
- •Приготовление атомарно-чистых поверхностей
- •Дифракция электронов низких энергий – метод исследования поверхностей твердых тел Возможности метода дифракции медленных электронов (дмэ)
- •Применение кинематической и динамической теории дифракции для расшифровки поверхностной структуры кристаллов
- •Методы расчета поверхностных структур с помощью кинематической теории дифракции
- •Элементы динамической теории электронного рассеяния в кристаллах
- •Влияние тепловых колебаний поверхностных атомов на интенсивность дифрагированных пучков
- •Динамические характеристики поверхностных атомов
- •Двухмерные структуры
- •Феноменологическое описание структуры поверхности кова-лентного кристалла в терминах квантовой химии
- •Атомная структура поверхности скола (111) кремния
- •Природа структуры Si(111)-(21)
- •Структурный переход (21)(11)
- •Межплоскостные расстояния и усредненный внутренний потенциал в приповерхностном слое кремния
- •Значения межплоскостных расстояний и внутреннего потенциала в поверхностном слое.
- •Среднеквадратичные смещения поверхностных атомов и температура Дебая в приповерхностном слое
Динамические характеристики поверхностных атомов
Материал и исследуемая грань |
Энергия электронов,* эВ |
Температура Дебая,* К |
Среднеквадратичные смещения атомов,* Å |
Si (111) |
65 |
402 |
0,098 |
105 |
447 |
0,088 |
|
155 |
472 |
0,084 |
|
215 |
502 |
0,079 |
|
285 |
526 |
0,075 |
|
GaAs(111) |
35 |
248 |
- |
75 |
256 |
0,096 |
|
127 |
271 |
0,091 |
|
189 |
274 |
0,0897 |
|
262 |
276 |
0,089 |
|
GaAs( ) |
70 |
236 |
0,104 |
112 |
247 |
0,099 |
|
165 |
262 |
0,094 |
|
229 |
272 |
0,090 |
|
303 |
281 |
0,087 |
*Точность определения энергии ±1 эВ, температуры ±10 К, среднеквадратичного смещения ±510-3Å.
Для
поверхности (111) кремния
примерно в 1,5 раза больше
.
Для
арсенида галлия среднеквадратичная
амплитуда колебания атомов
превышает
на поверхности (111)А в 1,3 раза, а по
поверхности (
)В
в 1,6 раза. Экспериментально установлено
изменение динамических свойств
поверхностных атомов германия в
зависимости от двухмерной структуры
исследуемой поверхности. Для поверхностного
слоя со сверхструктурой (21)
температура Дебая меньше, чем для слоя
с поверхностной структурой (11),
а среднеквадратичные смещения
поверхностных атомов находятся в
соотношении
.
Исходя из этих результатов, можно
заключить, что структурный переход на
поверхности (111) германия сопровождается
изменением межатомной силы связи.
С помощью метода ДМЭ можно найти еще один важный параметр поверхности – коэффициент термического расширения решетки по нормали () и в плоскости исследуемой грани (). Значения можно определить по температурному сдвигу брэгговских максимумов на зависимостях интенсивности рефлексов от энергии. Значение рассчитываются по температурному смещению пятен на экране электронографа.
Оказалось, что для Si, Ge, GaAs и ряда металлов пов>об, т.е. ангармоничность колебаний возрастает при переходе к поверхностным атомам.
АТОМНЫЕ СТРУКТУРЫ ПОВЕРХНОСТЕЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛОВ, ОПРЕДЕЛЕННЫЕ С ПОМОЩЬЮ ДМЭ
Как уже отмечалось выше, поверхностные атомы находятся в иных условиях по сравнению с объемными. Это должно изменить структуру поверхности, причем наибольшую перестройку будут испытывать кристаллы с направленной связью.
Перестройка поверхности приводит к появлению добавочных рефлексов в дифракционной картине. Так, от поверхности кремния (111) наблюдаются рефлексы дробного порядка, расположенные на расстояниях в 7 раз меньших, чем рефлексы, характеризующие объемную решетку. Это свидетельствует о наличии сверхструктуры с периодом, в 7 раз большим, чем период объемной решетки.
В настоящее время поверхностные сверхструктуры обнаружены для ряда полупроводниковых кристаллов. Двухмерные структуры, наблюдаемые при помощи ДМЭ на поверхностях полупроводников Si, Ge и GaAs, приведены в таблице 6.1.
Многообразие поверхностных структур для этих материалов, полученных разными авторами, можно, по-видимому, объяснить различным состоянием исследуемых поверхностей.
Так, например, Томас и Франкомбе провели ряд экспериментов, исходя из результатов которых, они утверждают, что сверхструктура Si(111)-7 свойственна примесным, а структура Si(111)-1 – атомарно-чистым поверхностям. Их доказательства состоят в следующем: 1) сверхструктура (77) возникла на высокочистом кремнии только после отжига при 1200 °С, а на примесном кремнии сверхструктура (77) появилась при низких температурах; 2) при низких температурах гомоэпитаксии, когда диффузия примесей на поверхность сквозь пленку маловероятна, наблюдается структура (11), а выше 800 °С регистрируется сверхструктура (77).
Таблица 6.1.