
- •1. Элементы зонной теории. Металлы, диэлектрики, полупроводники. Ковалентная связь между атомами полупроводниковых материалов.
- •2. Образование свободных носителей заряда в беспримесных полупроводниках.
- •3. Образование свободных носителей заряда в примесных полупроводниках.
- •4. Вырожденные и невырожденные полупроводники. Компенсированные полупроводники. Предельная растворимость примеси.
- •5. Законы распределения носителей в зонах полупроводника.
- •6. Концентрация носителей в полупроводнике. Концентрация носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике.
- •7. Концентрация носителей и положение уровня Ферми в примесных полупроводниках.
- •8. Связь между концентрациями основных и неосновных носителей. Закон действующих масс.
- •9. Зависимость положения уровня Ферми от температуры.
- •10. Зависимость концентрации носителей заряда в полупроводниках от температуры.
- •11. Электронные процессы в полупроводниках. Дрейф и диффузия носителей заряда в полупроводниках.
- •12. Факторы, определяющие подвижность носителей.
- •13. Температурная зависимость удельной проводимости полупроводников.
- •14. Однородные и неоднородные полупроводники. Встроенное электрическое поле.
- •15. Неравновесные носители заряда в полупроводниках.
- •16. Генерация и рекомбинация носителей.
- •17. Время жизни неравновесных носителей.
- •18. Уравнение непрерывности. Время диэлектрической релаксации.
- •19. Электронно-дырочный переход. Равновесное состояние p-n перехода.
- •20. Напряженность электрического поля и распределение потенциалов в резком p-n переходе.
17. Время жизни неравновесных носителей.
Для большинства полупроводников, в том числе Ge, Si справедлив ловушечный механизм рекомбинации. В предположении, что уровням ловушек соответствует один энергетический уровень и в общем случае время жизни носителей описывается формулой Шокли-Рида (без вывода):
,
где
,
- концентрация равновесных носителей,
- концентрация неравновесных носителей,
,
- концентрация равновесных носителей
в таком полупроводнике, в котором уровень
Ферми совпадает с уровнями ловушек
(порядок концентрации как концентрация
носителей в собственном полупроводнике).
,
,
где
- концентрация
ловушек,
,
- коэффициент захвата ловушками
соответственно электронов и дырок –
коэффициенты рекомбинации.
На
практике часто встречается режим малых
возмущений или то же самое – режим
малого уровня инжекции. В этом случае
,
,
тогда
- время жизни не зависит от концентрации
неравновесных носителей.
В высоколегированном донорном полупроводнике:
,
тогда
.
В высоколегированном акцепторном полупроводнике:
,
тогда
То есть в высоколегированном полупроводнике время жизни неравновесных носителей определяется временем жизни неосновных носителей. Это связано с тем, что, например, в высоколегированном донорном полупроводнике уровень Ферми лежит выше уровня ловушек и поэтому почти все уровни ловушек заполнены. Тогда процессом, ограничивающим рекомбинацию, является лишь процесс захвата дырок заполненными ловушками.
Р
ис.
Зонная диаграмма высоколегированного
донорного полупроводника и заполнение
ловушек электронами. Аналогичная картина
и в акцепторном полупроводнике, то есть
в высоколегированном полупроводнике
скорость рекомбинации неравновесных
носителей определяется скоростью
рекомбинации неосновных носителей, и
время жизни неосновных носителей
достаточно мало.
Р
ис.
Зонная диаграмма и время жизни носителей
Как известно, уровень Ферми в зависимости от степени легирования и типа проводимости может изменять своё положение от дна зоны проводимости до потолка валентной зоны.
В
крайних положениях, то есть при высокой
степени легирования,
будет определятся временем жизни
неосновных носителей и в достаточно
широком диапазоне концентраций не
зависит от концентрации носителей. При
достаточно заметном уменьшении степени
легирования уровень Ферми приближается
к уровню ловушек и степень их заполнения
уменьшается. Время жизни начинает
зависеть не только от интенсивности
захвата отрицательными ловушками дырок,
но и от интенсивности заполнения ловушек
электронами. Поэтому
начинает возрастать и максимальное
значение получается для собственного
полупроводника:
.
Аналогично
и для акцепторного полупроводника с
уменьшением степени легирования
начинает зависеть не только от скорости
заполнения ловушек электронами, но и
от скорости освобождения, то есть
.
Очевидно,
что абсолютная величина
зависит
от концентрации ловушек
.
В зависимости от
:
с.
На практике концентрация
зависит от степени очистки полупроводника
и правильности кристаллической решётки,
которые определяются условиями их
выращивания.
Для изготовления многих полупроводниковых приборов, быстродействующих, необходимы полупроводники с малыми контролируемым временем жизни носителей . Для уменьшения полупроводники обычно легируют золотом. Золото создаёт в запрещённой зоне, например Si, два уровня ловушек, которые являются хорошими рекомбинационными центрами. Поэтому даже малые концентрации золота могут уменьшить на несколько порядков.
Р
ис.
Зонная диаграмма полупроводника при
легировании золотом
При
высоком уровне инжекции
,
,
тогда
.
То есть не зависит от концентрации
носителей, а определяется только
концентрацией ловушек и их свойствами.
Это связано с тем, что при высокой
концентрации неравновесных электронов
и таком же количестве неравновесных
дырок
уровни ловушек будут освобождаться и
заполняться с максимальной скоростью,
которая будет определяться концентрацией
и свойствами ловушек. В области
естественных температур с ростом
температуры
растёт,
так как увеличивается тепловая скорость
носителей, что затрудняет их захват
ловушками.