Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Учебник по ТМЭ.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.04.2025
Размер:
1.67 Mб
Скачать

Получение металлургического и электронного кремния

Исходным сырьем для большинства изделий микроэлектронной промышленности служит электронный кремний. Первым этапом его получения является изготовление сырья, называемого металлургическим кремнием.

Э тот технологический этап реализуется с помощью дуговой печи с погруженным в нее электродом. Печь загружается кварцитом SiO2 и углеродом в виде угля, щепок и кокса. Температура реакции Т=1800°С, энергоемкость W = 13 кВт/час.

Результирующая реакция может быть представлена в виде:

SiCтв+ SiO2тв Siтв+ SiO2газ+ COгаз

Металлургический кремний со степенью чистоты 98% измельчают и помещают в гидрометаллургическую установку для получения трихлорсилана. Температура реакции Т=300°C.

Siтв +3HClгаз SiHCl3газ+ H2газ + Q

Производство электронного кремния проходит в несколько этапов:

1. Сначала в дуговой печи с погружаемым электродом получают металлургический кремний

SiCтв + SiO2 Siтв + SiOгаз + COгаз

кварцит(SiO2) + углерод в виде угля, щепок и кокса температура реакции 1800 °С энергоемкость 13 кВт/ч

2. Металлургический кремний измельчают в порошок. Вступая в реакцию с безводным хлористым водородом, кремний переходит в трихлорсилан

SiHCl3 Siтв + 3HClгаз SiHCl3газ + H2газ + теплота

температура реакции 300 °C проходит в присутствии катализаторов

3. Электронный кремний получают из очищенного трихлорсилана путем осаждения из парогазовой смеси (ПГС). Трихлорсилан при температуре Т = 32 °С становится жидкостью. Химическая реакция представляет собой реакцию водородного восстановления кремния из трихлорсилана:

2SiHCl3газ + 3H2газ 2Siтв + 6HClгаз

Зародышем будущего слитка служит резистивно нагреваемый кремниевый стержень. Полный цикл осаждения длится много часов. В результате получается стержень поликристаллического по структуре электронного кремния диаметром до 20 см и длиной несколько метров.

Этот процесс используют также для производства поликристаллических кремниевых труб, применяемых в качестве держателей и подставок, необходимых при осуществлении высокотемпературных обработок.

Структура и дефекты в монокристаллическом кремнии

К ремний обладает алмазоподобной кристаллической решеткой, которая может быть представлена в виде двух взаимопроникающих гранецентрированных решеток. Параметр решетки - 0.54 нм, кратчайшее расстояние между атомами - 0.23 нм. Легирующие атомы замещают атомы кремния, занимая их место в кристаллической решетке. Основными легирующими атомами являются фосфор (5ти валентный донор замещения) и бор (3-х валентный акцептор замещения). Их концентрация обычно не превышает10-8 атомных процента.

Реальные кристаллы отличаются от идеальных следующим:

  • они не бесконечны и поверхностные атомы обладают свободными связями

  • атомы в решетке смещены относительно идеального положения вследствие термических колебаний

  • реальные кристаллы содержат дефекты

С точки зрения размерности выделяют следующие типы дефектов реальных кристаллов:

  • точечные дефекты

  • дислокации или линейные дефекты

  • поверхностные или двумерные дефекты

  • объемные дефекты