
- •Вопрос 1.Электроника, ее основные области исследования; вакуумная, твердотельная, квантовая электроника, особенности физических процессов.
- •I.Вакуумная электроника:
- •II.Твердотельная электроника:
- •III.Квантовая электроника:
- •2. Структура кристаллов. Типы кристаллических решеток.
- •Вопрос 3 Собственные полупроводники
- •Вопрос 4. Энергетические уровни и зоны твердого тела. Соотношение неопределенностей Гейзенберга. Разрешенные и запрещенные зоны. Потенциальная кинетическая энергия электронов.
- •Вопрос 5. Квазиимпульс и эффективные массы носителей заряда. Междолинный переход носителей заряда, зависимость энергии электрона от импульса.
- •Вопрос 6 .Концентрация электронов и дырок в примесном полупроводнике
- •Вопрос7 Зонная диаграмма неоднородного п/п.
- •Вопрос 8.Механизмы рекомбинации.
- •Вопрос 9.Законы распределения равновесных носителей заряда в энергетических зонах. Распределение Ферми-Дирака.
- •Вопрос 11. Дрейфовое движение носителей заряда.
- •Вопрос 12. Диффузионное движение носителей заряда
- •Вопрос 15. Виды электронно-дырочных переходов.
- •Вопрос 16.Анализ равновесного p-n перехода. Высота потенц. Барьера, зав-ть от температуры и концентрации.
- •Вопрос 17.Анализ электронно-дырочного перехода в неравновесном состоянии
- •Вопрос 18. Математическая модель идеализированного p-n перехода.
- •Вопрос 19.
- •Вопрос 20 вах реального электронно-дырочного перехода
- •Вопрос 21. Обратная ветвь вах реального перехода
- •Вопрос 22
- •Вопрос 29
- •Вопрос 30
- •Вопрос 31 Фотопроводимость.
- •33. Термоэлектрический эффект Зеебека. Причины возникновения термо-эдс.
- •34. Термоэлектрический эффект Пельтье.
- •35.Гальваномагнитные явления
- •Вопрос 36
- •Вопрос 37. Особенности квантово-размерных структур. Квантовые переходы.
- •Вопрос 38.
- •Вопрос 39. Принципы усиления электромагнитного поля в квантовых системах
- •Вопрос 40 Физические основы эмиссионной электроники.
- •Вопрос 41
- •Вопрос 42
- •Вопрос 43 Автоэлектронная эмиссия
- •Вопрос 44. Электрический разряд в газе. Упругие и не упругие взаимодействия.
- •Вопрос 45. Стационарный газовый разряд: тихий тлеющий, дуговой. Нестационарные газовые разряды.
- •Вопрос 46. Понятие о плазме, основные свойства плазмы . Степень ионизации и квазенейтральности в плазме,дебаевский радиус экранизирования
- •Вопрос 47.Температура плазмы. Изотермическая и неизотермическая плазма. Колебание в плазме.
Вопрос 17.Анализ электронно-дырочного перехода в неравновесном состоянии
Неравновесное состояние р-n-перехода наступает при подаче внешнего напряжения U и характеризуется протеканием тока через переход. Сопротивление обедненного слоя значительно выше сопротивления нейтральных областей, поэтому внешнее напряжение U практически оказывается приложенным к самому обедненному слою и влияет на величину потенциального барьера. напряжение на р-n-переходе наз прямым, если оно понижает барьер. Это когда плюс источника питания присоединен к р-области, а минус – к n-области. Потенциальный барьер при прямом напряжении
Внешнее поле
складывается с внутренним полем и
потенциальный барьер увел., если плюс
источника присоединяется к n-области.
Такое напряжение называется обратным
и считается отрицательным.
Вместе с высотой изменяется и ширина потенциального барьера:
При прямом напряжении переход сужается, а при обратном расширяется.Вывод: при прямом смещении напряженность поля уменьшается, след.,нарушается равновесие между диффузионными и дрейфовыми потокам, а именно диффузия начинает преобладать над дрейфом.Вследствие диффузии увел. концентрация неоснов. носителей заряда в нейтральных областях, граничащих с переходом, этот процесс наз. инжекцией носителей заряда.
Опред. концентрацию избыточных граничащих носит. заряда ∆np и ∆pn:
∆φ0=φтln(nn0/np0), заменим np формулой: np=np0+∆np ∆φ=∆φ0-u, получим
∆φ0-u=∆φтln(nn0/np0+∆np)= φт(ln(nn0/np0)-ln(1+∆np/np0)), тогда будем иметь:
∆np= np0(eu/φт-1) ∆pn =pn0 (eu/φт-1 )
При прямом напряжении увеличивается концентрация избыточных неосновных носителей заряда.Инжектирующий слой(с меньшим удельным сопротивлением) наз эмиттером, а слой с большим удельным сопротивлением , который не инжектируется базой.Подадим на п-н переход обратное напряжение(высота барьера увел, толщина увел.)Уменьшается концентрация неосновных носителей заряда у границ перехода наз. экстракцией
Коэф. инжекции равен: γ=Ip/(Ip+In)=Ip/I γ→1 Коэф. инжекции –отношение тока носителей заряда в инжектируемых базах к полному току для несимметричного перехода.Уровень инжекции:δ=∆pn/nn0≈∆pn/Nd Отношение концентрации инжектируемых в базе неосн. носит. заряда в базу концентрации неосновных носителей в базе в равновесном состоянии. δ<<1-низкий уровень , δ>>1- высокий уровень.
Энергетические диаграммы р-n-перехода для прямого и обратного напряжений.Уровни Ферми в р- и n-областях располагаются на разной высоте, так что интервал между ними равен q|U|, т.е. пропорционален приложенному напряжению.
Вопрос 18. Математическая модель идеализированного p-n перехода.
1.Ширина перехода настолько мала, что в обедненном слое отсутствуют процессы генерации, рекомбинации и рассеяния, и токи на границах перехода равны.
2.Вне обедненного слоя нет электрического поля и здесь носители движутся только в следствии диффузии.
3.Концентрация дырок инжектированных в базу невелика – низкий уровень инжекции.
4.Сопротивление нейтральных областей << сопротивления перехода.
5.Внешнее напряжение не превышает напряжение пробоя.
6.Толщины нейтральных областей намного на много больше диффузионной длины W>>Lдиф.
Прямое напряжение
Определим ∆np(x) и ∆pn(x)
В глубине нейтр.слоев избыт.концентр. стремятся к нулю вследствие рекомбинации.
pn → ∆pn т.к. pn0 = const
∆pn=pn-pn0
С учетом W>>L
Для транзистора W<L
Плотность диффузионного тока:
;
.
.