- •Электроника
 - •Примесная электропроводность полупроводников
 - •Область объёмных зарядов на границе раздела полупроводников разного типа проводимости, обеднённая основными носителями заряда, называется p-n переходом.
 - •Такое состояние p-n перехода называется равновесным.
 - •Прямое смещение p-n перехода.
 - •Вольтамперная характеристика идеального p-n перехода.
 - •Вольтмперная характеристика реального p-n перехода.
 - •Характеристические сопротивления p-n перехода.
 - •Емкостные свойства p-n перехода.
 - •Пробой p-n перехода. Виды пробоя переходов.
 - •Высокочастотные диоды
 - •Опорные диоды или кремниевые стабилитроны
 - •Параметры стабилитронов
 - •Варикапы
 - •Диод с накоплением заряда
 - •Туннельный диод
 - •Параметры туннельных диодов
 - •Распределение токов в транзисторе
 
Электроника
(Конспект курса лекций)
№№ п.п. 
  | 
		Наименование темы (раздела)  | 
		Часов по разделам  | 
	||
Лекции  | 
		Лаборат. работы  | 
		Самост. работа  | 
	||
1.  | 
		Введение.  | 
		0,25  | 
		
  | 
		
  | 
	
2.  | 
		Физические основы полупроводниковой электроники.  | 
		3  | 
		
  | 
		
  | 
	
3.  | 
		Контактные явления в полупроводниках.  | 
		5  | 
		
  | 
		
  | 
	
4.  | 
		Полупроводниковые диоды.  | 
		4  | 
		4  | 
		
  | 
	
5.  | 
		Биполярные транзисторы.  | 
		10  | 
		12  | 
		
  | 
	
6.  | 
		Полевые транзисторы.  | 
		4  | 
		12  | 
		
  | 
	
7.  | 
		Полупроводниковые приборы с отрицательным дифференциальным сопротивлением.  | 
		4  | 
		
  | 
		
  | 
	
8.  | 
		Полупроводниковые фотоэлектрические и излучающие приборы.  | 
		2  | 
		
  | 
		
  | 
	
9.  | 
		Электронные индикаторные приборы.  | 
		1  | 
		
  | 
		
  | 
	
10.  | 
		Оптоэлектронные приборы.  | 
		2  | 
		4  | 
		
  | 
	
11.  | 
		Долговечность надёжность и экономичность полупроводниковых приборов.  | 
		0,5  | 
		
  | 
		
  | 
	
12.  | 
		Шумы электронных приборов.  | 
		2  | 
		
  | 
		
  | 
	
13.  | 
		Микроэлектроника. История, состояние, тенденции.  | 
		2  | 
		
  | 
		
  | 
	
14.  | 
		Технологические основы микроэлектроники.  | 
		4  | 
		
  | 
		
  | 
	
15.  | 
		Элементы интегральных микросхем.  | 
		6  | 
		
  | 
		
  | 
	
16.  | 
		Приборы с зарядовой связью.  | 
		2  | 
		4  | 
		
  | 
	
17.  | 
		Введение в функциональную электронику.  | 
		2  | 
		
  | 
		
  | 
	
18.  | 
		Заключение  | 
		0,25  | 
		
  | 
		
  | 
	
Всего часов:  | 
		54  | 
		36  | 
		80  | 
	|
Литература
№№  | 
			Авторы  | 
			Наименование  | 
			Год  | 
			Кол  | 
		
Основная  | 
		||||
1.  | 
			Пасынков В.В. Чиркин Л.К.  | 
			Полупроводниковые приборы  | 
			1987  | 
			
  | 
		
2.  | 
			Тугов Н.М. и др.  | 
			Полупроводниковые приборы  | 
			1990  | 
			
  | 
		
3.  | 
			Степаненко И.П.  | 
			Основы теории транзисторов и транзисторных схем  | 
			1987  | 
			
  | 
		
4.  | 
			Свешников С. В.  | 
			Элементы оптоэлектроники  | 
			1971  | 
			
  | 
		
5.  | 
			Степаненко И.П.  | 
			Основы микроэлектроники  | 
			1980  | 
			
  | 
		
Дополнительная  | 
		||||
6.  | 
			Жеребцов И.П.  | 
			Основы электроники  | 
			1990  | 
			
  | 
		
7.  | 
			Шалимова К.В.  | 
			Физика полупроводников  | 
			1985  | 
			
  | 
		
8.  | 
			Ефимов И.Е.  | 
			Микроэлектроника  | 
			1986  | 
			
  | 
		
9.  | 
			Батушев В.А.  | 
			Электоронные приборы  | 
			1980  | 
			
  | 
		
10.  | 
			Дудин В.Н.  | 
			Электронные приборы  | 
			1977  | 
			
  | 
		
11.  | 
			Головатенко-Абрамова М.П. Лапидес А.М.  | 
			Задачи по электронике  | 
			1992  | 
			
  | 
		
ВВЕДЕНИЕ
Процесс совершенствования радиоэлектронной аппаратуры неразрывно связан с развитием
и совершенствованием её элементной базы. За каждое десятилетие число элементов в аппаратуре
увеличивается в 5-20 раз, что связано с усложнением требований и задач решаемых современными
радиосистемами.
i = qni(n + p) чтобы определить проводимость собственного полупроводника надо знать лишь концентрацию носителей заряда ni, заряд электрона q = 16*10-20 Кулон, а подвижности носителей заряда n и p определяются материалом полупроводника. Из за того, что при температуре отличной от нуля, по Кельвину узлы кристаллической решётки испытывают хаотические колебания, говорить о том, что валентный электрон, имеющий в данный момент времени некоторую энергию получит её приращение имеющее заранее известное (детерминированное) значение, не имеет смысла. Поэтому
судить о том, сколько электронов, при данной температуре полупроводника, будет в состоянии покинуть валентную зону и оказаться в зоне проводимости, можно лишь вероятностно.
Вероятность заполнения электроном энергетического уровня с энергией W, при заданной температуре T, количественно выражается функцией распределения Ферми-Дирака:
Fn(W) = 1/(1 + exp((W - WF) / kT ))
где k – постоянная Больцмана, T – абсолютная температура. WF – носит название уровня Ферми.
Очевидно, что могут иметь место лишь два события – либо данный энергетический уровень занят электроном, либо не занят ( т.е. он занят дыркой). Эти два события составляют полную группу, следовательно если обозначить через Fp(W) вероятность нахождения дырки на энергетическом уровне W, то можем записать Fn(W) + Fp(W) = 1. Т.е. Fp(W) = 1 - Fn(W), или
Fp(W) = 1/(1 + exp((WF - W) / kT )).
В
еличина
WF,
входящая в выражение, называется энергией
или уровнем Ферми, который может быть
определён как энергетический уровень
равновероятный как для электрона, так
и для дырки.
При T=0 функция Ферми превращается в ступенчатую.
ПОЯСНИТЬ ХОД КРИВЫХ!!!
Для собственного полупроводника уровень Ферми лежит в середине запрещённой зоны, т.к. функция вероятности симметрична относительно него при любой фиксированной температуре.
Заметим, что функция Ферми имеет
смысл только в валентной и запрещённой зонах, т.к. в запрещённой зоне носители заряда находиться не могут. Воспользуемся статистикой Ферми-Дирака для определения концентрации электронов и дырок в собственном полупроводнике. Учтём, что энергетические уровни зоны проводимости, а также и валентной зоны распределены неравномерно, т.е. их плотность зависит от энергии.
Число энергетических уровней в зоне проводимости, попадающих в единичный, бесконечно малый энергетический интервал dW, обозначим через функцией P(W), которая будет характеризовать плотность энергетических уровней. Тогда количество электронов, занимающих разрешённые энергетические уровни в некоторой полосе dW определяется числом уровней dW·P(W) в этой элементарной полосе и вероятностью их заполнения Fn(W). Т.е. dni = P(W)·Fn(W)·dW.
Полное число электронов, приходящихся на 1 см3 вещества и занимающих энергетические уровни в полосе энергий от W1 до W2 будет равно:
А
налогичным
образом для концентрации дырок  валентной
зоны получим: 
В обоих случаях интегрирование ведётся по всей ширине зоны проводимости (сonductivity) или валентной (valency) зоны. В результате интегрирования можно придти к следующим выражениям:
где:
Nc-эффективная плотность состояний (на 1см3) в зоне проводимости и валентной зоне
соответственно.
h = 4,14·10-15 эв·сек – постоянная Планка. mn и mp – эффективная масса электрона и дырки соответственно. * Эффективная масса электрона определяется из уравнения F = mn ·dV/dt, где
F – сила, действующая на электрон, а V – скорость электрона.
	
В
большинстве практических случаев можно
считать, что mn
= mp
= m – массе
электрона в состоянии покоя. Тогда: 
П
оложив
далее, что ΔWз
= Wc
-Wv
 и учитывая, что ni
= pi
, выражения для концентрации электронов
и дырок можно привести к виду:
При этих условиях уровень Ферми лежит точно посередине запрещённой зоны, т.е. WFi = (Wс-Wv) / 2.
Подставляя найденное значение концентрации ni в выражение для проводимости собственного полупроводника придем к след. зависимости:
К
ак
правило ΔWз
>> k·T,
подвижности зарядов μn
и μp
мало зависят от температуры, а экспонента растёт гораздо быстрее, чем T3/2 . Поэтому с достаточной для
п
рактики
точностью можно считать, что:
где:
Из последних выражений и рисунка видно, что зависимость удельной проводимости собственного полупроводника от температуры носит сугубо нелинейный характер и близка к экспоненциальной.
