
- •1.1 Компоновка рэа. Классификация методов компоновки.
- •1.2. Производственный и тех процессы, их структура и элементы. Виды техпроцессов.
- •1.3 Задача конструкторской подготовки производства. Система технической подготовки производства
- •1.4 Алгоритм проектирования модуля рэа. Конструктивные и технологические характеристики печатных плат в сапр модулей рэа.
- •2.1 Методы конструирования рэа. Классификация методов
- •2.2 Производительность техпроцессов. Структура технической нормы времени. Выбор…
- •2.3 Анализ вопросов точности при конструировании и разработке технологии рэс. Предельный и вероятностный методы
- •2.4 Многокритериальная оценка эффективности рэс. Основные ттх и ттт к рэс. Этапы их разработки...
- •3.1 Порядок проведения и стадии нир и окр
- •3.2 Технологичность конструкции, основные виды, структура, показатели, методика расчета.
- •3.3 Виды аппаратуры контроля и диагностики. Основы классификации, краткие характеристики видов.
- •3.4 Современные сапр печатного монтажа. Программные средства для решения вспомогательных задач при проектировании печатных плат.
- •4.1 Стадии разработки кд. Основные участники нир и окр и их функциональные обязанности
- •4.2 Технологическое оснащение, виды, методика выбора и проектирование автоматизированного…
- •4.3 Градиентные методы поиска экстремума целевой ф-и.
- •4.4 Решение задачи размещения компонентов на печатной структуре. Функциональные возможности и алгоритмы модулей размещения современных сапр конструкторского типа
- •5.1 Виды изделий и кд. Комплектность кд
- •5.2 Субстрактивные методы изготовления пп: структура, базовые технологические операции, режимы, оборудование.
- •5.3 Методы контроля состояния кип на этапе эксплуатации. Характеристики этапов производства и эксплуатации с позиции организации контроля.
- •5.4 Интегральные критерии эффективности рэс. Его состав, правила и способы разработки. Стоимостный критерий.
- •6.1 Основные законы теплообмена. Критериальные уравнения.
- •6.2 Технология механических соединений: виды, особенности выполнения, применяемое оборудование.
- •6.3 Эксплуатация и основные этапы эксплуатации. Определения и задачи, решаемые при разработке теоретических основ эксплуатации…
- •7.1 Герметизация рэа. Выбор способа герметизации
- •7.2 Организационное и техническое проектирование автоматизированных поточных линий сборки рэс.
- •7.3 Законы распределения случайных величин.
- •8.1 Герметизация узлов и блоков рэа с помощью пайки, сварки, уплотнительной прокладки
- •8.2 Конструктивно-технологические характеристики печатных плат, их классификация, материалы для производства пп.
- •Классификация плат
- •Коммутационные платы:
- •Материалы для изготовления плат
- •Материалы:
- •Электронная система.
- •Программируемая (она же универсальная) электронная система.
- •9.1 Защита рэа от атмосферных воздействий. Герметизация рэа. Способы герметизации
- •9.2 Методика проектирования единичных техпроцессов. Технологическая документация.
- •9.3 Резисторная, диодная, транзисторная оптопара: параметры, принцип действия, область применения. Свойства оптоэлектронных коммутаторов.
- •10.1 Защита рэа от механических воздействий с помощью демпфирующих материалов. Оценка их эффективности
- •10.2 Аддитивные методы изготовления пп: структура, базовые, технологические операции, режимы, оборудование.
- •10.3 Характеристики и причины отказов рэс.
- •10.4 Разработка микропроцессорной системы на основе мк. Основные этапы разработки. Выбор типа мк
- •11.1 Защита рэу с помощью покрытий. Виды, характеристики, обозначение покрытий.
- •11.2 Технологические процессы изготовления плат на керамическом, металлическом и полиамидном основаниях.
- •11.3 Методы случайного поиска экстремума целевой функции.
- •12.1 Испарительное охлаждение. Термосифонный теплоотвод. Метод тепловых труб.
- •12.2 Многослойные пп: методы изготовления, структура технологических процессов, базовые тех.Операции, режимы их выполнения, применяемое оборудование. Контроль качества. Визуализация дефектов.
- •12.3 Организация разработки и изготовления киа. Этапы проектирования киа.
- •12.4 Приборы с зарядовой связью, принцип действия, режимы работы, область применения, достоинства и недостатки
- •13.1 Влагозащита рэу. Классификация методов влагозащиты.
- •13.2 Технологичность рэа. Показатели технологичности. Оценка технологичности изделия.
- •13.3 Классификация и регулярные методы поиска экстремума целевой функции.
- •13.4 Фильтр, фильтрация. Классификация и параметры фильтров. Маркировка и уго Принцип действия и недостатки аналоговых фильтров.. Дискретные фильтры: принцип действия, разновидности.
- •14.1 Классификация рэу по назначению, условиям эксплуатации.
- •14.2 Групповая монтажная пайка. Технологические основы процесса, методы и режимы выполнения, автоматизированное оборудование.
- •14.3 Место и роль технической подготовки в структуре предприятия. Организационное и техническое управление.
- •14.4 Типы акустических волн, преобразователи акустических волн. Характеристики и модели преобразователей.
- •15.1 Нормальный температурный режим эрэ изделия. Классификация систем охлаждения рэу
- •15.2 Монтажная сварка: технологические основы процесса, методы и режимы выполнения.
- •15.3 Критерии надежности
- •15.4 Кварцевые резонаторы и интегральные пьезокварцевые фильтры. Схема замещения кварцевого резонатора, применение кварцевых резонаторов.
- •16.1 Конструирование деталей, изготавливаемых гибкой, выдавкой, вытяжкой и отбортовкой.
- •16.2 Технологические основы накрутки: виды соединений, классификация методов, влияние режимов на характеристики соединений, оборудование, инструмент, автоматизация процесса.
- •16.3 Критерии проверки гипотез для принятия правильных решений при проектировании рэс
- •16.4 Принцип действия цифрового фильтра. Структурные схемы цф: сравнительные характеристики.
- •17.1 Конструирование деталей, изготавливаемых литьем, прессованием
- •17.3 Методы индивидуального статистического прогнозирования состояния.
- •17.4 Криогенная электроника: область применения, используемые эффекты, достоинства.
- •18.1 Конструирование печатных плат. Отверстия в печатных платах. Контактные площадки и проводники печатных плат.
- •18.2 Сборка типовых элементов на пп и мпп, классификация методов, технология выполнения, автоматизированное оборудование.
- •18.3 Показатели эффективности эксплуатации. Расчет эффективности эксплуатации
- •19.2 Проектирование производственных участков и цехов.
- •19.4 Хемотроника: определение, достоинсва, недостатки и разновидности хемотронных приборов.
- •20.1 Методы изготовления опп, дпп и мпп. Методы формирования рисунка.
- •20.2 Технология внутриблочного монтажа с помощью коммутационных плат (тканных, многопроводных).
- •20.3 Методы случайного поиска экстремума целевой функции.
- •20.4 Направления фукциональной электроники. Типы неоднородностей в уфэ, примеры.
- •21.1. Конструирование печатных узлов. Варианты установки навесных элементов.
- •21.2 Технология межблочного жгутового монтажа
- •21.3 Основные направления и способы прогнозирования
- •21.4 Фотоэлектрические преобразователи. Фоторезисторы. Материалы фоторезисторов. Кремниевые и германиевые фотодиоды. P–I–n, лавинный и гетерофотодиоды. Фототранзисторы.
- •22.1 Статический и динамический расчеты системы виброизоляции.
- •22.2 Технология монтажа на поверхности плат, основные варианты процессов. Особенности подготовки, сборки и монтажа.
- •Конструктивные:
- •22.3 Прогнозирование качества и состояния как метод повышения эксплуатационных показателей рэа
- •23.1 Общие требования к деталям, изготавливаемых сваркой. Виды сварки. Правила конструирования сварных соединений и выполнения чертежей сварных швов.
- •23.2 Технология защиты и герметизации рэс
- •23.3 Фильтры на пав: разновидности, области применения, особенности конструкции, аподизация, эквидистантность.
- •23.4 Волоконно-оптические датчики на основе микромеханических резонаторов, возбуждаемых светом.
- •24.1 Односторонние, двусторонние, многослойные, гибкие печатные платы. Особенности конструкций.
- •24.2 Контроль, диагностика неисправностей рэс, регулировка и технологическая тренировка.
- •24.3 Общие сведения о cad/cam/cae технологиях. Основные понятия и соответствие понятий сапр и cad/cam/cae-систем. Предмет и задачи сапр модулей рэа, назначение и области применения.
- •24.4 Индуктивные и трансформаторные преобразователи
- •25.1 Миниатюризация. Этапы развития миниатюризации. Показатели миниатюризации.
- •25.2 Технологические возможности различных методов механической обработки при изготовлении конструкционных деталей рэс и их влияние на свойства материалов.
- •25.3 Численность подразделения для обслуживания и разработки киа. Одновременная разработка и ее преимущества. Группы киа по назначению и применению в производстве.
- •25.4 Эффект Зеебека. Термоэлектрические преобразователи. Типы и виды термопар
- •26.1 Оценка вибропрочности и ударной прочности печатных плат. Виды амортизаторов, применяемых в рэа
- •26.2 Методы и технология получения деталей рэс литьем, обоснование выбора процесса в различных условиях производства.
- •26.3 Основные способы построения алгоритмов поиска неисправностей, их краткая характеристика. Обоснование выбора алгоритма, задачи при разработке алгоритмов поиска
- •1.Способ половинного разбиения.
- •2.Способ «время – вероятность».
- •3.Способ на основе информационного критерия
- •4.Инженерный способ.
- •5.Способ ветвей и границ.
- •26.4 Струнные и стержневые преобразователи. Режимы работы механических резонаторов
- •27.1 Постоянный и переменный ток в печатных проводниках. Сопротивление, емкость и индуктивность печатных проводников.
- •27.2 Технология изготовления деталей из ферритов. Особенности формирования деталей из керамики, стеклокерамики и металлических порошков.
- •27.4 Преобразователи с устройствами пространственного кодирования
- •28.1 Правила нанесения на чертежах надписей, технических требований, таблиц и предельных отклонений.
- •28.2 Технологические характеристики электрофизических и электрохимических методов обработки.
- •28.3 Полный факторный эксперимент. Дробный факторный эксперимент
- •28.4 Основные гальваномагнитные эффекты. Эффект Холла. Технология изготовления датчиков Холла
- •29.1 Влагозащита рэу монолитными оболочками.
- •29.2 Методы изготовления деталей из пластмасс, технология выполнения и оборудование.
- •29.3 Уровни и этапы проектирования рэс. Входящее и нисходящее проектирование
- •29.4 Применение гальваномагнитных преобразователей в средствах автоматизации.
- •30.1 Классификация воздушных систем охлаждения. Охлаждение стоек, шкафов, пультов с рэу.
- •30.2 Способы проведения двухстадийной диффузии
- •30.4 Технология изготовления интегральных тензопреобразователей (ит)
- •31.1 Способы охлаждения рэу. Выбор способа охлаждения на ранней стадии проектирования.
- •31.2 Ориентация полупроводниковых монокристаллических слитков. Механическая обработка полупроводниковых слитков и пластин.
- •31.3 Изучение закономерностей технологических процессов и конструкций на моделях. Основные требования к процессу моделирования. Виды моделей.
- •31.4 Классификация датчиков теплового потока. Физические модели «тепловых» датчиков теплового…
- •32.1 Структурные уровни конструкции рэа, как признак системности. Элементная база рэа.
- •32.2 Жидкостная и сухая обработка полупроводниковых пластин.
- •32.3 Теория игр и статистических решений. Правило игры, ход, стратегия. Оптимльная стратегия. Матрица игры. Принцип Минимакса.
- •32.4 Полевые транзисторы на основе арсенида галлия. Разновидности структур меп-транзисторов. Паразитная связь между элементами через полуизолирующую подложку.
- •33.1 Схема как кд. Правила выполнения схем электрических принципиальных и перечней элементов к ним
- •33.2 Технологическая подготовка производства рэа (тпп), ее основные задачи, положения и правила организации
- •33.4 Индукционные преобразователи. Эффект Фарадея
- •34.1 Конструкторская документация. Обозначение изделий и кд. Классификация кд.
- •34.2 Эпитаксиальное наращивание полупроводниковых слоев. Оборудование и оснастка для эпитаксии.
- •34.4 Воздействие влияющих факторов на датчики давления. Особенности эксплуатации и монтажа датчиков давления.
- •35.1 Требования к конструкции рэа по назначению, тактике использования и объекту установки
- •35.2 Фотолитографические процессы в технологии имс
- •5. Проявление
- •35.3 Связь надежности системы с надежностью составляющих ее элементов. Предупреждение надежности рэс. Резервирование.
- •35.4 Конструктивно-технологические варианты изоляции элементов микросхем друг от друга.
- •36.1 Особенности проектирования печатных плат для поверхностного монтажа.
- •36.2 Методы получения пленок в технологии гибридных имс. Термовакуумное испарение. Магнетронное испарение
- •36.3 Методы проектирования рэс. Требования, предъявляемые к процессу проектирования.
- •36.4 Конструктивно-технологические варианты изоляции элементов микросхем друг от друга.
- •37.1 Особенности конструирования лицевых панелей, пультов.
- •37.2 Толстопленочная технология изготовления имс
- •37.3 Система массового обслуживания. Элементы систем. Потоки. Характеристика очередей.
- •37.4 Конструктивно-технологичекие разновидности мдп-транзисторов.
- •38.1 Чертежи печатных плат, функциональных узлов. Спецификация.
- •38.2 Сборочно-монтажные операции при производстве имс. Герметизация имс.
- •38.3 Критерии оценки экономической эффективности кип. Расчетные коэффиценты и соотношения
- •38.4 Интегральные резисторы, интегральные конденсаторы.
- •39.1 Электрическая коммутация в герметичных корпусах. Окошечные, дисковые, глазковые, плоские соединения.
- •39.2 Ионное легирование полупроводников. Принцип действия установки ионного легирования.
- •39.4 Интегральные диоды. Разновидности. Стабилитроны. Диоды Шоттки.
- •40.1 Этапы развития конструкции рэа, их характеристики. Основные задачи современного (пятого) этапа развития конструкции рэа.
- •40.2 Конструкция. Система. Системный подход. Свойства конструкции рэс.
- •40.3 Градиентные методы поиска экстремума целевой функции: общая схема градиентного спуска
- •40.4 Полевые транзисторы с управляющим p-n переходом.
38.2 Сборочно-монтажные операции при производстве имс. Герметизация имс.
Корпус ИМС служит для след целей:
обеспеч эл и мех контакты выводов кристалла с внешними выводами корпуса;
защищает кристалл от воздействия неблагоприятных внешних
эффективно отводит тепло от ИМС.
Сущ след основн виды монтажа кристал в корпус:
присоединение стеклом;
присоединение пластмассой;
низкотемпер пайка с прим мягких припоев
эвтектическая пайка.
Присоединение стеклом обеспеч низкую стоимость; хорошее согласование по ТКЛР с соед-ми материалами; возможность осуществл одновременной герметизации. Недостатками метода явл: отсутствие хорошего теплоотвода; получ недостаточно надежный электрический контакт кристаллов с корпусами. Кроме того, температура размягчения стекла высока (500˚C), что может вызвать перегрев схемы.
В случае присоединения пластмассой темпер отверждения низка, что исключ перегрев, прочность и надежность соед явл высокими. Однако пластмасса имеет низкую теплопроводимость. невозможна замена бракованных кристаллов.
Низкотемпературная пайка имеет ограниченное значение, так как прим-ые припои д. иметь низкую температуру плавления (до 180˚С). Их используют при монтаже кристаллов ИМС, работающих при макс температурах не более 80С. Достоинством низкотемпературной пайки явл легкость демонтажа кристаллов. При сборке кристаллы нагревают трижды: при монтаже кристалла, при присоединении электродных выводов и герметизации
При эвтектической пайке использ эвтектические припои (эвтектика – смесь,) – золото-кремний и золото-германий, имеющие температуры плавления соответственно 370С и 356С.
сборка на гибкой ленте-носителе. В этом методе резко повыш уровень механизации и производ-ть технологич процессов, уменьшаются затраты на материалы. Лентой-носителем служит тонкая пленка (полиамидная или полиэфирная) толщиной 0,05…0,15 мм и шириной 8…70 мм. Наиболее распространены двухслойные или трехслойные ленты-носители, покрытые адгезионным слоем
Присоед
паучковых выводов ленты-носителя к
кристаллам проводится либо термокомпрессией,
либо уЗ сваркой. Лента-носитель с
собранными приборами может быть свернута
в рулон или порезана в виде отрезков
заданной длины. Вначале кристаллы,
размещенные на определенном расстоянии
друг от друга, приклеивают воском к
подложке, которую закрепляют на
ленте-носителе. Каждый кристалл
автоматически поочередно устанавливается
под термод, который опускается до
соприкосновения с паучковыми вводами
(рис. 3). При прохождении импульса тока
происходит нагрев и пайка одновременно
всех выводов с выступами кристалла. Во
время пайки воск под кристаллом плавится,
и лента-носитель вместе с присоедк ней
кристаллом приподним. Далее п/п-ые
приборы можно герметизировать или
непосредственно монтировать в аппаратуру,
вырубая их из носителя и приваривая
внешние выводы к печатным платам.
Присоединение электродных выводов
Прим для создания между контактными площадками кристаллов и корпусами надежного электрического контакта. Сущ 2 основных разновидности: проволочный монтаж, беспроволочный
Проволочный монтаж – это присоед тонких ал и золотых проволочек.Эта операц явл малопроизводит, трудоемкой и низконадежн. К проволочным м-м присоед-я относят: УЗ сварку, термокомпресс сварку, микроконтактную сварку, пайку.
Термокомпресс сварка – это процесс соед 2 мат-ов, находящ в ТВ. состоянии, при воздействии тепла и давления. На поверхности контактной площадки сущ выступы, микровпадины. Поэт матер проволоки д. являться пластичным, чтобы в рез-те пластич деформац произ взаимное затекание соед-х матер.
УЗ сварка – это процесс соед 2 матер, наход в тв сост, при незначит нагреве с приложен опред давления и колебаний уЗ частоты. УЗколебания, воздействуя на соед-е, нагревают его, освобождают от загрязнений и оксидов пов-ти в зоне контакта, ускор пластическую деформац выводов. В рез происход сближение физ чистых пов-ей на расст действия межатомных сил, взаимная диффузия и прочное соед 2 матер-ов. При уЗ сварке не использ припои и флюсы, что явл ее осн дост-ом.
Микроконтактная сварка – это процесс соед деталей из проводящ мат-ов при пропускании через них для разогрева импульса электрического тока и приложении некоторого давления. Одностороннюю сварку проводят:
двумя электродамиБ;
2,расщепленным электродомВ;
3.строенным электродом.
Пайка – это процесс получ неразъемн соед деталей с помощ расплавлен припоя, котор, взаимод с деталями образ после кристаллизац паян шов.
Пайку можно выполнять:
Мягкими припоями на основе олова, свинца и индия в термических печах в атмосфере защитного газа и на воздухе.
Пайка нагревом эл током.
Пайка нагревом паяльником.
4. Пайка газ паяльник в атмосфере защит газа.Проволока для выводов изгот из чистого золота, сплава золото – серебро, ал. Диам от 8–15 мкм до 50–60 мкм.
Герметизац п/П приборов и ИМС
Герметизация необходима для защиты ИМС от механических и климатических воздействий при эксплуатации. Герметичность – это способность замкнутой конструкции не пропускать газ (жидкость). Герметичность хар-ся допустимой утечкой, измеряемой в единицах потока. Осн критерий герметичности корпуса – скорость утечки гелия при разности давлений снаружи и внутри корпуса 105 Па.
Корпус вып след функц в ИМС: мех защиту, теплоотвод, изоляц м/у выво-ми, компактность сборки.
Сущ след виды корпусов: металлический, пластмассовый, керамический, металлокерамический.
Ме корпуса бывают круглые и плоские. Ме корпуса применяют, если нужна высокая надежность ИМС или микросхемы служат для применения в особо жестких условиях. Они герметизируются сваркой либо пайкой. В месте контакта происход сплавление ме, образуется сварной шов.
Сущ две основных разновидности пайки:
1. пайка мест соед ТВ. припоем. При этом м/у крышкой и корпусом помещ прокладку из тв припоя, а затем помещают в печь.
2. пайка стеклянной фриттой (порошок, находящийся во взвешенном состоянии в растворителе и сод связующий элемент–воск).
Часто использ лазерную сварку, обеспечивающую возможность сварки в труднодоступных местах. При этом методе свариваемые поверхности не требуют сжатия, не нужна защитная атмосфера, ширина шва получается очень малой – до 3 мкм.
Осн достоинствами пластмасс корпусов явл малая стоимость и простота технологии, а недостатками худшее кач-во герметизац и теплоотвод, чем у ме корпусов. Герметизац осущ либо формовкой зашивкой, либо трансферная прессовка.
При трансферной прессовке ИМС помещ в закрытую форму, вносят в форму термореактив смолу в виде порошка, смолу нагревают под давлением и доводят до жидкого сост. Форму выдерживают при повыш температурах и давлении, в рез чего смола полимеризуется. Затем форму открывают и извлекают ИМС.
Пластмассовые корпуса изгот из термореактив смол.Эпоксидные смолы имеют хорошие изоляц св-ва и обеспечивают высокая прочность. Кремний органические дают высокую теплостойкость и хорошие эл св-ва. Фенольные смолы имеют низкую стоимость, но могут вызвать коррозию.
Керамические и мекерамич корпуса находят широкое прим, если материал корпуса имеет хорошее согласование по ТКЛР с материалом кристалла ИМС. Стекло используется в виде тонкого слоя, сплавленного с высокоглиноземистый керамикой, либо является составной частью керамики. В этом случае выводы фиксируются в процессе отжига. Планарные МОП–транзисторы, практически всегда герметизируют стеклом.