
- •Прохождение электронов и ионов через вещество
- •Ионизационные потери и потери на излучение при прохождении электронов через вещество
- •Процессы смещения атомов при взаимодействии с высокоэнергетичными электронами
- •Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
- •1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
- •Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
- •Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
- •Сегрегация примеси на поверхности образца Экспериментальное изучение сегрегации примеси на поверхности образца
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на поверхности образца
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии
- •Массоперенос в гомогенных системах при облучении пучком электронов [Error: Reference source not found]
- •Массоперенос в гетерогенных системах при электронном облучении [Error: Reference source not found]
- •Экспериментальное изучение перераспределения компонентов на границах зерен [37].
- •Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
- •1.2. Пространственное распределение температуры при облучении пучком электронов Профиль температурного поля в условиях облучения пучком электронов
- •Метод расчета пространственного распределения температуры в условиях облучения пучком электронов
- •Распределение температуры в материалах при облучении пучками электронов
- •Концентрационные профили точечных дефектов в условиях облучения пучком электронов
- •Концентрация точечных дефектов в условиях облучения
- •Распределение вакансий по глубине образца
- •Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
- •Кинетическая теория диффузии в бинарных системах в поле градиентов температуры и точечных дефектов
- •Численный метод решения кинетического уравнения диффузии. Принцип расщепления
- •Пространственное распределение элементов в твердых растворах при облучении пучком электронов
- •Гомогенная система
- •1.2.3 Внутренние напряжения в материале при электронном облучении
- •Структурно-фазовые изменения в материалах при облучении заряженными частицами
- •Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
- •Перераспределение элементов в сплавах при облучении пучком электронов средних энергий
- •1.2.4 Структурно-фазовые превращения при электронном облучении
- •1.3 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при ионном облучении
- •1.3.1 Теоретические модели эффекта дальнодействия
- •1.3.2 Влияние напряжений на перераспределение вакансий при ионном облучении
- •1.3.4 Эволюции кластеров радиационных дефектов при ионном облучении твердых тел
- •1.4.1 Описание параметров состояния вещества в задачах моделирования процессов в сплавах при облучении электронами и ионами
- •1.4.2 Численное моделирования процессов теплопередачи при облучении пучками заряженных частиц.
- •Тема 1. Ионно-плазмешюе осаждение слоев ..5
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 42
- •Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектроникс 86
- •Тема 1. Ионно-плазменное осаждение
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 2.1. Особенности ионной технологии
- •Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
- •Тема 4, литографические методы в микро- и наноэлектронике
- •Литература
Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
Использование технологий радиационной обработки материалов в промышленности обеспечивает существенный экономический эффект, и с каждым годом сфера применения электронных и ионных пучков для обработки материалов расширяется [76].
Когда рассматривается улучшение сплава
и управление его свойствами с помощью
изменения состава и микроструктуры,
следует иметь в виду не только процесс
выделения вторых фаз из твердого
раствора. Возможно например, каскадное
растворение и перерождение выделений.
Стимулированная сегрегация может
оказывать значительное влияние и на
процесс перерождения. Есть данные, что
плотность числа выделений, распределение
по размерам, объемная доля выделений и
размерное несоответствие могут изменяться
в процессе облучения. Это, в частности,
может быть важным для сплавов, выделения
в которых являются критической
характеристикой. К такому явлению,
например, относятся изменения концентрации
-выделений
и распределения по размерам при облучении
-упрочняемых
сплавов на никелевой основе [77],
а также растворение карбидов TiC
в стабилизированных аустенитных
нержавеющих сталях, облученных при
температурах ниже 500С.
Радиационно-стимулированная
сегрегация у межфазных границ и границ
зерен, а также у пор, может иметь
значительные последствия, даже если
вторая фаза и не образуется. Сегрегация
к границам зерен и межфазным границам
влияет на процессы пластичности и
разрушения [78,
79].
Воздействие пучками заряженных частиц приводит к значительным изменениям их структуры и свойств сталей. Как правило, в низколегированных доэвтектоидных сталях происходит существенное измельчение зерен в поверхностных слоях и увеличение твердости. В заэвтектоидных сталях при обработке с оплавлением поверхности образуется большое количество остаточного аустенита, и возникают сложные по профилю внутренние напряжения, величина которых сравнима с прочностью поверхностного слоя. Последнее ограничивает применение пучков заряженных частиц для повышения служебных характеристик изделий из заэвтектоидных углеродистых и легированных сталей [80].
В [81] исследовано влияние режимов облучения низкоэнергетическим сильноточным электронным пучком микросекундной длительности на химический состав и структурно-фазовое состояние поверхностных слоев образцов из титановых сплавов. Показано, что с помощью такой обработки удается очистить поверхность от примесей кислорода и углерода, повысить однородность распределения элементов по толщине поверхностного слоя, снизить шероховатость поверхности до 0,05-0,07 мкм, изменить фазовый состав и структуру материала в поверхностном слое толщиной более ~10 мкм (от глобулярной до столбчатой в зависимости от плотности энергии и числа импульсов).
Одним из перспективных методов модификации поверхности является облучение пучками ионов, которые в кристаллической решетке металла являются малоразмерными примесями. Этот способ позволяет существенно повысить твердость поверхностного слоя металла [82], при этом процессы, происходящие при радиационной обработке аналогичны процессам поверхностного легирования, но с некоторыми отличиями: при облучении возможно образование радиационно-стимулированных соединений, которые не образуются при термической обработке и процесс легирования поверхности происходит значительно быстрее.
В последние годы активно проводятся исследования и по воздействию облучения на полупроводниковые материалы. В работе [83] приведены данные переходных фототоков электронов и дырок в отожженных и облученных светом ВЧ-пленках AsSe. После облучения величина фототоков, соответствующая дрейфу электронов дырок, существенно уменьшается, а время пролета увеличивается в 3-4 раза. При этом время пролета электронов увеличивается несколько больше. Отжиг облученных образцов приводит к восстановлению первоначального значения времени пролета и амплитуды значений переходных фототоков электронов и дырок. В свою очередь, степень перестройки структуры ТИ- и ВЧ- пленок при облучении зависит от технологии получения этих пленок и обуславливает фотоиндуцированные изменения всего энергетического спектра электронных состояний, включая изменения в спектре локализованных состояний.
Для кремневых p+ – n – n+ - структур существует определенный интервал интенсивности электронного облучения, при котором эффективность образования радиационных дефектов остается постоянной. Последнее определяется природой и типом образующихся комплексов. Можно предложить оптимальные условия введения рекомбинационных центров радиационных дефектов и повышения стабильности характеристик кремниевых структур, которые заключаются в проведении облучения электронами при Тобл~400° С, интенсивностью 1012 см-2·с-1, флюенсами 1015-1016 см-2 [84].
Исследования проводились и на порошковых материалах. Исходным материалом в этом эксперименте являлись соли и оксиды вольфрама. После обучения на ускорителе электронов порошки прессовались и спекались в среде водорода традиционными способами порошковой металлургии. Применение радиационной обработки порошков позволило получить высококачественный вольфрам с гомогенной структурой, обладающий повышенной прочностью и износостойкостью. Наиболее очевидными и легко обнаружимыми эффектами радиационной обработки порошков являются радиационное растрескивание частиц, приводящее к изменению их среднего размера, и освобождению ряда химических примесей вследствие взрыва химических связей при облучении. Оба эти эффекта, в конечном счете, приводят к улучшению качества материала[85].