Технология СБИС / sbis / s_kontr / metal / metal_1

ВОПРОС loc=""+location; inv=loc.indexOf("?")+1; for (var i=inv+2; i44) { msk=Math.pow(2,rnc); p_str=".htm?"+typ+"+"+tch+"+"+msk+"+"+prav; location="../t_iz/t_iz_"+rnc+p_str } else location="metal_"+rnc+p_str } else { if (tch>4) { location="../end"+p_str } else location="metal_"+rnc+p_str } } Чему равна оптимальная скорость роста пленки при металлизации с использованием источников электронно-лучевого испарения?

Варианты ответов: 0.1 мкм/мин

0.5 мкм/мин

1 мкм/мин

Выберите номер правильного ответа 1 2 3