10. Виды баз по лишению степеней свободы: установочная, направляющая, опорная

Опорная база — база, лишающая заготовку или изделие одной степени свободы (перемещения вдоль одной координатной оси или поворота вокруг оси).Шаровая поверхность, покоящаяся на плоскости, лишает деталь (шар) только одной степени свободы — перемещения вниз по вертикали.

Н аправляющая база — база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы — перемещения вдоль одной координатной оси и поворота вокруг другой.

Цилиндр на опорной плоскости теоретически касается ее двумя точками, которые отнимают у цилиндрической поверхности изделия две степени свободы — перемещение вдоль оси OZ и поворот вокруг оси OY (см. рис. 2.5).Если цилиндр, лежащий на плоскости XOY, подвинуть до соприкосновения его торцовой поверхности (2) с вертикальной плоскостью ZOY, то изделие лишится еще одной степени свободы — перемещения вдоль координатной оси OX. Поверхность (2) — опорная конструкторская или технологическая база.

Установочная база — база, лишающая заготовку или изделие трех степеней свободы (перемещения вдоль одной координатной оси и поворотов вокруг двух других осей). Примером установочной базы могут служить поверхности (1) (см. рис. 2.6 и 2.7). При базировании призматической детали на плоскости YOX ее основание, касаясь плоскости тремя теоретическими точками, лишает деталь трех степеней свободы.

Из трех возможных перемещений ограничение наложено на смещение вдоль оси OZ (см. рис. 2.6). Все опорные точки на теоретической схеме базирования пронумерованы по порядку, начиная с установочной базы, содержащей наибольшее количество опорных точек: установочная — первая, вторая и третья, направляющая — четвертая и пятая, опорная — шестая.

11. Виды баз по лишению степеней свободы: двойная направляющая, двойная опорная

Д войная опорная база — база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы — перемещений вдоль двух координатных осей.

Б азирование заготовок типа "диск" в токарном патроне (см. рис. 2.7) чаще всего выполняется с упором торцовой поверхностью (1) в кулачки или основание патрона. Торец детали (установочная база) лишила заготовку одного перемещения и двух вращений. Поворот заготовки вокруг оси OX при базировании не ограничивается служебным назначением изделия и снимается с теоретической схемы базирования. Из шести степеней свободы на долю наружной цилиндрической поверхности осталось только две: перемещения вдоль осей OZ и OY. Это и есть двойная опорная технологическая база. И двойная опорная, и направляющая базы отнимают у заготовки две степени свободы, но двойная опорная отнимает два перемещения, а направляющая — одно перемещение и одно вращение.

Классический пример тройной опорной базы. Подобная база возникает при установке заготовки центровой фаской на упорный центр технологической оснастки оборудования. Поверхность касания фаски (2) с упорным центром (см. рис. 2.10) лишила заготовку всех свобод перемещения по осям OX, OY и OZ. Если следовать определениям ГОСТа, одна поверхность одновременно является двойной опорной технологической базой с опорными точками «<>1», «/\2» и опорной — с точкой «3>» (тройная опорная технологическая база). При установке заготовки непосредственно в центрах, когда необходимо точно выдерживать осевые размеры, применяют плавающий передний центр. Касание заготовки поверхностью (1) с торцовым упором отнимает у нее одну степень свободы (перемещения вдоль оси OX). Комплект баз в этом случае содержит: двойную опорную технологическую базу поверхность (2), отнимающую у заготовки две свободы перемещения вдоль координатных осей OY и OZ; двойную опорную технологическую базу — поверхность (4), отнимающую два вращения вокруг тех же осей; опорную базу — поверхность (1), лишающую заготовку перемещения вдоль оси OX.

Д войная направляющая база — база, лишающая заготовку или изделие четырех степеней свободы: перемещений вдоль двух координатных осей и поворотов вокруг них.

На рис. 2.5 изображен цилиндр, лежащий на плоскости YOX. Его цилиндрическая поверхность (1) касается плоскости двумя точками и лишается двух степеней свободы: одного перемещения вдоль оси OZ и вращения вокруг оси OY. Поверхность (1) — направляющая база. В комплекте базирования участвует торцовая поверхность (2) — опорная база. Она касается вертикальной плоскости YOZ и лишает цилиндр одной степени свободы: перемещения вдоль оси OX. Поверхность (2) — опорная база. Если цилиндр переместить по YOX до соприкосновения с вертикальной плоскостью ZOX, на цилиндрической поверхности появятся еще две опорные точки, которые отнимут у изделия свободу перемещения вдоль оси OY и свободу вращения вокруг оси OZ. На одной цилиндрической поверхности одновременно проявились две направляющие базы. Поверхность стала двойной направляющей базой, лишающей изделие

четырех степеней свободы: перемещений вдоль двух координатных осей (OY, OZ) и

поворотов вокруг них.