
- •Прохождение электронов и ионов через вещество
- •Ионизационные потери и потери на излучение при прохождении электронов через вещество
- •Процессы смещения атомов при взаимодействии с высокоэнергетичными электронами
- •Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
- •1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
- •Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
- •Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
- •Сегрегация примеси на поверхности образца Экспериментальное изучение сегрегации примеси на поверхности образца
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на поверхности образца
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии
- •Массоперенос в гомогенных системах при облучении пучком электронов [Error: Reference source not found]
- •Массоперенос в гетерогенных системах при электронном облучении [Error: Reference source not found]
- •Экспериментальное изучение перераспределения компонентов на границах зерен [37].
- •Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
- •1.2. Пространственное распределение температуры при облучении пучком электронов Профиль температурного поля в условиях облучения пучком электронов
- •Метод расчета пространственного распределения температуры в условиях облучения пучком электронов
- •Распределение температуры в материалах при облучении пучками электронов
- •Концентрационные профили точечных дефектов в условиях облучения пучком электронов
- •Концентрация точечных дефектов в условиях облучения
- •Распределение вакансий по глубине образца
- •Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
- •Кинетическая теория диффузии в бинарных системах в поле градиентов температуры и точечных дефектов
- •Численный метод решения кинетического уравнения диффузии. Принцип расщепления
- •Пространственное распределение элементов в твердых растворах при облучении пучком электронов
- •Гомогенная система
- •1.2.3 Внутренние напряжения в материале при электронном облучении
- •Структурно-фазовые изменения в материалах при облучении заряженными частицами
- •Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
- •Перераспределение элементов в сплавах при облучении пучком электронов средних энергий
- •1.2.4 Структурно-фазовые превращения при электронном облучении
- •1.3 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при ионном облучении
- •1.3.1 Теоретические модели эффекта дальнодействия
- •1.3.2 Влияние напряжений на перераспределение вакансий при ионном облучении
- •1.3.4 Эволюции кластеров радиационных дефектов при ионном облучении твердых тел
- •1.4.1 Описание параметров состояния вещества в задачах моделирования процессов в сплавах при облучении электронами и ионами
- •1.4.2 Численное моделирования процессов теплопередачи при облучении пучками заряженных частиц.
- •Тема 1. Ионно-плазмешюе осаждение слоев ..5
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 42
- •Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектроникс 86
- •Тема 1. Ионно-плазменное осаждение
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 2.1. Особенности ионной технологии
- •Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
- •Тема 4, литографические методы в микро- и наноэлектронике
- •Литература
Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
Радиационно-стимулированная сегрегация (выделение примеси на дефектах кристаллической структуры) имеет место при выполнении следующих условий: а) наличие устойчивых потоков дефектов в отдельные пространственные области; б) преимущественное взаимодействие потоков атомов отдельных элементов сплава с этими потоками дефектов. Такое сочетание поддерживает локальные градиенты концентраций, которые исчезают при отсутствии потока дефектов.
Наиболее вероятными причинами существования устойчивых потоков дефектов к определенным областям пространства являются локальные исчезновения избыточных дефектов у стоков, такие как поры, дислокации, границы зерен и поверхность.
Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
Прямым экспериментальным подтверждением устойчивых потоков дефектов является постоянный рост дислокационных петель или пор. Однако, поскольку рост (или уменьшение) вызван разницей потока дефектов вакансионного и межузельного типов, отсутствие роста не обязательно указывает на отсутствие устойчивых потоков дефектов. Получены убедительные косвенные доказательства устойчивости потоков дефектов на основе изучения радиационно-стимулированного образования выделений на стоках дефектов в сплавах, представляющих собой твердые растворы при облучении ионами. Так, в сплаве Fe-18%Cr-8%Ni-1%Si наблюдались поры покрытые выделениями; в разбавленных твердых растворах Ni-Si обнаружены дислокационные петли межузельного типа, декорированные Ni3Si [10]; в сплаве Ni- 0,7%Be найдены границы зерен полностью покрытые выделениями NiBe; отмечено образование когерентных пленок Ni3Si на поверхности облученных ионами разбавленных сплавов никель-кремний [11].
Радиационно-стимулированная сегрегация изучалась в различных системах и под воздействием электронных пучков. В таблице 3 приведены экспериментальные результаты по сегрегации элементов на различных видах дефектов в условиях облучения пучком электронов.
Таблица 3
Перераспределение элементов в поле облучения пучком электронов
Сплав % |
Обработка |
Исследуемый дефект |
Вид сегрегации на дефекте |
Источник |
Ag-9,6%Al |
E=1 МэВ, =1,21019 см-2с-1, T=673 К |
микропора |
Обогащение Аl |
12 |
Ag-9,4%In |
E=1 МэВ, =1,21019 см-2с-1, T=673 К |
микропора |
Обеднение In |
29 |
Fe-13%Cr |
E=2,75 МэВ, =11019 см-2с-1, T=673 К |
граница зерна |
Обеднение Cr |
29 |
Al-35%Zn |
E=1 МэВ, T=230C |
граница зерна |
Обогащение Zn |
13 |
Fe-10%Cr-1%Ti, |
E=1 МэВ; 5 смещ./ат. T=550-870 К; |
дислокационные петли |
Обогащение Cr |
14 |
дислокации |
выделение Ti |
Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
Для описания сегрегации примесей на
локальных дефектах была предложена
модель ячеек [15].
Весь кристалл разбивается на области
– ячейки, таким образом, что внутри
каждой ячейки имеется частица выделения.
Граничное условие диффузии имеет вид
,
где
– расстояние между выделениями.
Исследование проведено для случая,
когда выделения достаточно стабильны
в химическом отношении, так что
растворимость в матрице нечувствительна
ни к радиационно-стимулированному
разупорядочению, ни к потокам избыточных
радиационных дефектов в матрице. Модель
рассматривает совокупность сферических
частиц радиуса rp,
находящихся в матрице с исходной
концентрацией примеси Со;
при этом влияние радиационного
разупорядочения на концентрацию примеси
вблизи выделения не учитывается.
Поведение примеси в матрице анализируется
в рамках диффузионной задачи с граничными
условиями, определяемыми постоянством
концентрации примеси у границы выделения
Со=const
и нулевым градиентом концентрации
на границе ячейки, т.е. на половине
расстояния между выделениями
при r=L.
Уравнение диффузии
(1.2)
где
- функция ввода дефектов.
Установившийся концентрационный профиль вблизи выделения:
(1.2)
Максимальная концентрация, достигаемая
при
,
равна
. (1.2)
Как видно из уравнения (1.17), максимальная
концентрация линейно зависит от скорости
образования и от квадрата длины пробега
выбитых атомов и обратно пропорциональна
коэффициенту диффузии D.
Пока rp>RCmax
очень слабо зависит от
.
В случае, когда выделения заметно
различаются по размерам, точное решение
будет несколько измененным, однако
различие величины Сmax
от радиуса выделений приводит к
процессам огрубления структуры.
В условиях, когда радиационный эффект выражен слабо, процесс описывается кинетикой Вагнера-Лившица-Слезова [16], хотя при этом временная зависимость размера выделений прогрессивно отклоняется от классического соотношения r3~t. При более интенсивном облучении кинетика укрупнения выделений значительно усложняется, однако, как предсказывает теория, максимальный размер стабильных выделений такой же, как и в теории Лившица-Слезова. Частицы, размер которых заметно ниже максимально стабильного размера, растут в соответствии с классическим законом r3~t. Частицы в области размеров, существенно превышающих максимальный стабильный размер, уменьшаются также согласно кинетике типа r3~t.