Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
EMIP.Ivanov / EMIP_2_2011_part_06_Ив.ppt
Скачиваний:
53
Добавлен:
06.06.2015
Размер:
2.86 Mб
Скачать

Экспериментальные методы исследования плазмы. Часть 2.

Лекция 5. Спектроскопия линейчатого излучения

Ч. 2

И.А.Иванов - 2010

Уширение спектральных линий

Механизмы уширения:

естественная ширина линий

эффект Доплера (влияние температуры плазмы) – уширение контура линии

эффект Штарка (влияние плотности плазмы) – уширение контура линии

эффект Зеемана (влияние магнитного поля) – расщепление компонентов линии

турбулентный эффект Штарка (влияние турбулентных полей и волн в плазме)

Штарковское расщепление линий

Эффект Штарка: сдвиг атомных уровней в электрическом поле, создаваемом плазмой

F - поле, M - дипольный момент излучающей частицы

M 0 - линейный по F эффект Штарка

Физический смысл: при появлении поля нарушается симметрия электронных оболочек

M 0 - квадратичный по F эффект Штарка

Физический смысл: при появлении поля из-за поляризуемости у атома возникает дипольный момент

Классический эффект Штарка: расщепление компонентов линии (все излучающие частицы находятся в одинаковом электрическом поле)

Эффект Штарка в плазме: уширение контура линии (каждая из излучающих частиц находится в электрическом поле, создаваемом случайно всей совокупностью частиц)

Расщепление линии H (n=3 n=2):

n=3: l ={0,1,2}, степень вырождения 9 5 подуровней n=2: l ={0,1}, степень вырождения 4 3 подуровня

(для +m и –m сдвиг энергии уровня одинаков)

правила отбора дают всего 15 компонент, из них 8 -компонент и 7 -компонент

Статическое приближение

Статическое приближение: за время жизни возбуждённой частицы электрическое микрополе, в котором она находится, существенным образом не изменяется.

пусть i f (E), а E распределено статистически с вероятностью W (E,)

т.е. каждый атом «видит» своё значение электрического поля и излучает соответствующим

образом смещённую линию: I E ( ) I ( f (E))

 

 

 

 

 

 

 

 

Производим усреднение по ансамблю:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

d E

d( ) I W ( f

1

d( f 1( ))

I ( ) I

 

( ) W (E) d E I ( f (E)) W (E) d( )

 

( ))

d( )

Для линейного эффекта Штарка: i f (E) C2 E

 

f 1 ( ) / C2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I ( )

I

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

W

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C2

 

C2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Для идеальной плазмы с Nr 3 » 1 распределение является функцией Хольцмарка

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

dE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

W (E)dE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

линейный эффект

 

4 H

E0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E0

 

 

 

 

 

 

 

~ E ~ n2 / 3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

характерный масштаб поля

 

 

 

 

 

 

 

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

квадратичный эффект

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E0 ~

~ e ne2/ 3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

~ E2 ~ ne4 / 3

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

rav

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ударное приближение

Ударное приближение: время высвечивания много больше, чем время существенного изменения электрического поля в результате столкновений.

Пусть νopt-1 – время жизни частицы в возбуждённом состоянии. Удар при

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

opt

vTe

 

 

В поле E уровни расщепляются на

 

 

 

 

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h s

 

 

 

 

 

(an – боровский радиус)

~ e an

E ~ e an

2

 

 

ve

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Частота перехода

~ s

 

оценим νopt:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

opt

 

 

e2a

2

 

 

 

 

 

 

2

 

2

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

2

 

 

4

opt ~ ne ve opt ~ ne ve opt ~ ne ve

 

 

n

~ ne ve

 

 

n

 

 

~ ne 2

 

n

 

 

 

 

 

 

 

ve

 

 

 

 

 

 

 

ve

 

 

mve

 

 

 

 

 

m

 

 

Условие применимости ударного приближения:

 

 

 

 

 

 

 

главное квантовое число

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

n2 3

ne

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

opt

vTe

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

vTe

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Контур линии описывается дисперсионной кривой

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

o

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I / I

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

opt2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I I0 ( 0 )2 opt2 ,

 

s 2 opt

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- 8

 

- 4

0

4

 

8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

( ) / o p t

 

 

 

 

 

Ударное приближение - 2

Ударное приближение хорошо выполняется при высокой температуре и низкой плотности.

для электронов: слабое, выполняется почти всегда,

для ионов: сильное, выполняется редко

Для частот столкновений, много больших времени высвечивания, результирующий профиль линии

2

W (E)

 

I I0 opt ( 0 E)2 opt2

dE

Вдали от центра линии

I ~ W (E)

opt

т.е. работает квазистатическое приближение (теория Хольцмарка), вблизи центра дополнительно ударные поля от электронов.

линия H : в отличие от H не имеет центрального

(несмещённого) компонента. Часто используется как индикатор сильного электрического поля в плазме.

Использование эффекта Штарка

ДФС-24

ФЭУ-84

 

П

10

З

С

 

Основные параметры

линейная дисперсия 0.45 нм/мм относительное отверстие 1:5,3

коллектор: ЭОП-ПЗС:

0.08 нм/кан.

0.01 нм/пиксел

10 каналов

кадр 1-300 мкс

Сгусток плотной плазмы в установке ГОЛ-3

в плазму инжектируется крупинка твёрдого тела, которая быстро испаряется

Координата

Intensity, a.u.

1

 

 

0

650

Длина волны

n = 1.7·1017 см-3

Te = 4 эВ -эксперимент

- подгонка

660

Доплеровское уширение

 

v- скорость частицы

 

 

 

 

 

 

v

k

 

k v

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

c

 

 

 

 

 

Для максвелловской плазмы контур является гауссовым

1

I

Imax

 

 

 

 

 

 

0.5

 

ШПВ

1

2

 

 

 

 

 

FWHM

 

 

0

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

v

 

 

 

 

 

 

2T

 

J

 

 

 

 

 

 

 

exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

c

 

 

 

c M a

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

M

 

c2 1

 

 

2

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

2T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 ln 2

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

Ti

 

 

 

a

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

c M

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

a

 

 

 

 

 

 

 

 

8ln 2

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

8

 

12

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ma

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ti 1.68 10

 

 

 

 

 

 

[эВ],

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

M

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

H

 

 

0.051

 

 

 

[нм, эВ]

 

Н (656.3 нм)

12

 

Ti

 

 

 

0.038

 

 

 

[нм, эВ] - «плохая» линия (подвержена влиянию электрических полей)

Н (486.1 нм)

12

T

 

 

 

i

 

 

Проблемы, требующие аккуратного решения:

• Выбор правильной линии (по возможности резонансной), для горячей плазмы – многозарядные ионы примесей, рентгеновский диапазон

Точный учёт аппаратной функции спектрального прибора

Возможно направленное движение плазмы (вращение вокруг оси) – сдвиг контура линии

Турбулентность приводит к разной «температуре» для разных сортов ионов

Вклад электрического поля – проверка по паре линий одного сорта ионов (напр., H и H )

Измерение ионной температуры

ДФС-24

ФЭУ-84

 

CC

10

D

вакуумная камера

холодная периферия

горячий центр

ГОЛ-3

Deuterium energy, eV

0 150 300 450 600 750 900

10

 

Shot 4700

 

D , t = 220 µs

 

Maxwell, 0.85 keV

intensity, a.u.

1

0.1

 

0.01

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

0.05

0.1

0.15

0.2

0.25

0.3

0.35

0.4

0.45

 

 

 

 

2, nm2

 

 

 

 

Комбинированный контур линии

ГОЛ-3

Для плотной плазмы с горячим центром и холодной периферией можно разделить доплеровское уширение и штарковское расщепление

I, a.u.1000

 

 

 

 

 

100

 

 

 

 

 

10

 

 

 

 

 

1

655.6

656.0

656.4

656.8

 

I, a.u.

 

λ,

nm

 

 

1000

 

 

 

 

 

100

 

 

 

 

 

10 0

0.1

0.2

0.3

0.4

0.5

 

 

2, nm 2

 

 

горячая плазма холодная плазма

штарковский контур для 1015 см-3

горячая плазма доплеровский контур для 500 эВ

Крылья линии - доплеровское уширение, центр -штарковское уширение

Соседние файлы в папке EMIP.Ivanov