Порядок выполнения работы
1 Ознакомиться с установкой для процесса эпитаксии
2 Ознакомиться с внутрикамерными устройствами, схема которых представлена на рисунке 2
. 3 Установить подложки, угольные электроды и разместить навеску меди в испаритель.
4 Опустить колпак, произвести откачку рабочего пространства (выполняет оператор).
5 Закрыть заслонку, включить испаритель, довести температуру до 12000С, открыть заслонку, произвести напыление островковой структуры меди на ситаловую подложку (10-12 сек), закрыть заслонку.
6 Поворотом карусели установить подложку в положение над дуговым испарителем, создать угольную дугу, после ее стабилизации открыть заслонку на 5-10 секунд, закрыть заслонку.
7 Произвести напуск воздуха в рабочее пространство, поднять колпак, снять подложки.
8 Просмотреть полученные покрытия при оптическом увеличении, передать в лабораторию полученные образцы
9 Анализировать электронно-оптические фотографии, сделать выводы.
Рисунок 2 Внутрикамерные устройства в рабочем пространстве эпитаксиальной установки: 1-инфракрасный нагреватель подложек, 2-резистивныи лодочный испаритель металлов, 3- держатель подложек (карусель), 4-основание вакуумного колпака, 5-электро-механическое устройство задания положения графитовых стержней, 6-блок управления электрическим приводом, 7 – основание. 8 – электромотор с редуктором, 9, 10 – винтовая пара, 11 - держатель электрода, 12 – подвижный электрод, 13 – электрическая дуга, 14 – подложка, 15 – внешние гибкие выводы, 16 – измерительное устройство, 17 – заслонка
Отчет должен содержать: - описание физика процесса;
- схему процесса эпитаксии;
- схематическое изображение внутривамерных устройств;
- фотографии полученных структур;
- расчет показателя фрактальности
Контрольные вопросы
1 Определение термина и процесса эпитаксии
2 Роль подложки в процессе эпитаксии
3 Механизм формирования нанообъектов
4 С какой целью получаются эпитаксиальные структуры
-