
- •Семинар №1 Основы теории кристаллизации. Рост реальных растворов.
- •Семинар №2 Распределение примеси в процессах кристаллизации
- •Семинар №3 Легирование полупроводников
- •Выход однородно легированного монокристалла
- •Семинар №5 Рост эпитаксиальных слоев из газовой фазы.
- •Скорость роста эпитаксиального слоя Si
Семинар №1 Основы теории кристаллизации. Рост реальных растворов.
Задача 1
Д
ано:
гомогенная кристаллизация материала GaSb
переохлаждение ΔT = 70K
поверхностное натяжение σтв-ж = 1,6·10-5Дж/см2
температура плавления Тпл = 998 К
плотность ρ = 5,614 г/см3
постоянная Авогадро NА = 6,02·1023 ат/моль
теплота плавления ΔН = 65,15 кДж/моль
Найти:
r* – критический размер зародыша
П – число атомов в зародыше
РЕШЕНИЕ:
GL – GS = HL – TSL – HS + TSS = (HL – HS) – T(SL – SS) = ΔHпл – TΔSпл = ΔHпл – (T ΔHпл/Tпл) = ΔHпл(1 – (T/Tпл) = ΔHпл(ΔT/Tпл) – ΔGоб = ΔHпл(ΔT/Tпл)
Молярная масса
МGaSb = 191,4 г/моль
ΔGгом = (V/Ω)(GS – GL) + σ·S
V – Объем зародыша
S – Площадь зародыша
ΔGоб = (GS – GL) – объемная свободная энергия
Куб a = 2r
V1/3 = 2r; k = 6 число сторон
V2/3 = 4r2
Ω = M/ρ – мольный объем
S = kV2/3
Дифференцируем:
V*1/3 = – (2/3)(kσΩ/ΔGоб)
Получаем для кубического зародыша со стороной 2r* и сферического с радиусом r*
Объем сферического зародыша
Объем кубического зародыша
;
V*СФ = 4/3π(2,4·10-7)3см3 = 5,79·10-20см3
V*КУБ = θr3 = θ(2,4·10-7)3 = 1,1·10-19 см3
Число атомов в 1 см3: N=(ρ·NA)/M = (5,6г/см3·6,02·1023 ат/моль)/191,4 г/моль = 1,76·1022 ат/см3
Число атомов в зародыше: n = V*N
nСФ = 5,79·10-20см3 · 1,76·1022ат/см3 = 1019 ат.
nКУБ = 1,1·10-19см3 · 1,76·1022ат/см3 = 1936 ат.
З
адача
2
Дано:
Материал GaAs
Молекулярная масса М = 144,6 г/моль
Энтальпия плавления ΔН = 108 кДж/моль
Температура плавления Т = 1553 К
Плосность ρ = 5,3 г/см3
Дано: (1)
Сферический зародыш
Критический объем
V* = 1·106 эл. ячеек
Параметр решетки
a = 0,565 нм
σ = 2,1·10-5 Дж/см2
Найти:
Поверхностное натяжение
Критическое переохлаждение ΔTгом
Дано: (2)
Гетерогенное зарождение
Кубический зародыш
V* = 1·106 эл. ячеек
Угол смачивания
Θ = 120°
Найти:
Критическое переохлаждение ΔTгет
Дано: (3)
Гетерогенное зарождение
Переохлаждение
ΔT = ΔTгом = 4,7 К
2-х мерный зародыш
3-х мерный зародыш
Найти:
Критический размер зародыша r*
(
1)
Vяч = a3 = (0,565·10-7см)3= = 1,8·1022см3/яч
V* = 1·106 эл.яч·Vяч = 1·106 эл.яч·1,8·
·10-22см3/яч=1,8·10-16
см3
;
(2)
Возьмем сферический зародыш
Гомогенная Гетерогенная
Возьмем кубический зародыш
;
; Sгет
= 24r2Ф;
;
;
Sгет = 24(Vгет/8Ф)2/3;
Ф = 24·(1,8·10-16/(8Ф))2/3·0,656
= 1,66·10-10 см2
(3) Рассмотрим 3-х мерный зародыш
(
Vгет/Vгом)
= Ф r*гет
= r*гом
V*гет = V*гом
r*гет ≠ r*гом
r*~(1/ΔT)
r*гет > r*гом
ΔTгет < ΔTгом
(2/3)S*гет σ = -(V*гет/Ω)·ΔGоб
(2/3)·24r2Фσ = (8r3/ Ω) ·Ф· (ΔHпл ΔTгет/Tпл)
После сокращения получим:
ΔTгет =
ΔTгом
= 4,7 К
Критический объем при гетерогенном зарождении для зародыша кубической формы:
V*КУБ = 8r*3Ф = 8·(3,5·10-6)3·0,656 = 2,25·10-16 см3
Критический объем при гетерогенном зарождении для зародыша сферической формы:
;
;
Р
ассмотрим
2-х мерный зародыш.
ΔGГом = (V2/3/Ω)·ΔGоб + 4·V1/3σ
(V*-1/3/Ω) · (2/3)·ΔGоб + (1/3)·V*-2/3·4σ = d(ΔG)/dV
(2/3)·(ΔGоб/Ω) = – (4/3)·V*-1/3σ | ·V*2/3
(2/3)·(V*2/3/Ω)·ΔGоб = – (4/3)·V*1/3σ
(V*2/3/Ω)·ΔGоб = – 2·V*1/3σ
kV*2/3 = S
V1/3 =2r = a
V2/3 = a2 = 4r2
l* = 4a = 8r
4·V*1/3σ – 2·V*1/3σ = 2·V*1/3σ = ΔG*гом = 2aσ = 4rσ = 0,5·l*σ = ΔG*гом – энергия образования 2-х мерных зародышей
Следовательно:
(1/2) · l*σ = (V*2/3/Ω) · ΔGоб
Гетерогенное зарождение
=1,7·10-6 см
r*гом = r*гет (S*гет/S*гом) = Ф S*гом = 4r*2 = 4 · (1,7·10-6)2 = 1,16·10-11 см2
S*гет = S*гом · Ф = 1,16 · 10-11 · 0,656 = 7,58 · 10-12 см2
З
адача
3
Дано:
Материал GaAs
Направленная кристаллизация
Осевые температурные градиенты
В расплаве:
(dT/dx)ж = 30 K/см
В кристалле:
(dT/dx)тв = 20 K/см
Энтальпия плавления
ΔHпл = 108кД/моль
Плотность кристалла
ρ = 5,3 г/см3
Теплопроводность кристалла
εтв = 0,37 кал/см·с·К
в расплаве:
εж = 146 Вт/м·К
M = 144,6 г/моль
Найти:
Скорость роста кристалла V
1 кал = 4,18 Дж
εтв = 0,37 · 4,18 = 1,55 Дж/(см·с·К)
εж = 1,46 Дж/(см·с·К)
εтв(dT/dx)тв – εж(dT/dx)ж = ρLV
L – Теплота плавления отнесенная к единице массы
L = – ΔHпл/M = – 108·103 Дж/моль / 144,6 г/моль = –746,9 Дж/г
V – Скорость роста кристалла