Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
технология изделий интегральной электроники___....docx
Скачиваний:
5
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
4.58 Mб
Скачать

12.2. Процессы термокомпрессионной микросварки

Термокомпрессионная сварка (ТКС) - это метод соедине­ния металлов в твердом состоянии при контролируемой диффу­зий» относительно высоких удельных давлениях и нагреве до температуры ниже температуры образования жидкой фазы со­единяемых материалов. Поскольку в обычных условиях реаль­ные поверхности свариваемых материалов покрыты оксидными пленками, то образование прочного сварного соединения может произойти при условии деформации в зоне контактирования. Деформация может обеспечить механический контакт соединя­емых материалов и разрушение оксидных и адсорбированных поверхностных пленок. При соприкосновении чистых поверхно­стей свариваемых элементов может произойти «схватывание». Области «схватывания» возникают на участках, где возможны взаимодействия между свободными элементами двух разнород­ных атомов и образование межатомной связи. Необходимая энер­гия для преодоления энергетического барьера поверхностными атомами, т.е. повышения их энергии до определенного уровня, при котором может произойти взаимодействие, вводится в ре­зультате пластической деформации и нагрева.

При деформации присоединяемого проводника в местах мак­симальных касательных напряжений возникают дислокации на контактных поверхностях тонкопленочных покрытий. Повыше­ние плотности дислокаций приводит к развитию участков «схва­тывания» и площади взаимодействия, однако увеличение тем­пературы, давления и длительности процесса может вызвать об­разование дислокации и в полупроводнике. Это явление особен­но нежела7ельно при сборке ИМС и полупроводниковых прибо­ров с небольшой глубиной залегания р-п-перехода.

В качестве материалов выводов могут использоваться толь­ко высокопластичные металлы (алюминий, золото, серебро, медь), присоединение которых может осуществляться при температуре до 320 °С, что несколько ниже температуры образования дисло­кации в полупроводниках (для кремния Тдис = 450 °С).

Наиболее эффективным при термокомпрессии является од­новременный нагрев прибора и инструмента, так как он позво­ляет обеспечить точное поддержание температуры в зоне свар­ки. Установлено, что при температурах более 360 °С разруше­ние оксидной пленки при сварке происходит с последующим образованием интерметаллических фаз, богатых золотом. Пос­ледние имеют плохую адгезию с поверхностью оксида кремния, вызывают хрупкость соединения и снижают надежность кон­тактов. Диффузионные процессы при образовании интерметал­лических соединений способствуют появлению трещин и пор в контакте, образованию тройной эвтектики Si—Al—Au с невысо­кой температурой плавления. Полностью избежать этого мож­но, применив однородные материалы, например Al—Ah

При термокомпрессии «внахлестку» инструмент с усилием около 25 г прижимает золотую проволоку к нагретой до 300 °С контактной площадке кристалла на подложке. После приварки проволоки к внешнему выводу корпуса происходит ее отрезание с одновременным формированием «сапожка» для следующего присоединения. Метод применяют в технологии ИМС, где требу­ется присоединение проволоки к нескольким контактным площадкам без ее обрыва. Общим недостатком метода являет­ся то, что он не рекомендуется для приварки плоских проводни­ков, так как при их деформации недостаточно течение металла в направлении плоскости контакта, что затрудняет образование соединений.

Сварка давлением с импульсным косвенным нагревом на­ходит применение для сборки микросхем. Столик установки, где крепится микросхема, подогревается до 50—300 °С. Свароч­ный электрод разогревается до 600 °С. Используется два элек­трода: один служит для присоединения проводника к контакт­ной площадке микросхемы, второй - к внешним выводам кор­пуса. Длительность теплового импульса 0,3-3,0 с Преимуще­ство способа состоит в том, что он исключает нагрев изделия до температуры, близкой к температуре плавления эвтектики зо­лото-кремний, применяемой для припайки кристалла интег­ральной схемы к корпусу. Характеристика способов автомати­зированной сварки микропроволокой приведена в табл. 12.1.