскольку его удельное сопротивление больше.

Аналогичная картина получается при контакте высоколегированного п/п p+ с низколегированным p. Высота потенциального барьера меньше, поскольку меньше разность концентраций дырок.

Аналогично для n-n+.