
- •Лекция 12
- •Влияние отрицательносмещенной полупроводниковой подложки
- •1− Селективная ионная имплантация в легированную хромом подложку (или травление меза-областей); 2 − протонная бомбардировка n-слоя на легированной хромом
- •Элементы конструкции полупроводниковых схем
- •1) 12 Элементов; 2) элементов l1, l5, l6, с2; 3) элементов l5, l6
- •Контроль параметров микросхем
1) 12 Элементов; 2) элементов l1, l5, l6, с2; 3) элементов l5, l6
При настройке многокаскадных усилителей используют излучения света мощными ПТШ, усиливающими СВЧ сигнал. Экспериментально установлено, что интенсивность излучения коррелируется с уровнем входного СВЧ сигнала и с насыщением выходной мощности. Этот эффект оказывается полезным при определении качества межкаскадного согласования и однородности распределения усиливаемого сигнала по площади (длине затворных секций) мощного транзистора. Проводя анализ результатов излучения, следует учитывать, что ПТШ, имеющие разные напряжения пробоя между затвором и стоком, различаются интенсивностью излучения при одинаковых напряжениях смещения и уровнях СВЧ мощности. Для повышения достоверности результатов находят порог возникновения излучения в дискретных транзисторах со структурой, аналогичной используемой в усилителе, и изготовленных на той же пластине полупроводника.
Контроль параметров микросхем
При массовом производстве полупроводниковых микросхем СВЧ диапазона необходимо проверять их параметры. Для снижения стоимости разбраковку кристаллов, в которых изготовлена микросхема, целесообразно выполнять перед их установкой в корпусы, т. е. прямо на пластине до нарезки. Наиболее простым способом проверки является контроль параметров по постоянному току (например, снятие статических характеристик) или по переменному току на относительно низких частотах (единицы мегагерц). Этот способ имеет два существенных недостатка: микросхемы СВЧ диапазона частот не усиливают (или не преобразуют) постоянные или низкочастотные сигналы из-за наличия разделительных и блокировочных конденсаторов, а также индуктивностей, рассчитанных на более высокие частоты; работоспособность микросхемы при контрольных сигналах еще не является гарантией функционирования в требуемом диапазоне частот и амплитуд, т. е. в реальных условиях.
Для подачи и вывода СВЧ сигнала с контактных площадок микросхемы необходимы зонды, которые не должны вносить искажений и обеспечивать хороший контакт в широком диапазоне частот. Изготовление таких зондов, имеющих очень малые размеры, сопряжено с определенными трудностями. Это ограничивает развитие методов контроля параметров микросхем на СВЧ.
До частоты 4 ГГц возможно применение зондов, представляющих собой систему микрополосковых линий (рис.13), расположенных на сапфировой подложке. Контакт с контролируемой пластиной осуществляется с помощью наконечников зондов из полосок Ве-Сu через отверстие в сапфировой подложке. При контроле движется пластина, а подложка с зондами остается неподвижной. В тех местах, где необходимо заземление, зонд соединяют с металлизацией на обратной стороне сапфировой подложки короткой золотой полоской. Индуктивность зонда составляет приблизительно 0,7 нГн, что в ряде случаев может оказаться нежелательным. Кроме того, использование зондов на линиях с волновым сопротивлением 50 Ом для подачи постоянных напряжений смещения приводит к попаданию СВЧ сигнала в эти линии и возникновению паразитных связей. По этой причине часто необходимо размещать на пластине с зондами фильтры питания, включая блокировочные конденсаторы, и учитывать паразитные связи между зондами.
Недостатак таких зондов заключается в болышой паразитной индуктивности и повышенном излучении на конце зонда, что совместно с изменением паразитных связей при прижиме сапфировой подложки к кристаллу (изменяется положение гибких наконечников) ограничивает их применение на частотах выше 4 ГГц.
Снизить паразитную индуктивность зонда можно, уменьшив длину его наконечника или, другими словами, подведя 50-Ом линию передачи как можно ближе к кристаллу. Для этой цели используют постепенно сужающуюся микрополосковую линию с соответственно уменьшающейся толщиной подложки (волновое сопротивление сохраняется постоянным). Наклоняя подложку с МПЛ, можно обеспечить соединение полоски и заземляющей плоскости непосредетвенно с контактными площадками кристалла (расположенными обычно на расстоянии 100 мкм). На контактных площадках размещают золотые шарики (диаметром 25 мкм), увеличивающие площадь касания и компенсирующие угол между зондом и контактными площадками. Геометрические размеры полоска таких зондов определяются методами фотолитографии и отличаются воспроизводимостью характеристик.
Рис.13. Система высокочастотных зондов на основе микрополосковых линий.
Применение копланарных волноводов, в которых сигнальный полосок и заземляющие плоскости расположены в одной плоскости и в которых можно получить волновое сопротивлением 50 Ом при размерах, соизмеримых с контактными площадками, облегчает изготовлеиие СВЧ зондов. Как и в случае зондов на MПJI, для улучшения контакта применяются золотые шарики (рис.14).
Рис.14. Зонды на основе копланарных волноводов, присоединенные к
дискретному транзистору.
Контактные площадки (включая необходимое число площадок, связанных с заземляющей плоскостью) должны располагаться рядами так, чтобы обеспечить применение нескольких зондов. Обычно используют два параллельных ряда площадок на противоположных сторонах кристалла со стандартными расстояниями между площадками. Возможно размещение на диэлектрических подложках зондов пассивных и активных элементов, увеличивающих возможности измерительного оборудования. Для повышения достоверности результатов проводят калибровку измерительного тракта с учетом потерь и отражений в наконечнике зондов.