
- •Прохождение электронов и ионов через вещество
- •Ионизационные потери и потери на излучение при прохождении электронов через вещество
- •Процессы смещения атомов при взаимодействии с высокоэнергетичными электронами
- •Влияние облучения на дефектную структуру кристалла
- •1.2 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при электронном облучении
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии точечных дефектов
- •Сегрегация примеси в условиях облучения пучком электронов
- •Сегрегация примеси на дефектах кристаллической решетки Экспериментальное изучение сегрегации примеси на дефектах кристаллической решетки
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на дефектах кристаллической решетки
- •Сегрегация примеси на поверхности образца Экспериментальное изучение сегрегации примеси на поверхности образца
- •Модели радиационно-стимулированной сегрегации на поверхности образца
- •Коэффициенты радиационно-стимулированной диффузии
- •Массоперенос в гомогенных системах при облучении пучком электронов [Error: Reference source not found]
- •Массоперенос в гетерогенных системах при электронном облучении [Error: Reference source not found]
- •Экспериментальное изучение перераспределения компонентов на границах зерен [37].
- •Экспериментальное изучение массопереноса в многофазных системах [Error: Reference source not found].
- •1.2. Пространственное распределение температуры при облучении пучком электронов Профиль температурного поля в условиях облучения пучком электронов
- •Метод расчета пространственного распределения температуры в условиях облучения пучком электронов
- •Распределение температуры в материалах при облучении пучками электронов
- •Концентрационные профили точечных дефектов в условиях облучения пучком электронов
- •Концентрация точечных дефектов в условиях облучения
- •Распределение вакансий по глубине образца
- •Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
- •Кинетическая теория диффузии в бинарных системах в поле градиентов температуры и точечных дефектов
- •Численный метод решения кинетического уравнения диффузии. Принцип расщепления
- •Пространственное распределение элементов в твердых растворах при облучении пучком электронов
- •Гомогенная система
- •1.2.3 Внутренние напряжения в материале при электронном облучении
- •Структурно-фазовые изменения в материалах при облучении заряженными частицами
- •Применение пучков заряженных частиц для модификации поверхности материалов
- •Перераспределение элементов в сплавах при облучении пучком электронов средних энергий
- •1.2.4 Структурно-фазовые превращения при электронном облучении
- •1.3 Закономерности нагрева, модификации и упрочнения поверхностного слоя сплава при ионном облучении
- •1.3.1 Теоретические модели эффекта дальнодействия
- •1.3.2 Влияние напряжений на перераспределение вакансий при ионном облучении
- •1.3.4 Эволюции кластеров радиационных дефектов при ионном облучении твердых тел
- •1.4.1 Описание параметров состояния вещества в задачах моделирования процессов в сплавах при облучении электронами и ионами
- •1.4.2 Численное моделирования процессов теплопередачи при облучении пучками заряженных частиц.
- •Тема 1. Ионно-плазмешюе осаждение слоев ..5
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 42
- •Тема 4. Литографические методы в микро- и наноэлектроникс 86
- •Тема 1. Ионно-плазменное осаждение
- •Тема 2. Применение ионной имплантации 2.1. Особенности ионной технологии
- •Тема 3. Особенности применения электронных процессов в электронике
- •Тема 4, литографические методы в микро- и наноэлектронике
- •Литература
Распределение вакансий по глубине образца
При облучении площадь падающего пучка значительно больше поверхности образца, поэтому уравнение (3.2) запишем для одномерного случая [53, 54]:
, (3.4)
В качестве граничных условий поверхность будем рассматривать как неограниченный сток вакансий, т.е. на поверхности концентрация вакансий соответствует равновесной для данной температуры. Начальное распределение вакансий также соответствует равновесному.
Решение системы уравнений (3.2) показало, что с течением времени концентрация вакансий растет до максимального значения (10-410-3 ат. д.), возникает некоторое «равновесное» распределение, после чего концентрация вакансий не увеличивается, т.е. уравновешиваются процессы генерации вакансий облучением и аннигиляции вакансий межузельными атомами, а также поглощение вакансий стоками (рисунок 24, 25, 26). Профиль распределения концентрации вакансий схож с распределением первично выбитых атомов.
Рис. 24. Распределение вакансий по глубине образца в хроме в зависимости от времени облучения электронами. Энергия электронов E=1 МэВ, плотность тока j=0.6 А/м2.
Как показывают расчеты в металлических материалах, для данных условий облучения время необходимое для достижения максимальной концентрации вакансий составляет около 10 мин [55]. У поверхности образца возникает значительный градиент концентрации вакансий, который может достигать 1 ат. д./м (рисунок 25).
Рис. 25. Распределение вакансий у поверхности образца в хроме при различных временах облучения. Энергия электронов E=1 МэВ, плотностью тока j=0.6 А/м2.
Рис. 26. Распределение вакансий в ванадии по глубине образца при различном времени облучения. Энергия электронов Е= 2,75 МэВ, плотность тока j= 0,6 А/м2 [56].
Проведенные расчеты пространственно-временного распределения концентрации точечных дефектов позволяют сделать следующие выводы:
Облучение пучком электронов приводит к возникновению концентрации точечных дефектов (10-410-3 ат. д.), которая значительно больше равновесной при данной температуре без облучения. Профиль дефектов в целом повторяет распределение первично выбитых атомов. В течение облучения концентрация точечных дефектов увеличивается до некоторого динамически равновесного распределения, которое в последствии не изменяется в течение всего времени облучения. Время достижения динамического равновесия составляет 712 мин.
Диффузия дефектов к стокам приводит к созданию градиента неравновесных точечных дефектов. При этом величина градиента концентрации вакансий может достигать 100 ат. %/м.
Массоперенос в металлических системах на основе твердых растворов при облучении пучком электронов средних энергий
При радиационном воздействии на сплав должны быть учтены, по крайней мере, два механизма, которые могут привести к заметному влиянию на перераспределение элементов. Во-первых, выделение энергии излучения неоднородно по толщине образца, что обуславливает возникновение градиентов температуры (глава 2). Во-вторых, поток заряженных частиц является причиной появления неравновесных точечных дефектов (глава 3) . Такие дефекты приводят к появлению нескомпенсированных потоков атомов решетки, увеличению коэффициентов диффузии и возникновению градиентов точечных дефектов [57].
Задача построения теоретической модели массопереноса элементов в сплавах при радиационном воздействии сводится к составлению и решению уравнений непрерывности для каждого из компонентов, причем выражение для потоков должны учитывать взаимную диффузию, термодиффузию и дрейф в поле неравновесных точечных дефектов.