
- •Прохождение электронов и ионов через вещество
- •Ионизационные потери и потери на излучение при прохождении электронов через вещество
- •Процессы смещения атомов при взаимодействии с высокоэнергетичными электронами
- •Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
- •1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
- •Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
- •Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
- •Сегрегация примеси на поверхности образца Экспериментальное изучение сегрегации примеси на поверхности образца
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на поверхности образца
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии
- •Массоперенос в гомогенных системах при облучении пучком электронов [Error: Reference source not found]
- •Массоперенос в гетерогенных системах при электронном облучении [Error: Reference source not found]
- •Экспериментальное изучение перераспределения компонентов на границах зерен [37].
- •Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
- •1.2. Пространственное распределение температуры при облучении пучком электронов Профиль температурного поля в условиях облучения пучком электронов
- •Метод расчета пространственного распределения температуры в условиях облучения пучком электронов
- •Распределение температуры в материалах при облучении пучками электронов
- •Концентрационные профили точечных дефектов в условиях облучения пучком электронов
- •Концентрация точечных дефектов в условиях облучения
- •Распределение вакансий по глубине образца
- •Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
- •Кинетическая теория диффузии в бинарных системах в поле градиентов температуры и точечных дефектов
- •Численный метод решения кинетического уравнения диффузии. Принцип расщепления
- •Пространственное распределение элементов в твердых растворах при облучении пучком электронов
- •Гомогенная система
- •1.2.3 Внутренние напряжения в материале при электронном облучении
- •Структурно-фазовые изменения в материалах при облучении заряженными частицами
- •Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
- •Перераспределение элементов в сплавах при облучении пучком электронов средних энергий
- •1.2.4 Структурно-фазовые превращения при электронном облучении
- •1.3 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при ионном облучении
- •1.3.1 Теоретические модели эффекта дальнодействия
- •1.3.2 Влияние напряжений на перераспределение вакансий при ионном облучении
- •1.3.4 Эволюции кластеров радиационных дефектов при ионном облучении твердых тел
- •1.4.1 Описание параметров состояния вещества в задачах моделирования процессов в сплавах при облучении электронами и ионами
- •1.4.2 Численное моделирования процессов теплопередачи при облучении пучками заряженных частиц.
- •Тема 1. Ионно-плазмешюе осаждение слоев ..5
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 42
- •Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектроникс 86
- •Тема 1. Ионно-плазменное осаждение
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 2.1. Особенности ионной технологии
- •Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
- •Тема 4, литографические методы в микро- и наноэлектронике
- •Литература
Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
В системе никель-хром-железо толщина никеля, нанесенного гальваническим методом, достигала 5-8 мкм, толщина слоя хрома, нанесенного либо методом химико-термической обработки, либо гальваническим методом, колебалась от нескольких микрон до 20 мкм. В качестве матрицы использовалось железо, сплав 40Х. Облучение проводилось электронами с энергией 2,75; 3,5; 4,5; 6; 10; 15 МэВ при различных температурах образцов и времени облучения.
В соответствии с литературными данными в железе при насыщении его поверхности хромом, образуется твердый раствор [38]. Результаты микрорентгеноспектрального анализа состава поверхностных слоев, образованных после химико-термической обработки, хорошо согласуются с этими данными. На глубине 90 мкм в концентрации хрома имеется скачок от нуля до 18%. Это дает основание предполагать, что продвижение фронта в процессе диффузионного насыщения связано с образованием фазовой границы. При температуре 1050º С в системе хром-железо в соответствии с диаграммой состояний при содержании хрома ниже 18% происходит образование -фазы.
В процессе облучения системы никель-хром-железо электронами с энергией 4.5 МэВ при температуре образца 500 С за время 3103с происходит массоперенос хрома и частично железа через слой никеля. Вблизи поверхности образца создается несколько зон. В первой зоне (рисунок 18) на глубине от 0 до 3 мкм содержится хром с содержанием железа от 2 до 10%. На глубине от 3 до 7 мкм имеется слой хрома с железом в виде примеси. Далее следует слой никеля, в котором в зависимости от режимов облучения содержится от 0,5 до 4 % хрома и практически нет железа. За слоем никелем следует зона, образованная в процессе химико-термической обработки. Немаловажным является факт сохранения общей толщины слоев никеля и хрома.
Рис. 18. Распределение элементов по глубине образца в системе Ni-Cr-Fe после облучения. Энергия электронов Е=4.5 МэВ, плотность тока j=0,5 А/м2, время облучения t=3103с [Error: Reference source not found].
Профиль распределения примеси, образованный под действием облучения существенно отличается от профиля, возникающего в результате концентрационного механизма диффузии, наблюдается неравновесное перераспределение элементов.
В гомогенных системах обнаруженный массоперенос приводит к накоплению на ближайших поверхностях образца компонентов сплавов с исходной концентрацией меньшей 68%. В большинстве случаев, после слоя с повышенной концентрацией формируется слой с минимальной концентрацией примеси.
В гетерогенных системах диффузия примеси в матрицу из покрытия происходит с сохранением максимума концентрации, кроме того, возможно образование нескольких максимумов концентрации.
В литературных источниках отсутствуют модели удовлетворительно объясняющие, наблюдаемый массоперенос.
К настоящему времени накоплено значительное количество экспериментальных данных, и развиты теоретические представления о кинетике радиационного повреждения металлов и сплавов [39]. В общих чертах объяснен механизм дефектообразования, хотя еще недостаточно разработаны теория каскадов, теория радиационной ползучести и радиационно-термической прочности, не объяснены некоторые аномалии радиационно-стимулированной диффузии в области радиационного материаловедения, и в частности, по физико-механическим свойствам чистых металлов, специальных металлических сплавов и промышленных марок сталей.
На основе анализа литературных источников можно сделать следующие выводы:
1. При облучении пучками заряженных частиц происходит изменение дефектной структуры материала. Описание процессов перераспределения точечных дефектов, которые определяют дефектную структуру в поле облучения, осуществляется с помощью моделей на основе кинетического уравнения дефектов или на основе элементарных актов диффузии. Представленные в литературе модели описывают диффузию точечных дефектов или в термодинамическом равновесии, или рассматривают влияние только одного-двух стоков на концентрацию точечных дефектов, что не позволяет точно определить радиационно-стимулированное изменение дефектной структуры.
2. На процессы радиационно-стимулированного перераспределения элементов оказывает влияние первоначальный профиль точеных дефектов, их подвижность и энергия связи с компонентами сплава, а также распределение температуры внутри образца. Большинство представленных в литературе моделей рассматривает один или два фактора, влияющих на массоперенос примеси.
4. Для модификации поверхности, с целью придания ей определенных эксплуатационных свойств, применяется радиационная обработка. Анализ различных способов радиационной обработки материалов показывает, что электронные пучки имеют ряд существенных преимуществ по сравнению с другими видами обработки. К преимуществам, прежде всего, следует отнести большую глубину модифицированного слоя, относительную простоту генерации пучка и управление его параметрами. Развитие технологий финишной обработки пучком электронов замедляется отсутствием моделей, которые позволяют адекватно описывать процессы массопереноса, происходящие при облучении электронами. В большинстве случаев диффузия в поле облучения электронами приводит к существенно неравновесному распределению элементов.