
- •Домашнее задание 2006/07уч. Год (ф5-03а) Вариант №1
- •Вариант №2
- •Вариант №3
- •Вариант №4
- •Вариант №5
- •Вариант №6
- •Вариант №7
- •Вариант №8
- •Вариант №9
- •Вариант №10
- •Вариант №11
- •Вариант №12
- •Вариант №13
- •Вариант №14
- •Вариант №15
- •Вариант №16
- •Вариант №17
- •Вариант №18
- •Вариант №19
- •Вариант №20
- •Вариант №21
- •Вариант №22
Вариант №18
1. Покажите, что концентрация электронов в полупроводнике р-типа связана с концентрациями примесей Nа и собственных носителей ni соотношением:
.
2. Найдите аналитическую зависимость напряженности электрического поля в симметричном p-n переходе с линейным распределением примеси Nd - Na = ax от координаты. Считать, что напряженность поля на границах p-n перехода при x1 = Wpn/2 и x2 = Wpn/2 равна нулю. Постройте график полученной зависимости.
3. Изобразите входные и выходные статические вольтамперные характеристики биполярного транзистора, включенного по схеме с общим эмиттером. Укажите на них области, соответствующие работе транзистора в активном режиме и режимах насыщения и отсечки. Объясните влияние эффекта Эрли на вольтамперные характеристики.
Вариант №19
1. Покажите, что концентрация электронов в полупроводнике n-типа связана с концентрацией доноров Nd соотношением:
,
где ni - концентрация носителей в собственном полупроводнике.
2. В симметричном p-n переходе с линейным распределением примеси Nd - Na = ax (a - градиент концентрации) зависимость напряженности электрического поля от координаты определяется соотношением:
,
где Wpn - ширина p-n перехода, q - заряд электрона, ,0 - относительная и абсолютная диэлектрические проницаемости.
Покажите, что ширина симметричного p-n перехода Wpn определяется выражением:
и барьерная емкость диода равна:
,
где 0 - контактная разность потенциалов.
3. Изобразите зависимость коэффициента передачи тока в схеме с общим эмиттером от входного тока базы. Объясните различие входных и выходных вольтамперных характеристик транзистора для схем с общей базой и общим эмиттером.
Вариант №20
1 Пусть в ограниченном объеме полупроводника n-типа возникла избыточная концентрация электронов и дырок, вследствие чего образовался объемный заряд с плотностью 0. Сколько времени необходимо (это время называется временем релаксации), чтобы избыточный заряд в полупроводнике с удельной проводимостью n уменьшился в е раз? Влиянием процессов диффузии и рекомбинации на уменьшение избыточного заряда пренебречь. Объясните физический механизм уменьшения концентрации неравновесных носителей.
2. При прямом смещении p-n перехода кроме барьерной емкости существует так называемая диффузионная емкость. Диффузионная емкость обусловлена введением неосновных носителей в области p и n при протекании прямого тока. При изменении напряжения на p-n переходе изменяются токи и заряды в p и n областях. Таким образом, имеет место емкость, обусловленная инжекцией и диффузией неосновных носителей. Диффузионная емкость может быть определена из уравнения: Cдиф = d(Qp + Qn)/dUpn,
где Qp - заряд дырок, инжектированных в область n, Qn - заряд электронов, инжектированных в область p. Исходя из определения диффузионной емкости, покажите, что диффузионная емкость резкого p-n перехода с длинной базой может быть записана в виде Cдиф = Ip/T.
3. Изобразите характеристики передачи тока и обратной связи по напряжению для транзистора, включенного по схемам с общей базой и общим эмиттером. Объясните указанные характеристики.