
- •Прохождение электронов и ионов через вещество
- •Ионизационные потери и потери на излучение при прохождении электронов через вещество
- •Процессы смещения атомов при взаимодействии с высокоэнергетичными электронами
- •Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
- •1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
- •Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
- •Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
- •Сегрегация примеси на поверхности образца Экспериментальное изучение сегрегации примеси на поверхности образца
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на поверхности образца
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии
- •Массоперенос в гомогенных системах при облучении пучком электронов [Error: Reference source not found]
- •Массоперенос в гетерогенных системах при электронном облучении [Error: Reference source not found]
- •Экспериментальное изучение перераспределения компонентов на границах зерен [37].
- •Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
- •1.2. Пространственное распределение температуры при облучении пучком электронов Профиль температурного поля в условиях облучения пучком электронов
- •Метод расчета пространственного распределения температуры в условиях облучения пучком электронов
- •Распределение температуры в материалах при облучении пучками электронов
- •Концентрационные профили точечных дефектов в условиях облучения пучком электронов
- •Концентрация точечных дефектов в условиях облучения
- •Распределение вакансий по глубине образца
- •Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
- •Кинетическая теория диффузии в бинарных системах в поле градиентов температуры и точечных дефектов
- •Численный метод решения кинетического уравнения диффузии. Принцип расщепления
- •Пространственное распределение элементов в твердых растворах при облучении пучком электронов
- •Гомогенная система
- •1.2.3 Внутренние напряжения в материале при электронном облучении
- •Структурно-фазовые изменения в материалах при облучении заряженными частицами
- •Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
- •Перераспределение элементов в сплавах при облучении пучком электронов средних энергий
- •1.2.4 Структурно-фазовые превращения при электронном облучении
- •1.3 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при ионном облучении
- •1.3.1 Теоретические модели эффекта дальнодействия
- •1.3.2 Влияние напряжений на перераспределение вакансий при ионном облучении
- •1.3.4 Эволюции кластеров радиационных дефектов при ионном облучении твердых тел
- •1.4.1 Описание параметров состояния вещества в задачах моделирования процессов в сплавах при облучении электронами и ионами
- •1.4.2 Численное моделирования процессов теплопередачи при облучении пучками заряженных частиц.
- •Тема 1. Ионно-плазмешюе осаждение слоев ..5
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 42
- •Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектроникс 86
- •Тема 1. Ионно-плазменное осаждение
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 2.1. Особенности ионной технологии
- •Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
- •Тема 4, литографические методы в микро- и наноэлектронике
- •Литература
Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
Расчеты первично выбитых атомов показывают, что концентрация радиационных точечных дефектов может быть значительно выше равновесной [5]. Образованные в результате облучения, точечные дефекты диффундируют к стокам или аннигилируют между собой. В роли стоков для точечных дефектов выступают дислокации, границы зерен, поры, поверхность и т.д.
Диффузия точечных дефектов влияет на пространственные и протяженные дефекты в кристаллах: дислокации, поры, границы зерен, поверхность. Например, во время электронного облучения с энергией 1 МэВ сплавов Fe-10%Cr образуются сложные дислокационные петли с высокой плотностью, в основном, с векторами Бюргерса <100> [6].
1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
Под действием электронного облучения в кристаллах и сплавах происходит образование простейших точечных дефектов, связанных со смещением атомов или ионов среды. В результате этого в области дефекта может возникать деформационная неустойчивость, вызывающая появление упругих напряжений. Взаимодействие образующихся полей напряжений с уже имеющимися дефектами способно приводить к их генерации и диффузии, как вне поля радиации, так и в совокупности с ним. Под действием поля деформации возникает диффузия дефектов. Это может вызывать формирование в области одиночного устойчивого точечного дефекта мелких скоплений дефектов того же типа. Развитие деформационно-диффузионной неустойчивости при определенных критических значениях может привести к генерации упорядоченных структур этих скоплений
Как уже было сказано, повышение ресурса работы деталей из (твердых) сплавов в экстремальных условиях эксплуатации относится к актуальным задачам современного материаловедения. Принципиально новым решением указанной задачи является создание в поверхностном слое структурно-неравновесных состояний в процессе их импульсного электронно-пучкового облучения, при котором происходит высокоскоростной нагрев (до 106 град/с) поверхностного слоя сплава до аномально высоких температур с последующим высокоскоростным (104...109 К/с) охлаждением. Высокоскоростное термоциклирование сопровождается процессами межфазного взаимодействия компонентов по неравновесным диаграммам состояния и формированием структурно-неравновесных состояний [5].
Основными факторами, определяющими структурно-фазовое состояние и свойства приповерхностных слоев материала при импульсном электронно-лучевом нагреве, являются нестационарные поля температур и термомеханических напряжений, возникающие в результате передачи энергии электронного пучка мишени [5,6,7].
При исследовании влияния импульсных электронных потоков на свойства металлических сплавов обнаружены формирование концентрационных неоднородностей в сверхтонких приповерхностных слоях, а также изменения в микрокристаллической структуре механических свойствах фольг, зависящие от длительности электронного импульса [8].
Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
Рассмотрим некоторые наиболее общие феноменологические модели, позволяющие оценить коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов.
Ускорение диффузии при облучении связано
с избыточной концентрацией точечных
дефектов: вакансий
и междоузельных атомов
.
Коэффициенты самодиффузии для вакансионного и междоузельного механизмов можно представить следующим образом [7]:
, (1.2)
, (1.2)
где
и
- геометрические константы типа
кристаллической решетки;
и
- эффективные частоты перескока вакансий
и межузельных атомов;
-
длина перескока.
При постоянной скорости введения в
кристалл вакансий и межузельных атомов
(имеется в виду постоянная плотность
потока излучения) динамическая равновесная
концентрация точечных дефектов
и
,
а следовательно и
и
могут быть вычислены из кинетических
уравнений их аннигиляции. Теория
рассматривает пять механизмов: 1) линейный
на постоянно действующих стоках; 2)
взаимной рекомбинации дефектов; 3)
комбинированный, когда одновременно
действуют механизмы взаимной рекомбинации
и линейный; 4) комбинированный механизм,
когда одновременно действуют механизмы
взаимной рекомбинации межузельного
атома с собственной вакансией и линейный
механизм парной аннигиляции [8].
Рассмотрим два последних механизма, как наиболее общие:
Комбинированный механизм. Если дефекты исчезают как за счет взаимной аннигиляции, так и на постоянно действующих стоках, то концентрации вакансий и межузельных атомов рассчитывается по формулам:
(1.2)
где
-
плотность дислокаций;
- радиус поглощения вакансии дислокацией;
- скорость введения точечных дефектов.
Из приведенных уравнений видно, что
,
следовательно, в динамическом равновесии
коэффициент радиационной диффузии как
для вакансионного, так и для межузельного
механизма одинаков:
(1.2)
Механизм парной аннигиляции. Предполагается, что часть вакансий аннигилирует с собственными межузельными атомами, а часть оседает на дислокациях. При динамически равновесной концентрации вакансий первого и второго типа выражение для коэффициента радиационной диффузии имеет вид:
(1.2)
Механизмом радиационно-стимулированной
диффузии при повышенных плотностях
дислокаций
следует считать нестационарный
комбинированный механизм, характеризующийся
монотонным накоплением нескомпенсированных
вакансий в результате того, что часть
образовавшихся межузельных атомов
аннигилируют не на вакансиях, а на
дислокациях.
Краткий обзор моделей, учитывающий наряду с моновакансионным механизмом диффузии дивакансионный, представлен в работе [9], где анализируется коэффициент диффузии и его температурная зависимость.
Рассматриваемые в литературе модели описывают диффузию точечных дефектов или в термодинамическом равновесии, или рассматривают влияние только одного-двух стоков на концентрацию точечных дефектов.