
Министерство образования РФ
МИИГАиК
Кафедра ОЭП
Отчет
по дисциплине «Лазеры»
на тему «Полупроводниковые лазеры»
Выполнил: студент
МСИС IV-1б
Шестаков Н. А.
Проверил: доцент, к.т.н.
Фотиев Ю. А.
Москва, 2011
Классификация лазерных источников излучения
Принципиальная схема лазера
Полупроводниковые лазеры – это лазеры в которых в качестве активной среды используются полупроводниковые кристаллы.
Общие сведения:
60% лазеров на мировом рынке – это полупроводниковые лазеры;
Полупроводниковые лазеры используются для волоконно-оптических линий связи; лазеры для телевизоров;
Основные преимущества и недостатки:
Преимущества:
Миниатюрность (малогабаритность);
Малая потребляемая мощность;
Малый вес;
Недостатки:
Работа в инфракрасной области спектра;
Усложнение юстировки;
Усложнение процесса наведения и контроля работы;
Большая расходимость (до 60˚);
Большая зависимость от температуры для длины волны и мощности излучения;
Ведется работа по созданию новых полупроводниковых лазеров.
2001 г. Жорес Иванович Алферов – нобелевская премия по физике за создание полупроводниковых лазеров на гетероструктурах.
Для уменьшения расходимости используют аноморфотную оптику.
Аноморфотная оптика – видоизменяющая оптика.
Пример: Использование цилиндрической линзы с коротким фокусным расстоянием для уменьшения угла расходимости. (Большая расходимость (до60˚) за счет дифракции лазерного пучка на малом размере p-n перехода.)
Зависимость от температуры для длины волны и мощности излучения:
Температура увеличивается => Увеличивается ширина валентной зоны => Изменяется длина волны и мощность излучения.
Поэтому необходимо использовать системы охлаждения, которые носят весьма разнообразный характер, а конкретный выбор в первую очередь определяется необходимой холодопроизводительностью. Чаще всего применяют следующие охлаждающие устройства:
Сосуд Дьюара с жидким азотом (Т = 77К) или гелием (Т = 4.2К);
Теплообменники с эффектом Джоуля-Томпсона понижения температуры газа при его резком расширении (ро до 3*107Па, Т = 78 ÷ 80К);
Термоэлектрическое охлаждение с использованием мощных термопар, соединенных в каскады (Т = 170 ÷ 200К);
Микрокриогенная техника.
На сегодня созданы: красные полупроводниковые лазеры (0.78 мкм)
зеленые полупроводниковые лазеры (0.55 мкм)
синие полупроводниковые лазеры (0.44 – 0.5 мкм)
Активная среда
В полупроводниковых лазерах в качестве активной среды используют полупроводниковые кристаллы. По своему внутреннему строению полупроводниковые активные среды относятся к твердотельным лазерам, однако излучательные квантовые переходы в них происходят между энергетическими зонами. В полупроводниковых лазерах активными являются атомы, составляющие кристаллическую решетку, поэтому плотность активных частиц в полупроводниковых лазерных элементах на два и более порядков выше, чем твердотельных лазеров, а, следовательно, они имеют больший коэффициент усиления среды на единицу длины. Это дает возможность генерации при длине активного элемента от 0.1 до 1 мм.
Активный элемент полупроводниковых лазерах представляет собой кристалл, обладающий полупроводниковыми свойствами (Например: Арсенид Галлия, Фосфид Тулия, Сурьмянистый Индий и др.) и способны обеспечить инверсные состояния при соответствующем возбуждении. Обычная форма кристалла – параллелепипед с размером сторон в несколько мм. Две противоположные грани получаются либо полирование, либо скалыванием перпендикулярно оси кристалла и образуют резонатор полупроводникового лазера.
В силу плоской конфигурации резонатора требования к полировке и взаимной параллельности двух выходных граней очень высоки. Другие грани шероховаты или делаются под некоторым углом друг к другу, чтобы исключить возможность паразитной генерации.
Свойства излучения полупроводниковых лазеров определяются, в основном, активной средой, т.е. полупроводником. Высокая плотность активных частиц нарушает когерентность и монохроматичность излучения и, следовательно, по этим параметрам полупроводниковые лазеры имеют худшие из всех лазеров показатели в сравнении с газовыми и твердотельными. Кроме того степень монохроматичности в лазере определяется тем, что лазерный переход возникает между широкими энергетическими зонами, ширина которых существенно зависит от концентрации примесей и температуры. Эти изменения могут проходить в процессе генерации излучения, когда температура кристалла может достигать значения сотен и даже тысяч Кельвин.
Характерный вид активного элемента инжекционного полупроводникового лазера.
Излучающей областью полупроводникового лазера – является p-n переход – весьма узкий участок кристалла. Расходимость лазерного пучка определяется дифракцией и у полупроводниковых лазеров диаграмма направленности носит сложный характер.
Расходимость по двум взаимно перпендикулярным осям обратно пропорциональна толщине и ширине p-n перехода.
У
полупроводникового лазера не симметричный
пучок – эллипс.